JP2010102969A - Transmission device for illumination light communication system - Google Patents

Transmission device for illumination light communication system Download PDF

Info

Publication number
JP2010102969A
JP2010102969A JP2008273625A JP2008273625A JP2010102969A JP 2010102969 A JP2010102969 A JP 2010102969A JP 2008273625 A JP2008273625 A JP 2008273625A JP 2008273625 A JP2008273625 A JP 2008273625A JP 2010102969 A JP2010102969 A JP 2010102969A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
electrode
organic
light source
light emitting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008273625A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kyoko Yamamoto
恭子 山本
Yoshinobu Ono
善伸 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2008273625A priority Critical patent/JP2010102969A/en
Publication of JP2010102969A publication Critical patent/JP2010102969A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new illumination light communication system having a high performance as illumination and a fast communication speed, and a transmission device suitably applicable for this illumination light communication system. <P>SOLUTION: This is the transmission device for illumination light communication system having an illumination light source which emits modulation light modulated based on transmission data. The illumination light source has a substrate 51 having light transmission property and an organic electroluminescent element 26 which is installed in contact with the substrate. The organic electroluminescent element has a first electrode 52 which has light transmission property and is arranged in contact with the substrate, a second electrode 58, and a luminous layer 56 which is installed between the first electrode and the second electrode. When the refractive index of the first electrode is made n1 and the refractive index of the substrate is made n2, the absolute value of (n2-n1) is smaller than 0.4 (provided that, n1≤1.8). <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、照明光を利用してデータを伝送する照明光通信システムおよびこの照明光通信用システムに好適に適用可能な送信装置に関する。   The present invention relates to an illumination light communication system that transmits data using illumination light and a transmitter that can be suitably applied to the illumination light communication system.

高速通信技術の進展とともに、光を伝送媒体として用いた屋内無線通信技術が利用されるようになってきた。特に、伝送媒体として赤外線を用いたLAN(Local Area Network)が、オフィスや家庭に普及してきている。   With the progress of high-speed communication technology, indoor wireless communication technology using light as a transmission medium has come to be used. In particular, LAN (Local Area Network) using infrared rays as a transmission medium has become widespread in offices and homes.

しかしながら、赤外線を用いた無線データ通信では、送信装置と受信装置との間に存在する遮蔽物によって通信に支障が生じるという問題がある。また、信号電力が小さいため、データ通信、すなわち信号の送受信が不安定になり易いという問題がある。   However, in wireless data communication using infrared rays, there is a problem that communication is hindered by a shielding object present between the transmission device and the reception device. Further, since the signal power is small, there is a problem that data communication, that is, signal transmission / reception tends to become unstable.

前述した赤外線通信にかかる問題を解決する通信方式として、照明用光源からの光をデータの伝送媒体に用いた通信方式(以下、照明光通信という場合がある)が考えられている。照明用光源としては、化合物半導体系の白色発光ダイオード(以下、白色LED(LED:Light Emitting Diode)という場合がある)が用いられている。
白色LEDを用いた照明は、蛍光灯といった従来の照明と比較して、長寿命、小型、低消費電力といった優れた特長を有している。非特許文献1および特許文献1には、このような白色LEDの特長に着目した照明光通信システムが開示されている。
As a communication method for solving the above-described problems related to infrared communication, a communication method using light from an illumination light source as a data transmission medium (hereinafter sometimes referred to as illumination light communication) is considered. As a light source for illumination, a compound semiconductor-based white light emitting diode (hereinafter sometimes referred to as a white LED (Light Emitting Diode)) is used.
The illumination using the white LED has excellent features such as long life, small size, and low power consumption, as compared with conventional illumination such as a fluorescent lamp. Non-Patent Document 1 and Patent Document 1 disclose an illumination light communication system that pays attention to such features of white LEDs.

「可視光通信に適した変調方式の実験的検討」(信学技報IEICE Technical Report OCS2005-19(2005-5)第43〜48頁 社団法人 電子情報通信学会)"Experimental study of modulation method suitable for visible light communication" (IEICE Technical Report OCS2005-19 (2005-5), pp. 43-48) 特開2003−318836号公報JP 2003-318836 A

照明光通信には、通信に求められる特性と照明に求められる特性とを両立させることが要求される。通信としては高い伝送速度が求められており、照明としては低消費電力が求められており、従ってその光源には、例えば高い応答速度と高い発光効率とが求められている。
前述したように、蛍光灯などの照明と比較すると白色LEDは照明として優れた特徴を有しているが、しかしながら、上記照明光通信に用いられる白色LEDは、例えば半導体レーザと比較するとその応答速度が低い。特に照明に利用される白色LEDには、蛍光体を使用するタイプのものが主に用いられているが、蛍光体を使用するタイプの白色LEDは、蛍光体不使用のものと比較すると応答速度が低い。従って白色LEDを用いた従来の照明光通信では、伝送速度が必ずしも十分とはいえない。
そこで発光効率と応答速度との両方を勘案したときに、照明光通信用の光源として、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子という場合がある)を用いることを本出願人は考案し、これにさらに検討を加えた。有機EL素子は一対の電極とこれら一対の電極間に配置される発光層とを有している。一対の電極のうちの一方の電極には、光透過性を示す電極(以下、光透過性電極という場合がある。)が用いられており、この光透過性電極から光が取出される。このような光透過性電極としては、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)などの金属酸化物からなる薄膜、および不規則な網目状に配置された導電性物質を備える網目状導電体などが用いられている。有機EL素子は、通常、光透過性を示す基板(以下、光透過性基板という場合がある)に設けられるが、光透過性電極と光透過性基板との界面において有機EL素子からの出射光が反射されることがある。これにより有機EL素子の光取り出し効率が低下するので、有機EL素子の発光効率は照明という観点からすると必ずしも十分とはいえない。
In illumination light communication, it is required to satisfy both the characteristics required for communication and the characteristics required for illumination. High communication speed is required for communication, and low power consumption is required for illumination. Therefore, for example, a high response speed and high luminous efficiency are required for the light source.
As described above, white LEDs have superior characteristics as illumination when compared with illumination such as fluorescent lamps. However, white LEDs used for illumination light communication have a response speed when compared with, for example, a semiconductor laser. Is low. In particular, white LEDs that are used for illumination are mainly those that use phosphors, but white LEDs that use phosphors are faster than those that do not use phosphors. Is low. Therefore, in conventional illumination light communication using white LEDs, the transmission speed is not always sufficient.
Therefore, when considering both the luminous efficiency and the response speed, the present applicant devised that an organic electroluminescence element (hereinafter sometimes referred to as an organic EL element) is used as a light source for illumination light communication. Further examination was added to. The organic EL element has a pair of electrodes and a light emitting layer disposed between the pair of electrodes. As one electrode of the pair of electrodes, an electrode exhibiting optical transparency (hereinafter sometimes referred to as an optically transparent electrode) is used, and light is extracted from the optically transparent electrode. As such a light transmissive electrode, for example, a thin film made of a metal oxide such as indium tin oxide (ITO), and a mesh-like conductive material including a conductive substance arranged in an irregular mesh shape. The body is used. The organic EL element is usually provided on a light-transmitting substrate (hereinafter sometimes referred to as a light-transmitting substrate), but light emitted from the organic EL element at the interface between the light-transmitting electrode and the light-transmitting substrate. May be reflected. As a result, the light extraction efficiency of the organic EL element is lowered. Therefore, the light emission efficiency of the organic EL element is not necessarily sufficient from the viewpoint of illumination.

そこで、本発明の目的は、伝送速度が速く、かつ発光効率が高い新規な照明光通信システムおよびこの照明光通信用システムに好適に適用可能な送信装置を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel illumination light communication system having a high transmission rate and high luminous efficiency, and a transmission device that can be suitably applied to this illumination light communication system.

前述した課題を解決するために、本発明では、下記の構成を採用した。
〔1〕 送信データに基づいて変調された変調光を出射する照明用光源を備える送信装置であって、前記照明用光源は、光透過性を示す基板と、該基板に接して設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子とを備え、該有機エレクトロルミネッセンス素子は、光透過性を示すとともに前記基板に接して配置される第1電極と、第2電極と、前記第1電極および前記第2電極の間に設けられた発光層とを含み、前記第1電極の屈折率をn1、前記基板の屈折率をn2とすると、n1、およびn2がそれぞれ次式(1)

Figure 2010102969
を満たす、照明光通信システム用の送信装置。
〔2〕 前記第1電極の可視光領域の光の透過率が80%以上、体積抵抗率が1Ω・cm以下、表面粗さが100nm以下である、〔1〕に記載の送信装置。
〔3〕 前記照明用光源は、それぞれの発光面積が10−8cmから10−1cmである複数の前記有機エレクトロルミネッセンス素子を備える、〔1〕または〔2〕に記載の送信装置。
〔4〕 前記照明用光源が、前記変調光を出射する通信用の有機エレクトロルミネッセンス素子と、非変調光を出射する照明用の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える〔1〕から〔3〕のいずれかに記載の送信装置。
〔5〕 前記通信用の有機エレクトロルミネッセンス素子の前記発光層が、蛍光を発光する発光材料を用いて形成され、かつ前記照明用の有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層が、リン光を発光する発光材料を用いて形成されてなる〔4〕に記載の送信装置。
〔6〕 前記第1電極が、光透過性の膜本体、および該膜本体中に配置され、導電性を有するワイヤ状導電体を含む、〔1〕から〔5〕のいずれかに記載の送信装置。
〔7〕 前記ワイヤ状導電体の径が200nm以下である、〔6〕に記載の送信装置。
〔8〕 前記ワイヤ状導電体が前記膜本体中において網目構造を構成している、〔7〕に記載の送信装置。
〔9〕 前記膜本体が導電性を有する樹脂を含んでいる、〔6〕から〔8〕のいずれかに記載の送信装置。
〔10〕 前記第1電極が塗布法により形成されてなる、〔1〕から〔9〕のいずれかに記載の送信装置。
〔11〕 変調光を出射する照明用光源を備える〔1〕から〔10〕のいずれかに記載の送信装置と、前記照明用光源から出射された前記変調光を受光して電気信号に変換し、該電気信号を復調して受信データを生成する受信装置とを具備する、照明光通信システム。 In order to solve the above-described problems, the present invention employs the following configuration.
[1] A transmission device including an illumination light source that emits modulated light modulated based on transmission data, wherein the illumination light source includes a substrate exhibiting optical transparency and an organic electrometer provided in contact with the substrate. The organic electroluminescence element is provided between the first electrode, the second electrode, the first electrode, and the second electrode that are light-transmitting and disposed in contact with the substrate. Where the refractive index of the first electrode is n1 and the refractive index of the substrate is n2, each of n1 and n2 is represented by the following formula (1):
Figure 2010102969
The transmission apparatus for illumination light communication systems which satisfy | fills.
[2] The transmission device according to [1], wherein the first electrode has a light transmittance of 80% or more, a volume resistivity of 1 Ω · cm or less, and a surface roughness of 100 nm or less.
[3] The transmission device according to [1] or [2], wherein the illumination light source includes a plurality of the organic electroluminescence elements each having a light emission area of 10 −8 cm 2 to 10 −1 cm 2 .
[4] Any one of [1] to [3], wherein the illumination light source includes an organic electroluminescence element for communication that emits the modulated light and an organic electroluminescence element for illumination that emits non-modulated light. The transmitting device according to 1.
[5] A light emitting material in which the light emitting layer of the organic electroluminescence element for communication is formed using a light emitting material that emits fluorescence, and the light emitting layer of the organic electroluminescence element for illumination emits phosphorescence [4] The transmitter according to [4].
[6] The transmission according to any one of [1] to [5], wherein the first electrode includes a light-transmitting film main body, and a wire-shaped conductor disposed in the film main body and having conductivity. apparatus.
[7] The transmission device according to [6], wherein the wire-like conductor has a diameter of 200 nm or less.
[8] The transmission device according to [7], wherein the wire-like conductor forms a network structure in the film main body.
[9] The transmission device according to any one of [6] to [8], wherein the film body includes a conductive resin.
[10] The transmission device according to any one of [1] to [9], wherein the first electrode is formed by a coating method.
[11] The transmitter according to any one of [1] to [10] including an illumination light source that emits modulated light; and the modulated light emitted from the illumination light source is received and converted into an electrical signal. An illumination light communication system comprising: a receiving device that demodulates the electrical signal and generates reception data.

本発明の照明光通信システムにおいては、照明用光源として、高速応答性を特長とする有機EL素子を用いることにより、従来の白色LEDを用いる場合と比較して、伝送速度を顕著に高めることができる。また照明用光源が備える有機EL素子は、光透過性の第1電極が光透過性を示す基板に接して設けられるので、有機EL素子から出射される光は、第1電極、基板を通って外に取り出される。第1電極と基板とは前述の式(1)に示される光学的な条件を満たすため、第1電極と基板との界面における反射を効果的に抑制することができる。したがって有機EL素子の光取り出し効率をさらに向上させることができ、ひいては発光効率が高い照明用光源を実現することができる。これによって伝送速度が速く、かつ発光効率が高い新規な照明光通信システムおよびこの照明光通信用システムに好適に適用可能な送信装置を提供することができる。   In the illumination light communication system of the present invention, by using an organic EL element characterized by high-speed response as an illumination light source, the transmission speed can be significantly increased as compared with the case of using a conventional white LED. it can. In addition, the organic EL element included in the illumination light source is provided so that the light transmissive first electrode is in contact with the light transmissive substrate, so that the light emitted from the organic EL element passes through the first electrode and the substrate. It is taken out. Since the first electrode and the substrate satisfy the optical condition represented by the above-described formula (1), reflection at the interface between the first electrode and the substrate can be effectively suppressed. Therefore, the light extraction efficiency of the organic EL element can be further improved, and as a result, an illumination light source with high light emission efficiency can be realized. As a result, it is possible to provide a novel illumination light communication system having a high transmission rate and high luminous efficiency, and a transmission device that can be suitably applied to the illumination light communication system.

以下、図を参照して、本発明の実施形態につき説明する。なお、各図は、発明が理解できる程度に、構成要素の形状、大きさおよび配置が概略的に示されているに過ぎない。本発明は以下の記述によって限定されるものではなく、各構成要素は本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。なお、以下の説明に用いる各図において、同様の構成要素については同一の符号を付して示し、重複する説明を省略する場合がある。また、有機EL素子を備える装置においては電極のリード線等の部材も存在するが、本発明の説明にあっては直接的に要しないため記載を省略している。層構造等の説明の便宜上、下記に示す例においては基板を下に配置した図と共に説明がなされるが、本発明の有機EL素子およびこれを搭載した有機EL装置は、必ずしもこの配置で、製造または使用等がなされるわけではない。なお以下の説明において基板の厚み方向の一方を上または上方といい、厚み方向の他方を下または下方という場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, each figure has shown only the shape of the component, the magnitude | size, and arrangement | positioning to such an extent that an invention can be understood. The present invention is not limited to the following description, and each component can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. In each drawing used for the following description, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description may be omitted. Further, in a device including an organic EL element, there are members such as electrode lead wires. However, in the description of the present invention, description thereof is omitted because it is not required directly. For the convenience of explanation of the layer structure and the like, in the example shown below, the explanation is made with the figure in which the substrate is arranged below. However, the organic EL element of the present invention and the organic EL device equipped with the same are necessarily manufactured in this arrangement. Or use etc. are not made. In the following description, one of the substrate in the thickness direction may be referred to as “up” or “up”, and the other in the thickness direction may be referred to as “down” or “down”.

〈照明光通信システムの構成例(1)〉
図1を参照して、本発明の照明光通信システムの構成例につき説明する。図1は、照明通信システムの構成を概略的に説明するブロック図である。
<Configuration example of illumination light communication system (1)>
With reference to FIG. 1, it demonstrates per structural example of the illumination light communication system of this invention. FIG. 1 is a block diagram schematically illustrating a configuration of an illumination communication system.

図1に示すように、照明通信システム10は、送信装置20と受信装置30とを備えている。送信装置20は、照明用光源22を備えている。照明用光源22は、送信されるべき送信データに基づいて変調された変調光を出射する。変調光とは、点滅制御された光または光量制御された光をいい、変調方式としては、アナログ変調方式(AM、FMなど)、デジタル変調方式、パルス変調方式、およびスペクトラム拡散方式などが用いられる。   As illustrated in FIG. 1, the illumination communication system 10 includes a transmission device 20 and a reception device 30. The transmission device 20 includes an illumination light source 22. The illumination light source 22 emits modulated light modulated based on transmission data to be transmitted. The modulated light means light that is controlled to blink or light whose amount is controlled, and analog modulation methods (AM, FM, etc.), digital modulation methods, pulse modulation methods, and spread spectrum methods are used as modulation methods. .

送信装置20は、有機EL素子26を備え、また該有機EL素子26に接続され、かつ当該有機EL素子26の動作を制御する制御回路28をさらに備える。以下有機EL素子26と制御回路28とを含む構成を発光ユニット24という。図示例は、照明用光源22が、1つの発光ユニット24からなる例である。制御回路28と有機EL素子26とは電気的に接続されている。   The transmission device 20 includes an organic EL element 26, and further includes a control circuit 28 that is connected to the organic EL element 26 and controls the operation of the organic EL element 26. Hereinafter, a configuration including the organic EL element 26 and the control circuit 28 is referred to as a light emitting unit 24. The illustrated example is an example in which the illumination light source 22 includes one light emitting unit 24. The control circuit 28 and the organic EL element 26 are electrically connected.

有機EL素子26は、照明光のみ、または照明光および信号光の双方を生成して出射する。有機EL素子26および制御回路28の具体的な構成については後述する。   The organic EL element 26 generates and emits only illumination light or both illumination light and signal light. Specific configurations of the organic EL element 26 and the control circuit 28 will be described later.

受信装置30は、受光部32と復調部34とを備える。受信装置30は、照明用光源22から出射された変調光を受光して、受信データを生成する。   The receiving device 30 includes a light receiving unit 32 and a demodulation unit 34. The receiving device 30 receives the modulated light emitted from the illumination light source 22 and generates reception data.

受光部32は、図示しない光電変換装置を内蔵しており、受光した変調光を電気信号に変換する。復調部34は、受光部32によって光電変換された電気信号から、元のデータ(送信データ)を復調して受信データを生成する。   The light receiving unit 32 incorporates a photoelectric conversion device (not shown) and converts the received modulated light into an electrical signal. The demodulator 34 demodulates the original data (transmission data) from the electrical signal photoelectrically converted by the light receiver 32 to generate reception data.

送信装置20がデータを送信する場合には、送信すべきデータ、すなわち送信データが制御回路28に供給される。送信データの供給を受けた制御回路28は、供給されたデータに基づいて有機EL素子26の動作を制御する。   When the transmission device 20 transmits data, data to be transmitted, that is, transmission data is supplied to the control circuit 28. Upon receiving the transmission data, the control circuit 28 controls the operation of the organic EL element 26 based on the supplied data.

こうして、送信データに対応して変調された変調光が有機EL素子26、すなわち発光ユニット24から出射される。前述したように有機EL素子26を高速に点滅させたり、その光量を高速に変化させたりしても、視覚的には感知されないので、通信用に使用したとしても有機EL素子26はほぼ一定の光量で光っているように見える。したがって、有機EL素子26から出射された変調光は、人に違和感を与えることなく、そのまま照明光としても利用することができる。   Thus, the modulated light modulated in accordance with the transmission data is emitted from the organic EL element 26, that is, the light emitting unit 24. As described above, even if the organic EL element 26 is blinked at high speed or its light amount is changed at high speed, it is not visually sensed. Therefore, even when used for communication, the organic EL element 26 is substantially constant. Looks like it's glowing with light. Therefore, the modulated light emitted from the organic EL element 26 can be used as illumination light as it is without giving a sense of incongruity to a person.

〈照明光通信システムの構成例(2)〉
図2および図3を参照して、本発明の照明光通信システムの他の構成例につき説明する。
<Configuration example of illumination light communication system (2)>
With reference to FIG. 2 and FIG. 3, another configuration example of the illumination light communication system of the present invention will be described.

1Gbps程度以上の大容量の伝送を行なうためには、送信装置20において多数の発光ユニット24を二次元的に配列し、これらを互いに並列的に動作させればよい。このような並列システムを従来のLEDを用いて実現するためには、多数のLEDを二次元的に配列し、分割器との配線接続を行なう必要があり、システムとして大型にならざるを得なかった。   In order to perform transmission with a large capacity of about 1 Gbps or more, a large number of light emitting units 24 may be two-dimensionally arranged in the transmission device 20 and operated in parallel with each other. In order to realize such a parallel system using conventional LEDs, it is necessary to arrange a large number of LEDs two-dimensionally and to perform wiring connection with a divider, and the system must be large. It was.

白色LEDに代えて有機EL素子を用いると、完成した個々の発光ユニット24を配線ボード上に後付けして配列するのではなく、例えば制御回路28が形成されたTFT(Thin Film Transistor)基板上に複数の有機EL素子26を直接的に作りこむことができ、発光ユニット24を二次元的に配置された集積デバイスを基板上に最初から製造できる。したがって分割器などの他の素子を加えても非常にコンパクトな送信装置20を実現できる。   When an organic EL element is used instead of the white LED, the completed individual light emitting units 24 are not retrofitted on the wiring board but arranged, for example, on a TFT (Thin Film Transistor) substrate on which the control circuit 28 is formed. A plurality of organic EL elements 26 can be directly formed, and an integrated device in which the light emitting units 24 are two-dimensionally arranged can be manufactured on the substrate from the beginning. Therefore, a very compact transmitter 20 can be realized even if other elements such as a divider are added.

図2および図3は、本発明の照明通信システムの構成例を概略的に説明するブロック図である。   2 and 3 are block diagrams schematically illustrating a configuration example of the illumination communication system of the present invention.

図2に示すように、この照明光通信システム10は、図1を参照して既に説明した構成を基本として、有機EL素子26および制御回路28からなる発光ユニット24並びに受光部32の組を複数組備えている。送信装置20の照明用光源22において、複数の発光ユニット24は、二次元的に配置されている。また、制御回路28は、直列/並列変換回路29をさらに含み、受信装置30は、レンズ36と並列/直列変換回路38とをさらに含んでいる。   As shown in FIG. 2, the illumination light communication system 10 has a plurality of sets of light emitting units 24 and light receiving units 32 each including an organic EL element 26 and a control circuit 28 based on the configuration already described with reference to FIG. Has a set. In the illumination light source 22 of the transmission device 20, the plurality of light emitting units 24 are two-dimensionally arranged. The control circuit 28 further includes a serial / parallel conversion circuit 29, and the reception device 30 further includes a lens 36 and a parallel / serial conversion circuit 38.

なお、図示例の送信装置20および受信装置30において、直列/並列変換回路29を制御回路28に組み込む構成としたが、直列/並列変換回路29を、制御回路28の外部に設ける構成とすることもできる。この場合、直列/並列変換回路29から生成されるパラレル信号に基づいて、制御回路28が各有機EL素子26を制御してもよい。   In the transmitting device 20 and the receiving device 30 in the illustrated example, the serial / parallel conversion circuit 29 is incorporated in the control circuit 28. However, the serial / parallel conversion circuit 29 is provided outside the control circuit 28. You can also. In this case, the control circuit 28 may control each organic EL element 26 based on the parallel signal generated from the serial / parallel conversion circuit 29.

送信装置20の直列/並列変換回路29は、送信データであるシリアルデータを複数のパラレルデータに分割し、分割されたパラレルデータを個々の有機EL素子26にそれぞれに供給する。この送信装置20の直列/並列変換回路29の動作を含めた制御回路28の制御によって、各有機EL素子26は、各々に与えられるパラレルデータに基づいて、変調された変調光を出射する。出射された変調光は、レンズ36によって空間的に分離され、対応する各受光部32の光電変換装置において光電変換され、さらに変換された電子信号は図示しないA/Dコンバータによってデジタル化され、受信装置30の並列/直列変換回路38によってシリアルデータに変換される。復調部34は、このシリアルデータを復調することにより受信データを生成して出力する。   The serial / parallel conversion circuit 29 of the transmission device 20 divides serial data, which is transmission data, into a plurality of parallel data, and supplies the divided parallel data to the individual organic EL elements 26. Under the control of the control circuit 28 including the operation of the serial / parallel conversion circuit 29 of the transmission device 20, each organic EL element 26 emits modulated light modulated based on the parallel data given thereto. The emitted modulated light is spatially separated by the lens 36, photoelectrically converted by the photoelectric conversion device of each corresponding light receiving unit 32, and the converted electronic signal is digitized by an A / D converter (not shown) and received. The data is converted into serial data by the parallel / serial conversion circuit 38 of the device 30. The demodulator 34 demodulates the serial data to generate and output received data.

このように、複数の有機EL素子26を並列的に駆動することによって、大容量のデータを高速で伝送することができる。   In this way, by driving the plurality of organic EL elements 26 in parallel, a large amount of data can be transmitted at high speed.

図2に示した送信装置20において、有機EL素子26の制御(変調制御を含む)は、外部駆動回路としてのドライバICを用いて行ってもよい。図2に示した送信装置20においては、複数の有機EL素子26を単一の制御回路28で動作制御している。   In the transmission device 20 shown in FIG. 2, the control (including modulation control) of the organic EL element 26 may be performed using a driver IC as an external drive circuit. In the transmission device 20 shown in FIG. 2, the operation of a plurality of organic EL elements 26 is controlled by a single control circuit 28.

図3に示すように、複数の有機EL素子26それぞれを個別に制御する複数の制御回路28を、各有機EL26素子に対応させて接続する構成とすることもできる。この場合には、照明用光源22は、1つの有機EL素子26および1つの制御回路28を1組として一体的に形成した発光ユニット24を複数組備える。なお、複数の有機EL素子26を1つの構成単位とする素子群に、各有機EL素子26をグループ分けしたときに、同じ素子群に含まれる複数の有機EL素子26と該有機EL素子26に接続される制御回路28とからなる発光ユニット24群を、サブ光源23という場合がある。後述するように、サブ光源23ごとに発光を制御することにより、各有機EL素子26を素子群ごとに駆動することができる。このように1つの素子群に含まれる複数の有機EL素子26を単位として駆動することにより、素子群単位としての光強度(信号強度)が大きくなるので、例えばノイズの多い環境で使用する場合や各有機EL素子26の光量が少ない場合であっても、正確に信号を伝送することができ、エラービットレートの小さい照明用光通信システムを実現することができる。   As shown in FIG. 3, a plurality of control circuits 28 that individually control each of the plurality of organic EL elements 26 may be connected to correspond to each organic EL 26 element. In this case, the illumination light source 22 includes a plurality of sets of light emitting units 24 that are integrally formed with one organic EL element 26 and one control circuit 28. In addition, when each organic EL element 26 is grouped into an element group including a plurality of organic EL elements 26 as one structural unit, the plurality of organic EL elements 26 and the organic EL element 26 included in the same element group The group of light emitting units 24 including the control circuit 28 to be connected may be referred to as a sub light source 23. As described later, by controlling light emission for each sub light source 23, each organic EL element 26 can be driven for each element group. By driving the plurality of organic EL elements 26 included in one element group as a unit in this way, the light intensity (signal intensity) as the element group unit increases, so that, for example, when used in a noisy environment, Even when the amount of light of each organic EL element 26 is small, it is possible to accurately transmit a signal and to realize an illumination optical communication system with a low error bit rate.

有機EL素子26と一体的に作り込まれる制御回路28の構成要素の一例としていわゆる薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)を用いることができる。薄膜トランジスタとしては、ポリシリコントランジスタ、アモルファスシリコントランジスタ、有機半導体材料を用いた有機トランジスタ等が知られている。こうした薄膜トランジスタから構成される制御回路28と有機EL素子26とを一体的に形成することで、送信装置20の一層の小型化が可能になる。   A so-called thin film transistor (TFT) can be used as an example of a component of the control circuit 28 that is integrally formed with the organic EL element 26. As the thin film transistor, a polysilicon transistor, an amorphous silicon transistor, an organic transistor using an organic semiconductor material, and the like are known. By forming the control circuit 28 composed of such thin film transistors and the organic EL element 26 integrally, the transmitter 20 can be further reduced in size.

次に、図4を参照して、前述した照明光通信システム10の送信装置20の構成例として、いわゆるアクティブマトリクス型として構成された照明用光源22について説明する。   Next, an illumination light source 22 configured as a so-called active matrix type will be described as a configuration example of the transmission device 20 of the illumination light communication system 10 described above with reference to FIG.

アクティブマトリクス型とは、有機EL素子26および制御回路28を一体的に構成した発光ユニット24をマトリクス状に配列し、複数の有機EL素子26それぞれの駆動制御を有機EL素子26の近傍にそれぞれ作り込まれた制御回路28によって行うタイプをいう。   In the active matrix type, the light emitting units 24 integrally configured with the organic EL elements 26 and the control circuit 28 are arranged in a matrix, and drive control of each of the plurality of organic EL elements 26 is made in the vicinity of the organic EL elements 26. This is the type performed by the embedded control circuit 28.

有機EL素子26を用いてアクティブマトリクス型の照明用光源22を構成した場合には、有機EL素子の駆動方法は、電流プログラム方式および電圧プログラム方式の二種類に大別される。「電流プログラム方式」とは、データ線に対するデータの供給を電流レベルで行う方式をいい、「電圧プログラム方式」とは、データ線に対するデータの供給を電圧レベルで行う方法をいう。   When the active matrix type illumination light source 22 is configured using the organic EL element 26, the driving method of the organic EL element is roughly divided into two types, a current program method and a voltage program method. The “current programming method” refers to a method of supplying data to the data line at a current level, and the “voltage programming method” refers to a method of supplying data to the data line at a voltage level.

図4は、本発明のアクティブマトリクス型の照明用光源を用いた照明光通信システムの概略的な説明図である。   FIG. 4 is a schematic explanatory diagram of an illumination light communication system using the active matrix illumination light source of the present invention.

送信装置20が備える照明用光源22は、前述したように例えばTFTを構成要素とする制御回路28により有機EL素子26を駆動する、いわゆるアクティブマトリクス型の装置である。   The illumination light source 22 included in the transmission device 20 is a so-called active matrix device in which the organic EL element 26 is driven by the control circuit 28 including, for example, a TFT, as described above.

この照明用光源22には、m×n(記号「m」、「n」はそれぞれ自然数を表す)個の発光ユニット24が平面上においてm行n列のマトリクス状に配列される。すなわち格子縞の交点上に各発光ユニット24がそれぞれ配置される。   In this illumination light source 22, m × n (symbols “m” and “n” represent natural numbers respectively) light emitting units 24 are arranged in a matrix of m rows and n columns on a plane. That is, each light emitting unit 24 is arranged on the intersection of the lattice stripes.

照明用光源22は、それぞれが図4において行方向に延在するとともに、互いに列方向に間隔をあけて配置されるn本の走査線Yからなる走査線群Y1〜Ynを有する。   The illumination light source 22 has scanning line groups Y1 to Yn each consisting of n scanning lines Y extending in the row direction in FIG. 4 and spaced from each other in the column direction.

また、照明用光源22は、列方向に延在するとともに、互いに行方向に間隔をあけて配置されるm本のデータ線Xからなるデータ線群X1〜Xmを有する。走査線群Y1〜Ynとデータ線群X1〜Xmとは、基板の厚み方向の一方から見て、格子縞を形成している。   In addition, the illumination light source 22 includes data line groups X1 to Xm including m data lines X that extend in the column direction and are spaced from each other in the row direction. The scanning line groups Y1 to Yn and the data line groups X1 to Xm form lattice fringes when viewed from one side in the thickness direction of the substrate.

基板の厚み方向の一方からみて、走査線Yとデータ線Xとにより形成される格子縞の複数の交点近傍には、画素領域59が設けられており、各画素領域59に1つの発光ユニット24が配置されている。換言すると、複数の発光ユニット24が、画素領域59ごとにマトリクス状に配置されている。   When viewed from one side in the thickness direction of the substrate, a pixel region 59 is provided in the vicinity of a plurality of intersections of the lattice stripes formed by the scanning lines Y and the data lines X, and one light emitting unit 24 is provided in each pixel region 59. Has been placed. In other words, the plurality of light emitting units 24 are arranged in a matrix for each pixel region 59.

図4においては、それぞれの有機EL素子26に対して所定の電圧Vdd,Vssを供給する電源線等が省略されている。   In FIG. 4, power supply lines for supplying predetermined voltages Vdd and Vss to the respective organic EL elements 26 are omitted.

図5および図6を参照して、発光ユニット24が備える制御回路28の好適な構成例につき説明する。   A preferred configuration example of the control circuit 28 provided in the light emitting unit 24 will be described with reference to FIGS.

図5は電流プログラム方式における発光ユニット24が備える制御回路28を示す回路図である。図6は電圧プログラム方式における発光ユニット24が備える制御回路28を示す回路図である。   FIG. 5 is a circuit diagram showing the control circuit 28 provided in the light emitting unit 24 in the current program system. FIG. 6 is a circuit diagram showing the control circuit 28 provided in the light emitting unit 24 in the voltage program system.

図5および図6に示すように、発光ユニット24は、有機EL素子26と、この有機EL素子26を除く回路部分である制御回路28とを備えている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the light emitting unit 24 includes an organic EL element 26 and a control circuit 28 that is a circuit portion excluding the organic EL element 26.

〈電流プログラム方式〉
図5に示すように、制御回路28は、4つのトランジスタT1、T2、T3およびT4、送信データを保持するデータ保持手段であるキャパシタC、電源電圧(供給手段)Vdd、基準電圧(供給手段)Vss並びにこれらを互いに接続する信号線を含んでいる。
<Current programming method>
As shown in FIG. 5, the control circuit 28 includes four transistors T1, T2, T3 and T4, a capacitor C which is data holding means for holding transmission data, a power supply voltage (supply means) Vdd, and a reference voltage (supply means). Vss as well as signal lines connecting them together are included.

図5では、トランジスタT1、T2、およびT4をnチャネル型トランジスタとし、トランジスタT3をpチャネル型トランジスタとした例を示してある。   FIG. 5 shows an example in which the transistors T1, T2, and T4 are n-channel transistors and the transistor T3 is a p-channel transistor.

トランジスタT1のゲート電極は、走査信号SELが供給される所定の1本の走査線Yに電気的に接続されている。トランジスタT1のソース電極は、データ電流Idataが供給される所定の1本のデータ線Xに電気的に接続されている。トランジスタT1のドレイン電極は、トランジスタT2のソース電極に電気的に接続されている。   The gate electrode of the transistor T1 is electrically connected to a predetermined scanning line Y to which the scanning signal SEL is supplied. The source electrode of the transistor T1 is electrically connected to a predetermined data line X to which the data current Idata is supplied. The drain electrode of the transistor T1 is electrically connected to the source electrode of the transistor T2.

トランジスタT1のドレイン電極およびトランジスタT2のソース電極は、プログラミングトランジスタであるトランジスタT3のドレイン電極およびトランジスタT4のドレイン電極に電気的に共通接続されている。   The drain electrode of the transistor T1 and the source electrode of the transistor T2 are electrically connected in common to the drain electrode of the transistor T3, which is a programming transistor, and the drain electrode of the transistor T4.

トランジスタT2のゲート電極は、トランジスタT1のゲート電極と同じく、走査信号SELが供給される走査線Yに電気的に共通接続されている。トランジスタT2のドレイン電極は、キャパシタCの一方の電極と、トランジスタT3のゲート電極とに電気的に共通接続されている。   Similarly to the gate electrode of the transistor T1, the gate electrode of the transistor T2 is electrically connected in common to the scanning line Y to which the scanning signal SEL is supplied. The drain electrode of the transistor T2 is electrically connected in common to one electrode of the capacitor C and the gate electrode of the transistor T3.

キャパシタCの他方の電極には電源電圧Vddが印加される。また、トランジスタT3のソース電極には、電源電圧Vddが印加される。キャパシタCの他方の電極とトランジスタT3のソース電極とには、電源電圧Vddが印加されている。   A power supply voltage Vdd is applied to the other electrode of the capacitor C. The power supply voltage Vdd is applied to the source electrode of the transistor T3. A power supply voltage Vdd is applied to the other electrode of the capacitor C and the source electrode of the transistor T3.

トランジスタT4のゲート電極には駆動信号GPが入力される。トランジスタT4のドレイン電極には有機EL素子26のアノード(陽極)が電気的に接続されている。また、有機EL素子26のカソード(陰極)には、電源電圧Vddよりも低電圧である基準電圧Vssが印加されている。   The drive signal GP is input to the gate electrode of the transistor T4. The anode (anode) of the organic EL element 26 is electrically connected to the drain electrode of the transistor T4. A reference voltage Vss that is lower than the power supply voltage Vdd is applied to the cathode (cathode) of the organic EL element 26.

〈電圧プログラム方式〉
電圧プログラム方式についても、送信装置の全体的な構成については既に説明した通りである。しかしながら、この場合には、データ電圧(信号)Vdataをデータ線Xにそのまま出力するため、データ線Xに電気的に接続されているデータ線駆動回路44(図4)の可変電流源が不要になる。ここでは、いわゆるCC(Conductance Control)法と称される構成例につき説明する。
<Voltage programming method>
Regarding the voltage programming method, the overall configuration of the transmission apparatus is as described above. However, in this case, since the data voltage (signal) Vdata is output to the data line X as it is, the variable current source of the data line driving circuit 44 (FIG. 4) electrically connected to the data line X becomes unnecessary. Become. Here, a configuration example called a so-called CC (Conductance Control) method will be described.

図6に示すように、発光ユニット24は、有機EL素子26、トランジスタT1、T4およびT5、データ保持手段であるキャパシタC、電源電圧(供給手段)Vdd、基準電圧(供給手段)Vss並びにこれらを互いに接続する信号線を含んでいる。図6にはトランジスタT1、T4およびT5を、すべてnチャネル型とした例を示してある。   As shown in FIG. 6, the light emitting unit 24 includes an organic EL element 26, transistors T1, T4 and T5, a capacitor C as data holding means, a power supply voltage (supply means) Vdd, a reference voltage (supply means) Vss, and these. Signal lines connected to each other are included. FIG. 6 shows an example in which all of the transistors T1, T4 and T5 are n-channel type.

いわゆるスイッチングトランジスタであるトランジスタT1のゲート電極は、走査信号SELを供給する所定の走査線Yに電気的に接続されている。トランジスタT1のドレイン電極は、データ電圧(信号)Vdataを供給する所定のデータ線Xに電気的に接続されている。トランジスタT1のソース電極は、データ保持手段であるキャパシタCの一方の電極に電気的に接続されている。   The gate electrode of the transistor T1, which is a so-called switching transistor, is electrically connected to a predetermined scanning line Y that supplies the scanning signal SEL. The drain electrode of the transistor T1 is electrically connected to a predetermined data line X that supplies a data voltage (signal) Vdata. The source electrode of the transistor T1 is electrically connected to one electrode of the capacitor C which is data holding means.

トランジスタT1のソース電極とキャパシタCの一方の電極とは、いわゆる駆動トランジスタであるトランジスタT4のゲート電極に、電気的に共通接続されている。   The source electrode of the transistor T1 and one electrode of the capacitor C are electrically connected in common to the gate electrode of the transistor T4 that is a so-called driving transistor.

キャパシタCの他方の電極には基準電位Vssが印加されている。また、トランジスタT4のドレイン電極には電源電圧Vddが印加されている。トランジスタT4のソース電極は、いわゆる制御トランジスタであるトランジスタT5のドレイン電極に電気的に接続されている。   A reference potential Vss is applied to the other electrode of the capacitor C. The power supply voltage Vdd is applied to the drain electrode of the transistor T4. The source electrode of the transistor T4 is electrically connected to the drain electrode of the transistor T5, which is a so-called control transistor.

トランジスタT5には、駆動信号GPが入力される。トランジスタT5は、駆動信号GPによって導通制御される。トランジスタT5のソース電極は、有機EL素子26のアノードに電気的に接続されている。この有機EL素子26のカソードには、基準電圧Vssが印加されている。   The drive signal GP is input to the transistor T5. The conduction of the transistor T5 is controlled by the drive signal GP. The source electrode of the transistor T5 is electrically connected to the anode of the organic EL element 26. A reference voltage Vss is applied to the cathode of the organic EL element 26.

前述した構成例では、データを保持する回路要素、すなわちデータ保持手段の好適例として、キャパシタを用いる例を説明したが、キャパシタの代わりに、多ビットのデータを記憶可能なメモリ装置(SRAM等)を用いることもできる。   In the configuration example described above, an example in which a capacitor is used as a circuit element that holds data, that is, a preferred example of data holding means has been described. However, a memory device (SRAM or the like) that can store multi-bit data instead of the capacitor. Can also be used.

図7を参照して、図5および図6を参照して説明した発光ユニット24の動作につき説明する。図7は、発光ユニット24の動作タイミングチャートである。   The operation of the light emitting unit 24 described with reference to FIGS. 5 and 6 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is an operation timing chart of the light emitting unit 24.

ここで、走査線駆動回路42(図4)による走査線Y1から走査線Ynの線順次走査によって、所定の発光ユニット24の選択が開始されるタイミングをt0とする。また、発光ユニット24の選択が次に開始されるタイミングをt2とする。期間t0〜t2は、前半のプログラミング期間t0〜t1と、後半の駆動期間t1〜t2とに分けられる。   Here, the timing at which selection of a predetermined light emitting unit 24 is started by the line sequential scanning from the scanning line Y1 to the scanning line Yn by the scanning line driving circuit 42 (FIG. 4) is assumed to be t0. The timing when the selection of the light emitting unit 24 is started next is t2. The period t0 to t2 is divided into a first programming period t0 to t1 and a second driving period t1 to t2.

〈電流プログラム方式(図5に示した回路構成)における動作〉
前半のプログラミング期間t0〜t1では、キャパシタCに対する送信データの書き込みが行われる。まず、タイミングt0において、走査信号SELが走査線Yに入力される。これにより、走査線Yが高レベル(以下、Hレベルという場合がある)に立ち上がる。スイッチング素子として機能するトランジスタT1およびT2が共にオン(導通)する。すると、データ線XとトランジスタT3のドレイン電極とが電気的に接続される。これにより、トランジスタT3は、自己のゲート電極と自己のドレイン電極とが電気的に接続されたダイオード接続となる。
<Operation in current programming method (circuit configuration shown in FIG. 5)>
In the first programming period t0 to t1, transmission data is written to the capacitor C. First, the scanning signal SEL is input to the scanning line Y at timing t0. As a result, the scanning line Y rises to a high level (hereinafter sometimes referred to as H level). Transistors T1 and T2 functioning as switching elements are both turned on (conductive). Then, the data line X and the drain electrode of the transistor T3 are electrically connected. As a result, the transistor T3 has a diode connection in which its own gate electrode and its own drain electrode are electrically connected.

トランジスタT3は、データ線Xより供給されたデータ電流Idataを自己のチャネルに流す。これにより、データ電流Idataに応じた電圧がゲート電圧Vgとして発生する。トランジスタT3のゲート電極に接続されたキャパシタCには、発生したゲート電圧Vgに応じた電荷が蓄積される。これにより、キャパシタCには、蓄積された電荷量に相当するデータ(送信データ)が書き込まれる。   The transistor T3 allows the data current Idata supplied from the data line X to flow through its own channel. As a result, a voltage corresponding to the data current Idata is generated as the gate voltage Vg. Charges corresponding to the generated gate voltage Vg are accumulated in the capacitor C connected to the gate electrode of the transistor T3. As a result, data (transmission data) corresponding to the accumulated charge amount is written into the capacitor C.

プログラミング期間t0〜t1において、トランジスタT3は、自己のチャネルを流れるデータ信号に基づいて、キャパシタCに対するデータの書き込みを行うプログラミングトランジスタとして機能する。また、この期間中、駆動信号GPが低レベル(以下、Lレベルという場合がある)に維持されているため、トランジスタT4はオフ(非導通)のままである。したがって、有機EL素子26に対する駆動電流の経路はトランジスタT4により遮断される。よって、有機EL素子26は発光しない。   In the programming period t0 to t1, the transistor T3 functions as a programming transistor for writing data to the capacitor C based on a data signal flowing through its own channel. Further, during this period, the drive signal GP is maintained at a low level (hereinafter sometimes referred to as L level), so that the transistor T4 remains off (non-conducting). Therefore, the path of the drive current for the organic EL element 26 is blocked by the transistor T4. Therefore, the organic EL element 26 does not emit light.

続く駆動期間t1〜t2では、駆動電流が有機EL素子26を流れ、有機EL素子26の輝度の設定が行われる。まず、タイミングt1において、走査信号SELがLレベルに立ち下がり、トランジスタT1およびT2がいずれもオフする。これにより、データ電流Idataが供給されるデータ線XとトランジスタT3のドレイン電極とが電気的に分離され、トランジスタT3のゲート電極とドレイン電極との間も電気的に分離される。
トランジスタT3のゲート電極には、キャパシタCの蓄積電荷に応じたゲート電圧Vgが印加され続ける。タイミングt1における走査信号SELの立ち下がりと同期(同一タイミングであるとは限らない)して、それ以前はLレベルだった駆動信号GPがHレベルに立ち上がる。
In the subsequent driving period t1 to t2, the driving current flows through the organic EL element 26, and the luminance of the organic EL element 26 is set. First, at timing t1, the scanning signal SEL falls to the L level, and both the transistors T1 and T2 are turned off. As a result, the data line X to which the data current Idata is supplied and the drain electrode of the transistor T3 are electrically isolated, and the gate electrode and the drain electrode of the transistor T3 are also electrically isolated.
The gate voltage Vg corresponding to the accumulated charge of the capacitor C is continuously applied to the gate electrode of the transistor T3. In synchronization with the fall of the scanning signal SEL at the timing t1 (not necessarily at the same timing), the drive signal GP that was at the L level before that rises to the H level.

これにより、電源電圧Vddから基準電圧Vssに向かって、トランジスタT3およびT4と有機EL素子26とに連なる駆動電流の経路が形成される。有機EL素子26を流れる駆動電流は、トランジスタT3のチャネル電流に相当し、その電流レベルは、キャパシタCの蓄積電荷に基づくゲート電圧Vgによって制御される。   As a result, a drive current path is formed from the power supply voltage Vdd to the reference voltage Vss, which is connected to the transistors T3 and T4 and the organic EL element 26. The drive current flowing through the organic EL element 26 corresponds to the channel current of the transistor T3, and the current level is controlled by the gate voltage Vg based on the accumulated charge in the capacitor C.

駆動期間t1〜t2において、トランジスタT3は、有機EL素子26に駆動電流を供給する駆動トランジスタとして機能する。結果として、有機EL素子26は、この駆動電流に応じて、換言すれば、キャパシタCに保持されたデータに基づいて変調された発光強度で発光する。   In the driving period t1 to t2, the transistor T3 functions as a driving transistor that supplies a driving current to the organic EL element 26. As a result, the organic EL element 26 emits light with the light emission intensity modulated based on the data held in the capacitor C, in other words, according to the drive current.

〈電圧プログラム方式(図6に示した回路構成)における動作〉
まず、タイミングt0において、所定の走査線Yに、走査線信号SELが入力される。すると、走査線Yは、Hレベルに立ち上がり、トランジスタT1がオンする。よって、データ線Xに供給されたデータ電圧Vdataが、トランジスタT1を介して、キャパシタCの一方の電極に印加される。
<Operation in Voltage Program Method (Circuit Configuration shown in FIG. 6)>
First, the scanning line signal SEL is input to the predetermined scanning line Y at the timing t0. Then, the scanning line Y rises to H level and the transistor T1 is turned on. Therefore, the data voltage Vdata supplied to the data line X is applied to one electrode of the capacitor C through the transistor T1.

これにより、データ電圧Vdata相当の電荷がキャパシタCに蓄積される(送信データが書き込まれる。)。なお、タイミングt0からタイミングt1までの期間において、駆動信号GPはLレベルに維持される。よって、制御トランジスタT5はオフのままである。したがって、有機EL素子26に対する駆動電流の電流経路が遮断されるため、前半の期間t0〜t1において、有機EL素子26は発光しない。   As a result, a charge corresponding to the data voltage Vdata is accumulated in the capacitor C (transmission data is written). In the period from timing t0 to timing t1, the driving signal GP is maintained at the L level. Therefore, the control transistor T5 remains off. Accordingly, the current path of the drive current with respect to the organic EL element 26 is cut off, so that the organic EL element 26 does not emit light in the first half period t0 to t1.

前半の期間t0〜t1に続く後半の期間t1〜t2では、キャパシタCに蓄積された電荷に応じた駆動電流が有機EL素子26を流れる。これにより、有機EL素子26が発光する。タイミングt1では、走査信号SELがLレベルに立ち下がる。   In the second half period t1 to t2 following the first half period t0 to t1, the drive current corresponding to the electric charge accumulated in the capacitor C flows through the organic EL element 26. Thereby, the organic EL element 26 emits light. At timing t1, the scanning signal SEL falls to the L level.

これにより、トランジスタT1がオフする。よって、キャパシタCの一方の電極に対するデータ電圧Vdataの印加が停止するが、キャパシタCの蓄積電荷によって、トランジスタT4のゲート電極にはゲート電圧Vg相当が印加される。タイミングt1における走査信号SELの立ち下がりと同期して、それ以前はLレベルだった駆動信号GPは、Hレベルに立ち上がる。   Thereby, the transistor T1 is turned off. Therefore, the application of the data voltage Vdata to one electrode of the capacitor C is stopped, but the gate voltage Vg equivalent is applied to the gate electrode of the transistor T4 by the accumulated charge of the capacitor C. In synchronism with the fall of the scanning signal SEL at the timing t1, the drive signal GP, which was previously at the L level, rises to the H level.

これにより、発光ユニット24の選択が開始されるタイミングt2に至るまでHレベルが維持される。よって、駆動電流の電流経路が形成される。これにより、有機EL素子26は、キャパシタCに保持されたデータに基づいて変調された発光強度で発光する。   Thereby, the H level is maintained until the timing t2 when the selection of the light emitting unit 24 is started. Thus, a current path for the drive current is formed. Thereby, the organic EL element 26 emits light with a light emission intensity modulated based on the data held in the capacitor C.

図4を参照して既に説明したように、照明用光源22を駆動するための駆動回路は、走査線駆動回路42とデータ線駆動回路44とによって構成されており、両者は、図示しない上位装置による同期制御下、互いに協働して動作する。   As already described with reference to FIG. 4, the drive circuit for driving the illumination light source 22 includes the scanning line drive circuit 42 and the data line drive circuit 44, both of which are not shown. Operate in cooperation with each other under synchronous control.

走査線駆動回路42は、シフトレジスタ、出力回路等を主体に構成されており、走査線Y1〜Ynに走査信号SELを出力することによって、走査線Y1〜Ynを所定の選択順序で順番に選択する線順次走査を行う。走査信号SELは、HレベルまたはLレベルの2値的な信号レベルをとり、データの書込対象となる行(走査線Yの1ラインに接続される複数の発光ユニット24)に対応する走査線YはHレベルとされ、これ以外の走査線YそれぞれはLレベルとされる。   The scanning line driving circuit 42 is mainly composed of a shift register, an output circuit, etc., and outputs scanning signals SEL to the scanning lines Y1 to Yn, thereby selecting the scanning lines Y1 to Yn in order in a predetermined selection order. Line sequential scanning is performed. The scanning signal SEL has a binary signal level of H level or L level, and the scanning line corresponding to a row (a plurality of light emitting units 24 connected to one line of the scanning line Y) to which data is written. Y is set to the H level, and each of the other scanning lines Y is set to the L level.

そして、1垂直走査期間(1F)において、所定の選択順序で、それぞれの行が順番に選択されていく。なお、走査線駆動回路42は、走査信号SEL以外に、トランジスタを導通制御する駆動信号GP(またはそのベース信号)も出力する。この駆動信号GPによって、駆動期間、すなわち、発光ユニット24に含まれる有機EL素子26の輝度設定を行う期間が設定される。   Then, in one vertical scanning period (1F), each row is sequentially selected in a predetermined selection order. In addition to the scanning signal SEL, the scanning line driving circuit 42 also outputs a driving signal GP (or a base signal thereof) for controlling conduction of the transistor. The drive signal GP sets a drive period, that is, a period for setting the luminance of the organic EL element 26 included in the light emitting unit 24.

データ線駆動回路44は、走査線駆動回路42による線順次走査と同期して、データ線X1〜Xmそれぞれに対するデータ信号の供給を電流ベースで行う。前述した電流プログラム方式の場合には、データ線駆動回路44は、発光ユニット24より出射される変調光の変調度合いを規定するデータ(データ電圧Vdata)をデータ電流Idataへと変換する可変電流源を含む。データ線駆動回路44は、1水平走査期間(1H)において、今回データを書き込む行に対するデータ電流Idataの一斉出力と、次の水平走査期間で書き込みを行う行に関するデータの点順次的なラッチとを同時に行う。   The data line driving circuit 44 supplies data signals to the data lines X1 to Xm on a current basis in synchronization with the line sequential scanning by the scanning line driving circuit 42. In the case of the current programming method described above, the data line driving circuit 44 provides a variable current source that converts data (data voltage Vdata) that defines the modulation degree of the modulated light emitted from the light emitting unit 24 into the data current Idata. Including. In one horizontal scanning period (1H), the data line driving circuit 44 performs simultaneous output of the data current Idata for the row in which the current data is written and dot-sequential latching of data relating to the row in which writing is performed in the next horizontal scanning period. Do it at the same time.

ある水平走査期間において、データ線Xの本数に相当するm個のデータが順次ラッチされる。そして、次の水平走査期間において、ラッチされたm個のデータは、データ電流Idataに変換された上で、それぞれのデータ線X1〜Xmに対して一斉に出力される。   In a certain horizontal scanning period, m pieces of data corresponding to the number of data lines X are sequentially latched. Then, in the next horizontal scanning period, the latched m pieces of data are converted to the data current Idata and then output to the respective data lines X1 to Xm all at once.

図8を参照して、サブ光源23の構成につき説明する。図8は、サブ光源の構成例を説明する照明光通信システムの概略的な説明図である。   The configuration of the sub light source 23 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic explanatory diagram of an illumination light communication system for explaining a configuration example of a sub light source.

送信装置20のサブ光源23は、照明用光源22に含まれる複数の発光ユニット24が複数のグループに区分けされることにより規定される。図示例では、複数の発光ユニット24が4つに区分けされて、第1サブ光源23A、第2サブ光源23B、第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源23D(以下、それぞれサブ光源A、サブ光源B、サブ光源Cおよびサブ光源Dという場合がある)とされている。なお、iおよびjは1以上の任意の正数であり、かつmおよびnは2以上の任意の正数である。第1サブ光源23A、第2サブ光源23B、第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源24Dに含まれる発光ユニット24の数は、互いに同一であっても、互いに異なっていてもよい。また、サブ光源23同士の発光ユニット24の数が同数である場合において、発光ユニット24の配置形態は、サブ光源23単位で同一であっても、異なっていてもよい。また離散的に離れて配置されている発光ユニット24を同一の発光ユニット24に属する発光ユニット24とするグループ分けをしてもよく、このようなグループ分けを行うことにより、たとえサブ光源23単位で明滅などしたとしても、局所的な光量の低下を抑制することができ、照明としての性能の低下を抑えることができる。   The sub light source 23 of the transmission device 20 is defined by dividing a plurality of light emitting units 24 included in the illumination light source 22 into a plurality of groups. In the illustrated example, a plurality of light emitting units 24 are divided into four, and a first sub-light source 23A, a second sub-light source 23B, a third sub-light source 23C, and a fourth sub-light source 23D (hereinafter referred to as sub-light source A and sub-light source, respectively). B, sub-light source C, and sub-light source D). Note that i and j are arbitrary positive numbers of 1 or more, and m and n are arbitrary positive numbers of 2 or more. The number of light emitting units 24 included in the first sub light source 23A, the second sub light source 23B, the third sub light source 23C, and the fourth sub light source 24D may be the same or different from each other. Further, when the number of the light emitting units 24 between the sub light sources 23 is the same, the arrangement of the light emitting units 24 may be the same or different for each sub light source 23 unit. In addition, the light emitting units 24 that are discretely arranged may be grouped into light emitting units 24 belonging to the same light emitting unit 24. By performing such grouping, even in units of sub-light sources 23, it is possible to perform grouping. Even if blinking or the like is performed, a local decrease in the amount of light can be suppressed, and a decrease in performance as illumination can be suppressed.

第1サブ光源23A、第2サブ光源23B、第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源24Dに含まれる発光ユニット24の数を、ここではi=j=4かつm=n=8、すなわち互いに同数である16とした例を説明する。第1サブ光源23A、第2サブ光源23B、第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源23Dそれぞれが含む発光ユニット24は、この例では4×4のマトリクス状に配置されている。   Here, the number of light emitting units 24 included in the first sub light source 23A, the second sub light source 23B, the third sub light source 23C, and the fourth sub light source 24D is i = j = 4 and m = n = 8, that is, the same number. An example of 16 will be described. The light emitting units 24 included in each of the first sub light source 23A, the second sub light source 23B, the third sub light source 23C, and the fourth sub light source 23D are arranged in a 4 × 4 matrix in this example.

第1サブ光源23Aおよび第2サブ光源23Bの発光ユニット24は、走査線Y1〜Yj(Y4)(走査線群Yabという場合がある)に電気的に接続される。また、第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源23Dの発光ユニット24は、走査線Yj+1〜Yn(Y5〜Y8)(走査線群Ycdという場合がある)に電気的に接続される。   The light emitting units 24 of the first sub-light source 23A and the second sub-light source 23B are electrically connected to the scanning lines Y1 to Yj (Y4) (sometimes referred to as a scanning line group Yab). The light emitting units 24 of the third sub light source 23C and the fourth sub light source 23D are electrically connected to the scanning lines Yj + 1 to Yn (Y5 to Y8) (sometimes referred to as a scanning line group Ycd).

また、第1サブ光源23Aおよび第3サブ光源23Cの発光ユニット24は、データ線X1〜Xi(X4)(データ線群Xacという場合がある)に電気的に接続される。また、第2サブ光源23Bおよび第4サブ光源23Dの発光ユニット24は、データ線Xi+1〜Xm(X5〜X8)(データ線群Xbdという場合がある)に電気的に接続される。   The light emitting units 24 of the first sub light source 23A and the third sub light source 23C are electrically connected to data lines X1 to Xi (X4) (sometimes referred to as data line group Xac). The light emitting units 24 of the second sub light source 23B and the fourth sub light source 23D are electrically connected to data lines Xi + 1 to Xm (X5 to X8) (sometimes referred to as data line group Xbd).

次に、図4、図8および図9を参照して、複数のサブ光源にグループ分けされた照明用光源を備える照明光通信システムの動作につき説明する。   Next, with reference to FIG. 4, FIG. 8, and FIG. 9, the operation of the illumination light communication system including illumination light sources grouped into a plurality of sub-light sources will be described.

走査線駆動回路42およびデータ線駆動回路44(図4)は、照明用光源22に設定された第1サブ光源23A、第2サブ光源23B、第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源23Dにおいて、各サブ光源23単位で、複数のサブ光源23を独立的に駆動する。   The scanning line driving circuit 42 and the data line driving circuit 44 (FIG. 4) are provided in the first sub-light source 23A, the second sub-light source 23B, the third sub-light source 23C, and the fourth sub-light source 23D set as the illumination light source 22, respectively. A plurality of sub light sources 23 are independently driven in units of each sub light source 23.

同一のサブ光源23に属する複数の発光ユニット24は、本実施形態では、すべて同一の発光状態になるように制御される。異なるサブ光源23同士については互いに独立的に制御され得る。よって、この場合には、照明用光源22に、4つの独立した伝送チャネルが形成されることになる。   In the present embodiment, the plurality of light emitting units 24 belonging to the same sub light source 23 are all controlled to be in the same light emitting state. Different sub-light sources 23 can be controlled independently of each other. Therefore, in this case, four independent transmission channels are formed in the illumination light source 22.

走査線Y1〜Yj、すなわち走査線群Yabが選択されている状態でデータ線X1〜Xi、すなわちデータ線群Xacに供給されたデータ(すべて同一の電流レベルである)は、第1サブ光源23Aの各発光ユニット24に共通して供給される。   Data (all at the same current level) supplied to the data lines X1 to Xi, that is, the data line group Xac in a state where the scanning lines Y1 to Yj, that is, the scanning line group Yab are selected, are the first sub-light source 23A. Are commonly supplied to the light emitting units 24.

これによって、第1サブ光源23Aの発光状態が制御される。また、この状態でデータ線Xi+1〜Xm、すなわちデータ線群Xbdに供給されたデータは、第2サブ光源23Bの各発光ユニット24に共通に供給される。これによって、第2サブ光源23Bの発光状態が制御される。   Thereby, the light emission state of the first sub-light source 23A is controlled. In this state, the data supplied to the data lines Xi + 1 to Xm, that is, the data line group Xbd, is supplied in common to the light emitting units 24 of the second sub light source 23B. Thereby, the light emission state of the second sub-light source 23B is controlled.

走査線Yj+1〜Yn、すなわち走査線群Ycdが選択されている状態でデータ線X1〜Xi、すなわちデータ線群Xacに供給されたデータは、第3サブ光源23Cの各発光ユニット24に共通に供給される。   Data supplied to the data lines X1 to Xi, that is, the data line group Xac in a state where the scanning lines Yj + 1 to Yn, that is, the scanning line group Ycd are selected, is common to each light emitting unit 24 of the third sub-light source 23C. To be supplied.

これによって、第3サブ光源23Cの発光状態が制御される。また、この状態でデータ線Xi+1〜Xm、すなわちデータ線群Xbdに供給されたデータは、第4サブ光源23Dの各発光ユニット24に共通に供給される。これによって、第4サブ光源23Dの発光状態が制御される。   Thereby, the light emission state of the third sub-light source 23C is controlled. In this state, the data supplied to the data lines Xi + 1 to Xm, that is, the data line group Xbd, is supplied in common to the light emitting units 24 of the fourth sub light source 23D. Thereby, the light emission state of the fourth sub-light source 23D is controlled.

図9は、照明光通信システムの動作を説明するタイミングチャートである。   FIG. 9 is a timing chart for explaining the operation of the illumination light communication system.

図8に示す構成において、最上段に配置されている走査線Y1から最下段に配置されている走査線Ynに向かって、n本の走査線Yが順次選択されていくものとする。   In the configuration shown in FIG. 8, n scanning lines Y are sequentially selected from the scanning line Y1 arranged at the uppermost stage toward the scanning line Yn arranged at the lowermost stage.

この場合には、照明用光源22全体に対して、送信データのデータ書き込みを行うのに要する1フレーム期間t0〜t2は、前半の第1サブ光源23Aおよび第2サブ光源23Bの選択期間t0〜t1と、後半の第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源23Dの選択期間t1〜t2とに分けられる。   In this case, one frame period t0 to t2 required for writing the transmission data to the entire illumination light source 22 is the selection period t0 to the first sub-light source 23A and the second sub-light source 23B in the first half. It is divided into t1 and selection periods t1 to t2 of the third sub-light source 23C and the fourth sub-light source 23D in the latter half.

第1サブ光源23Aおよび第2サブ光源23Bの選択期間t0〜t1は、走査線群Yabに属する走査線Y1の選択が開始されてから走査線Yjの選択が終了するまでの期間に相当する。   The selection periods t0 to t1 of the first sub-light source 23A and the second sub-light source 23B correspond to the period from the start of the selection of the scanning line Y1 belonging to the scanning line group Yab to the end of the selection of the scanning line Yj.

この期間t0〜t1において、データ線群Xacには第1サブ光源23A用の送信データDaが共通して供給され、この送信データDaに応じたレベルにデータ線群Xacが維持される。   During this period t0 to t1, the transmission data Da for the first sub-light source 23A is commonly supplied to the data line group Xac, and the data line group Xac is maintained at a level corresponding to the transmission data Da.

データ線群Xacには、第1サブ光源23Aのみならず第3サブ光源23Cも接続されているが、走査線群Ycdが非選択のため、第3サブ光源23Cは電気的に分離されている。したがって、データ線群Xacに供給された送信データDaは、第1サブ光源23Aにのみ供給され、これに応じた書き込みが第1サブ光源23Aにおいて行われる。   Not only the first sub-light source 23A but also the third sub-light source 23C is connected to the data line group Xac, but the third sub-light source 23C is electrically separated because the scanning line group Ycd is not selected. . Therefore, the transmission data Da supplied to the data line group Xac is supplied only to the first sub-light source 23A, and writing corresponding to this is performed in the first sub-light source 23A.

また、この期間t0〜t1において、データ線群Xbdには第2サブ光源23B用の送信データDbが共通して供給され、この送信データDbに応じたレベルにデータ線群Xbdが維持される。   In this period t0 to t1, the transmission data Db for the second sub light source 23B is commonly supplied to the data line group Xbd, and the data line group Xbd is maintained at a level corresponding to the transmission data Db.

データ線群Xbdには、第2サブ光源23Bのみならず第4サブ光源23Dも接続されているが、走査線群Ycdが非選択のため、第4サブ光源23Dは電気的に分離されている。したがって、データ線群Xbdに供給された送信データDbは、第2サブ光源23Bにのみ供給され、これに応じた書き込みが第2サブ光源23Bにおいて行われる。   Although not only the second sub light source 23B but also the fourth sub light source 23D is connected to the data line group Xbd, the fourth sub light source 23D is electrically separated because the scanning line group Ycd is not selected. . Therefore, the transmission data Db supplied to the data line group Xbd is supplied only to the second sub light source 23B, and writing corresponding to this is performed in the second sub light source 23B.

第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源23Dの選択期間t1〜t2は、走査線群Ycdに属する走査線Yj+1の選択が開始されてから走査線Ynの選択が終了するまでの期間に相当する。この期間t1〜t2において、データ線群Xacには第3サブ光源23C用の送信データDcが共通して供給され、この送信データDcに応じたレベルにデータ線群Xacが維持される。   The selection periods t1 to t2 of the third sub light source 23C and the fourth sub light source 23D correspond to the period from the start of the selection of the scanning line Yj + 1 belonging to the scanning line group Ycd to the end of the selection of the scanning line Yn. To do. During this period t1 to t2, the transmission data Dc for the third sub-light source 23C is commonly supplied to the data line group Xac, and the data line group Xac is maintained at a level corresponding to the transmission data Dc.

ここで、データ線群Xacに接続された第1サブ光源23Aは、走査線群Yabが非選択のため電気的に分離されている。したがって、データ線群Xacに供給された送信データDcは、第3サブ光源23Cにのみ供給され、これに応じた書き込みが第3サブ光源23Cにおいて行われる。   Here, the first sub-light source 23A connected to the data line group Xac is electrically separated because the scanning line group Yab is not selected. Accordingly, the transmission data Dc supplied to the data line group Xac is supplied only to the third sub-light source 23C, and writing according to this is performed in the third sub-light source 23C.

また、期間t1〜t2において、データ線群Xbdには第4サブ光源23D用の送信データDdが共通して供給され、この送信データDdに応じたレベルにデータ線群Xbdが維持される。このとき、データ線群Xbdに接続された第2サブ光源23Bは、走査線群Yabが非選択のため電気的に分離されている。したがって、データ線群Xbdに供給された送信データDdは、第4サブ光源23Dにのみ供給され、これに応じた書き込みが第4サブ光源23Dにおいて行われる。   In the period t1 to t2, the transmission data Dd for the fourth sub light source 23D is commonly supplied to the data line group Xbd, and the data line group Xbd is maintained at a level corresponding to the transmission data Dd. At this time, the second sub light source 23B connected to the data line group Xbd is electrically separated because the scanning line group Yab is not selected. Therefore, the transmission data Dd supplied to the data line group Xbd is supplied only to the fourth sub-light source 23D, and writing according to this is performed in the fourth sub-light source 23D.

なお、図9においては、同一のサブ光源23に対応する走査線群を順次走査するケースを例示したが、駆動回路の駆動能力を十分に確保できることを条件として、サブ光源23ごとに対応する走査線群を同時に一括選択することもできる。   In FIG. 9, the scanning line group corresponding to the same sub light source 23 is sequentially scanned. However, the scanning corresponding to each sub light source 23 is provided on the condition that the drive circuit can have sufficient driving capability. Line groups can be selected simultaneously.

ここで、前述した図5および図6に示すように制御回路28を構成しておけば、電流プログラム方式および電圧プログラム方式のいずれにおいても、第1サブ光源23A、第2サブ光源23B、第3サブ光源23Cおよび第4サブ光源23Dの独立的な駆動を実現することができる。   Here, if the control circuit 28 is configured as shown in FIG. 5 and FIG. 6, the first sub-light source 23A, the second sub-light source 23B, the third sub-light source 23B, the third sub-light source 23B, the third sub-light source 23B. Independent drive of the sub-light source 23C and the fourth sub-light source 23D can be realized.

〈有機EL素子〉
有機EL素子は、自由なサイズ設計が可能、超小型化が可能、高速応答が可能といった優れた特長を有する。有機EL素子を、照明光通信に利用する場合には、個々の素子面積はより小さいものが好適である。個々の素子面積が小さいほど、有機EL素子の静電容量は、小さくなる傾向にあるので、応答速度を規定する素子のRC時定数も同様に小さくなり、ひいては有機EL素子の面積が小さくなるほどその応答速度が速くなるからである。
<Organic EL device>
The organic EL element has excellent features such as free size design, miniaturization, and high-speed response. When the organic EL element is used for illumination light communication, it is preferable that each element area is smaller. Since the capacitance of the organic EL element tends to be smaller as the area of each element is smaller, the RC time constant of the element that defines the response speed is similarly reduced. As a result, the smaller the area of the organic EL element is, the smaller the area is. This is because the response speed increases.

素子面積(発光面積)は、好ましくは10-8cm2以上1cm2以下とするのがよく、より好ましくは10-8cm2以上10-1cm2以下とするのがよく、さらに好ましくは10-8cm2以上10-2cm2以下とするのがよい。 Element area (light emission area) is preferably well to the 10 -8 cm 2 or more 1 cm 2 or less, more preferably better to the 10 -8 cm 2 or more 10 -1 cm 2 or less, more preferably 10 It should be -8 cm 2 or more and 10 -2 cm 2 or less.

従来のLEDでは、半導体基板にLEDを形成した後、半導体基板を分割して個々のチップとし、配線が形成された回路基板にチップを取り付けて使用する。チップにはLEDを回路基板に接続する際に必要となる接続部位が設けられるので、チップの大きさはLEDよりも大きくなる。またLEDのチップとしては、台座および樹脂レンズなどが必要となるため、実際に発光する部分よりも大きな素子となる。さらにそのチップを回路基板に実装するためには、基板側にも接続部位を設ける必要があるので、チップよりも大きい実装面積が必要となり、LED自体が小さいものであったとしても、送信装置の小型化には自ずと限界がある。   In a conventional LED, after an LED is formed on a semiconductor substrate, the semiconductor substrate is divided into individual chips, and the chip is attached to a circuit board on which wiring is formed. Since the chip is provided with a connection portion necessary for connecting the LED to the circuit board, the size of the chip is larger than that of the LED. Moreover, since a base, a resin lens, etc. are needed as a chip | tip of LED, it becomes an element larger than the part which actually light-emits. Furthermore, in order to mount the chip on the circuit board, it is necessary to provide a connection site on the board side, so a larger mounting area than the chip is required, and even if the LED itself is small, There is a limit to downsizing.

これに対して、有機EL素子の場合には、例えば素子の動作を制御する制御回路および配線などが形成された基板上に素子を直接的かつ配線と一体的に形成することができる。すなわち、従来のLEDのようには有機EL素子自体の大きさよりも大きな実装面積を必要とせず、発光ユニットの高集積化が容易であり、送信装置の小型化を実現することができる。そして、基板に作り込まれた有機EL素子をそのまま動作させて利用できるので、設計上の自由度が高く、素子の小型化が比較的容易である。以上のような理由から、有機EL素子は、照明光通信用の発光素子として極めて好適である。   On the other hand, in the case of an organic EL element, for example, the element can be formed directly and integrally with the wiring on the substrate on which the control circuit for controlling the operation of the element and the wiring are formed. That is, unlike the conventional LED, a mounting area larger than the size of the organic EL element itself is not required, the light emitting unit can be easily highly integrated, and the transmission device can be downsized. And since the organic EL element built in the board | substrate can be operated and used as it is, the freedom degree in design is high and size reduction of an element is comparatively easy. For the reasons described above, the organic EL element is extremely suitable as a light emitting element for illumination light communication.

大容量データの高速通信を可能にするためには、複数の発光ユニットからデータを並列的に送信することが好ましく、そのためには、複数の発光ユニットを配列する必要がある。   In order to enable high-speed communication of large-capacity data, it is preferable to transmit data from a plurality of light emitting units in parallel. For this purpose, it is necessary to arrange a plurality of light emitting units.

従来のLEDでは、個々のLEDチップ、または、チップに台座と樹脂レンズとからなる素子を配列する必要があるために、実際に発光する部分よりも大きな面積が必要であった。   In the conventional LED, since it is necessary to arrange individual LED chips or elements composed of a pedestal and a resin lens on the chip, an area larger than a portion that actually emits light is required.

これに対して、有機EL素子では、配線および制御回路などを形成した基板上に素子を直接形成し、素子をそのまま動作させて利用できるので、発光ユニットの高集積化が容易であり、全体として小さな通信向け照明用光源(送信装置)が実現できる。   On the other hand, in the organic EL element, since the element can be directly formed on the substrate on which the wiring and the control circuit are formed and the element is operated as it is, it is easy to highly integrate the light emitting unit. A small communication light source (transmission device) can be realized.

また、従来のLEDの場合には、送信装置における照明用光源の強度変調は、ドライバIC(IC:Integrated Circuit)といった外部制御回路を用いて行う必要があった。そのため、送信装置を構成するユニットの小型化が困難であった。   In the case of a conventional LED, the intensity modulation of the illumination light source in the transmission device has to be performed using an external control circuit such as a driver IC (IC: Integrated Circuit). For this reason, it is difficult to reduce the size of the units constituting the transmission apparatus.

これに対して、有機EL素子の場合には、発光層を含む発光部の近傍に薄膜トランジスタ等の変調素子からなる制御回路を一体的に形成することができる。制御回路と有機EL素子とを、例えば積層して一体化すれば、発光ユニットの小型化が容易である。   On the other hand, in the case of an organic EL element, a control circuit composed of a modulation element such as a thin film transistor can be integrally formed in the vicinity of the light emitting portion including the light emitting layer. If the control circuit and the organic EL element are laminated and integrated, for example, the light emitting unit can be easily downsized.

このように、有機EL素子を用いることにより、発光ユニットのさらなる小型化や集積化が可能であり、有機EL素子と制御回路との積層構造も容易に製造できるので、高速大容量の照明光通信に対応した送信装置の小型化を実現することができる。   Thus, by using the organic EL element, the light emitting unit can be further miniaturized and integrated, and a laminated structure of the organic EL element and the control circuit can be easily manufactured. Downsizing of the transmission device corresponding to the above can be realized.

有機EL素子としては、蛍光発光型(一重項遷移)とリン光発光型(三重項遷移)が知られているが、本実施形態では、どちらを使用してもよい。有機EL素子を小さくし、RC時定数を小さくして応答速度を上げても、発光の減衰時間で規定される速度以上に応答速度を上げることはできない。   As the organic EL element, a fluorescence emission type (singlet transition) and a phosphorescence emission type (triplet transition) are known, but either one may be used in this embodiment. Even if the organic EL element is made small and the RC time constant is reduced to increase the response speed, the response speed cannot be increased beyond the speed defined by the decay time of light emission.

有機EL素子は、その発光のメカニズムによって、蛍光発光(一重項励起状態からの発光)型とリン光発光(三重項励起状態からの発光)型とに分けられる。一般に、蛍光発光型はリン光発光型よりも発光の減衰時間が短く、室温(20℃程度)では蛍光発光型で約10ns程度、リン光発光型で約1μs程度である。したがって、どちらを用いても、素子単体で1Mbps程度の伝送速度までの信号通信に対応可能である。   Organic EL elements are classified into fluorescent emission (emission from a singlet excited state) type and phosphorescent emission (emission from a triplet excited state) type depending on the mechanism of emission. In general, the fluorescence emission type has a shorter emission decay time than the phosphorescence emission type, and is about 10 ns for the fluorescence emission type and about 1 μs for the phosphorescence emission type at room temperature (about 20 ° C.). Therefore, whichever one is used, signal communication up to a transmission rate of about 1 Mbps can be accommodated with a single element.

また、本発明の実施形態において、蛍光発光型の有機EL素子およびリン光発光型の有機EL素子の双方を混載した集積デバイスを照明用光源として用いてもよい。蛍光発光型は、リン光発光型よりも応答速度をより速くできるので、高速な通信用途に適しているといえる。リン光発光型は、蛍光発光型よりも発光効率をより高くできるので、照明用途に適している。   In the embodiment of the present invention, an integrated device in which both a fluorescent light emitting organic EL element and a phosphorescent organic EL element are mounted together may be used as an illumination light source. Since the fluorescence emission type can make the response speed faster than the phosphorescence emission type, it can be said that it is suitable for high-speed communication applications. The phosphorescent light emitting type can be made higher in luminous efficiency than the fluorescent light emitting type, and thus is suitable for lighting applications.

有機EL素子は発光層材料を素子ごとに選択的に分けて形成できる。よって、照明用光源において、例えば照明用の有機EL素子をリン光発光型とし、通信用の有機EL素子を蛍光発光型とするというように、照明用光源が、送信データに基づいて変調された変調光を出射する通信用の有機EL素子と、非変調光を出射する照明用の有機EL素子とを含んで構成されてもよい。   The organic EL element can be formed by selectively dividing the light emitting layer material for each element. Therefore, in the illumination light source, for example, the illumination light source is modulated based on the transmission data such that the illumination organic EL element is a phosphorescent emission type and the communication organic EL element is a fluorescence emission type. A communication organic EL element that emits modulated light and an organic EL element for illumination that emits non-modulated light may be included.

この場合には、蛍光発光型の有機EL素子には、照明機能および通信機能の双方を担わせて、送信すべき送信データに基づいて変調された変調光を出射する通信用の有機EL素子としてこれを用いるのがよい。また、リン光発光型の有機EL素子には、照明機能のみを担わせて、一定の非変調光を出射する照明用の有機EL素子としてこれを用いるのがよい。   In this case, the fluorescent organic EL element has both an illumination function and a communication function, and is used as a communication organic EL element that emits modulated light modulated based on transmission data to be transmitted. It is good to use this. In addition, the phosphorescent organic EL element is preferably used as an organic EL element for illumination that emits a certain amount of non-modulated light while having only an illumination function.

これら照明用の有機EL素子および通信用の有機EL素子は、前述したサブ光源ごとにいずれかの有機EL素子を選択して設ける構成としてもよい。また、単一のサブ光源内に照明用の有機EL素子および通信用の有機EL素子を混在させてもよい。   The organic EL element for illumination and the organic EL element for communication may have a configuration in which any organic EL element is selected and provided for each sub-light source described above. Further, an organic EL element for illumination and an organic EL element for communication may be mixed in a single sub-light source.

これにより、照明効率の向上と通信の高速化とを両立した照明システムが構築できる。ただし、このような構成では、照明からの全光量に対して、通信情報が重畳された光、すなわち信号光の割合が小さくなる。したがって、受信装置として、光の強度変化に敏感なシステムが必要になる。全光量に対する蛍光、すなわち信号光の割合としては、1%以上50%以下であることが望ましい。   Thereby, it is possible to construct an illumination system that achieves both improved illumination efficiency and higher communication speed. However, in such a configuration, the ratio of light on which communication information is superimposed, that is, signal light, is small with respect to the total amount of light from the illumination. Therefore, a system sensitive to a change in light intensity is required as a receiving device. The ratio of fluorescence, ie, signal light, to the total amount of light is preferably 1% or more and 50% or less.

一般照明を用いて照明光通信を行う場合には、照明用光源は白色であることが望ましい。有機EL素子で白色光を得るためには、大きくわけて以下の2つの方法がある。   When performing illumination light communication using general illumination, the illumination light source is preferably white. In order to obtain white light with an organic EL element, there are roughly the following two methods.

一方は、複数の光源から放射される光を重ね合わせることにより、白色光を得る方法である。この方法には、(1)赤色光を発光する有機EL素子(R素子)、緑色光を発光する有機EL素子(G素子)および青色光を発光する有機EL素子(B素子)を基板面内にタイル状に配列させ、これら3つの素子を同時に発光させる方法と、(2)マルチフォトン型の有機EL素子において、互いに異なる発光波長で発光する発光層を備える素子を積層する方法と、(3)マルチフォトン型ではない有機EL素子において、互いに異なる発光波長で発光する複数の発光層を積層する方法とに分けられる。   One is a method of obtaining white light by superimposing light emitted from a plurality of light sources. In this method, (1) an organic EL element that emits red light (R element), an organic EL element that emits green light (G element), and an organic EL element that emits blue light (B element) are disposed within the substrate surface. And (2) a method of laminating elements having light emitting layers that emit light at different emission wavelengths in a multiphoton organic EL element, and (3) The organic EL element which is not a multi-photon type is divided into a method of laminating a plurality of light emitting layers that emit light at different light emission wavelengths.

他方は、発光層自体が白色のスペクトルで発光するものを利用することにより白色発光を得る方法である。   The other is a method of obtaining white light emission by using a light emitting layer that emits light with a white spectrum.

これらの白色光を発光する有機EL素子は、従来の蛍光体を用いた、いわゆる白色LEDのような電流注入による青色発光→蛍光体励起→黄色発光というプロセス非経由で、電流注入直接再結合により白色光を出射する。そのため、従来の蛍光体を用いた白色LEDよりも応答速度がより速いという特長があり、照明光通信システムに好適である。
〈構成例1〉
These organic EL devices that emit white light are obtained by direct recombination of current injection using a conventional phosphor, such as blue light emission by phosphor injection → phosphor excitation → yellow light emission, without using a process such as white LED. White light is emitted. Therefore, there is a feature that the response speed is faster than a white LED using a conventional phosphor, which is suitable for an illumination light communication system.
<Configuration example 1>

図10を参照して、送信装置に好適に適用可能な有機EL素子26の構成例(構成例1)につき説明する。   With reference to FIG. 10, a configuration example (configuration example 1) of the organic EL element 26 that can be suitably applied to the transmission device will be described.

図10は、有機EL素子の概略的な断面図である。構成例1の有機EL素子26は、基板51上に設けられている。ここでは、いわゆるアクティブマトリクス方式の光源として基板51上に形成された1つの有機EL素子26の構成について説明する。   FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of an organic EL element. The organic EL element 26 of Configuration Example 1 is provided on the substrate 51. Here, the configuration of one organic EL element 26 formed on the substrate 51 as a so-called active matrix light source will be described.

基板51には、マトリクス状に複数の画素領域59が設定されている。各画素領域59は、隔壁60により区画されている。隔壁60は、格子状に設けられ、隔壁60により電気的に区分けされる各画素領域51に、各有機EL素子26がそれぞれ配置される。隔壁60は、第1電極52および発光層56の積層構造を有機EL素子26ごとに分離している。
この隔壁60は、後述する第1電極52が形成された基板51上の画素領域59を区画する領域に、例えば感光性レジスト液をスピン塗布し、これを露光および現像することで、感光性樹脂よりなる隔壁60を形成することができる。
On the substrate 51, a plurality of pixel regions 59 are set in a matrix. Each pixel region 59 is partitioned by a partition wall 60. The partition wall 60 is provided in a lattice shape, and each organic EL element 26 is disposed in each pixel region 51 electrically separated by the partition wall 60. The partition wall 60 separates the stacked structure of the first electrode 52 and the light emitting layer 56 for each organic EL element 26.
The partition wall 60 is formed by, for example, spin-coating a photosensitive resist solution on a region that defines a pixel region 59 on the substrate 51 on which the first electrode 52 described later is formed, and exposing and developing the photosensitive resin solution. A partition wall 60 can be formed.

なお、本明細書において、「光」とは、1nmから1mm程度の範囲の波長の電磁波を意味する。「光透過性」とは、前述の「光」から照明光および信号光として使用できることを条件として選択された範囲内に含まれる波長の光が吸収および散乱されることなく透過するか、または入射した照明光および信号光が許容される程度の割合で透過することをいう。照明光および信号光は、好ましくは「可視光」とするのがよい。「可視光」とはヒトの目で感知することができる範囲の波長を有する電磁波をいう。可視光は、一般に短波長側が360nmから400nm程度、長波長側が760nmから830nm程度の波長を有している。本実施形態では、可視光透過率が25%程度以上であれば「光透過性」であるものとする。   In the present specification, “light” means an electromagnetic wave having a wavelength in the range of about 1 nm to 1 mm. “Light transmissive” means that light having a wavelength included in the range selected from the above “light” can be used as illumination light and signal light without being absorbed and scattered, or incident. The transmitted illumination light and signal light are transmitted at an acceptable ratio. The illumination light and the signal light are preferably “visible light”. “Visible light” refers to electromagnetic waves having a wavelength in a range that can be detected by the human eye. Visible light generally has a wavelength of about 360 to 400 nm on the short wavelength side and a wavelength of about 760 to 830 nm on the long wavelength side. In this embodiment, if the visible light transmittance is about 25% or more, the light transmittance is assumed.

基板51に設定された画素領域59上には、有機EL素子26が設けられる。有機EL素子26は、発光層56と、陽極52と発光層56との間に必要に応じて設けられる第1機能層53と、発光層56と陰極58との間に必要に応じて設けられる第2機能層57とから構成されている。基板51上にはこの例では陽極である光透過性の第1電極52(以下、陽極52という場合がある)が配置されている。   On the pixel region 59 set on the substrate 51, the organic EL element 26 is provided. The organic EL element 26 is provided between the light emitting layer 56, the first functional layer 53 provided as needed between the anode 52 and the light emitting layer 56, and between the light emitting layer 56 and the cathode 58 as needed. And a second functional layer 57. On the substrate 51, a light transmissive first electrode 52 (hereinafter sometimes referred to as an anode 52), which is an anode in this example, is disposed.

この陽極52の上には、所望により第1機能層53を挟んで、発光層56が配置される。発光部56の上には、所望により第2機能層57を挟んで、この例では複数の画素領域59にわたって、陰極である第2電極58(陰極58という場合がある)が配置されている。陰極58を保護するために保護層(上部封止膜という場合もある)70が設けられている。   On the anode 52, a light emitting layer 56 is disposed with a first functional layer 53 interposed therebetween as desired. On the light emitting portion 56, a second electrode 58 (which may be referred to as a cathode 58) serving as a cathode is disposed across a plurality of pixel regions 59 in this example with the second functional layer 57 interposed therebetween as desired. A protective layer (sometimes referred to as an upper sealing film) 70 is provided to protect the cathode 58.

なお、本実施形態では、光透過性の第1電極52が陽極であり、第2電極58が陰極であるが、積層順を逆順として、第1電極52が陰極であり、第2電極58が陽極である有機EL素子26を構成してもよい。   In the present embodiment, the light transmissive first electrode 52 is an anode and the second electrode 58 is a cathode, but the first electrode 52 is a cathode and the second electrode 58 is a cathode in the order of stacking. You may comprise the organic EL element 26 which is an anode.

(基板)
基板51は、可視光領域の光の透過率が高く、また有機EL素子を形成する工程において変化しないものが好適に用いられ、リジッド基板でも、フレキシブル基板でもよく、例えばガラス板、プラスチック板、高分子フィルムおよびシリコン板、およびこれらを積層した積層板などが好適に用いられる。また、基板51は、その厚み内に不図示の薄膜トランジスタ、キャパシタ、配線層などを含む前述の制御回路(28)といった構成を含む、いわゆるTFT基板であってもよい。
(substrate)
The substrate 51 has a high light transmittance in the visible light region and does not change in the process of forming the organic EL element. The substrate 51 may be a rigid substrate or a flexible substrate. For example, a glass plate, a plastic plate, A molecular film, a silicon plate, and a laminated plate obtained by laminating these are preferably used. The substrate 51 may be a so-called TFT substrate including a configuration such as the above-described control circuit (28) including a thin film transistor, a capacitor, a wiring layer, and the like (not shown) within its thickness.

なお、基板51としては、例示したもののうち、光透過性の第1電極52との屈折率の差が、0.3未満である屈折率を示すものが適宜用いられる。   As the substrate 51, a substrate 51 having a refractive index that has a refractive index difference of less than 0.3 with respect to the light transmissive first electrode 52 is appropriately used.

(第1電極)
第1電極52は、光透過性である膜本体と、膜本体中に配置され、導電性を有する不図示のワイヤ状導電体とを含んで構成される。光透過性の膜本体は、特に可視光領域の光の透過率が高いものが好適に用いられる。膜本体は、樹脂や無機ポリマー、無機−有機ハイブリッド化合物などを含んで構成される。
(First electrode)
The first electrode 52 includes a light-transmitting film body and a wire conductor (not shown) disposed in the film body and having conductivity. As the light-transmitting film body, one having a particularly high light transmittance in the visible light region is preferably used. The film body includes a resin, an inorganic polymer, an inorganic-organic hybrid compound, and the like.

光透過性の膜本体としては、樹脂の中でも導電性を有する樹脂が好適に用いられる。このようにワイヤ状導電体に加えて、導電性を有する膜本体を用いることによって、第1電極52のさらなる低電気抵抗化(以下、電気抵抗を抵抗という場合がある)を図ることができる。このような低抵抗の第1電極52を用いることによって、第1電極52での電圧降下を抑制し、有機EL素子26の低電圧駆動を実現するとともに、輝度ムラを抑制することができる。   As the light-transmitting film body, a resin having conductivity among the resins is preferably used. Thus, in addition to the wire-like conductor, by using a conductive film body, the first electrode 52 can be further reduced in electrical resistance (hereinafter, the electrical resistance may be referred to as resistance). By using the first electrode 52 having such a low resistance, a voltage drop at the first electrode 52 can be suppressed, low voltage driving of the organic EL element 26 can be realized, and luminance unevenness can be suppressed.

第1電極52の膜厚は、電気抵抗および可視光の透過率などによって適宜設定され、例えば、0.03μmから10μmであり、好ましくは0.05μm〜1μmである。   The film thickness of the first electrode 52 is appropriately set depending on the electrical resistance and the transmittance of visible light, and is, for example, 0.03 μm to 10 μm, and preferably 0.05 μm to 1 μm.

ワイヤ状導電体は、径の小さいものが好ましく、例えば、径が400nm以下のものが用いられ、好ましくは径が200nm以下のものであり、さらに好ましくは径が100nm以下のものである。膜本体に配置されるワイヤ状導電体は、第1電極52を透過する有機EL素子26からの出射光を回折または散乱するので、第1電極52のヘイズ値を高めるとともに出射光の透過率を低下させるが、可視光の波長程度または可視光の波長よりも小さい径のワイヤ状の導電体を用いることによって、出射光、すなわち可視光に対するヘイズ値を低く抑えるとともに、透過率を向上させることができる。また、ワイヤ状導電体の径は、小さすぎると抵抗が大きくなるので、径が10nm以上のものが好ましい。なお、本発明の有機EL素子は照明装置に用いられるため、第1電極52のヘイズ値がある程度大きければ出射光の拡散機能を併せて付与することも可能となるので、第1電極52は、ヘイズ値の大きいものが好適に用いられる場合もある。   The wire-like conductor preferably has a small diameter, for example, a diameter of 400 nm or less is used, preferably a diameter of 200 nm or less, and more preferably a diameter of 100 nm or less. The wire-like conductor disposed in the film body diffracts or scatters the emitted light from the organic EL element 26 that passes through the first electrode 52, so that the haze value of the first electrode 52 is increased and the transmittance of the emitted light is increased. Although using a wire-like conductor having a diameter that is about the wavelength of visible light or smaller than the wavelength of visible light, the haze value for emitted light, that is, visible light can be kept low and the transmittance can be improved. it can. Moreover, since resistance will become large if the diameter of a wire-like conductor is too small, a thing with a diameter of 10 nm or more is preferable. In addition, since the organic EL element of the present invention is used in a lighting device, if the haze value of the first electrode 52 is somewhat large, it is possible to provide a function of diffusing emitted light. A thing with a large haze value may be used suitably.

膜本体中に配置されるワイヤ状導電体は、1本でも、複数本でもよく、膜本体中において、網目状構造を形成していることが好ましい。例えば膜本体中において、1本または複数本のワイヤ状導電体は、膜本体の全体に渡って複雑に絡み合って配置され、網目状構造を形成している。具体的には、1本のワイヤ状導電体が複雑に絡み合ったり、複数本のワイヤ状導電体が互いに接触し合って配置されたりする構造が2次元的または3次元的に広がって網目構造を形成している。ワイヤ状導電体を網目状構造を有するものとして形成することにより、第1電極52の体積抵抗率を下げることができる。   One or a plurality of wire-like conductors arranged in the film main body may be used, and it is preferable that a network structure is formed in the film main body. For example, in the membrane main body, one or a plurality of wire-like conductors are arranged in an intricately intertwined manner over the entire membrane main body to form a network structure. Specifically, a structure in which one wire-like conductor is intertwined in a complicated manner or a plurality of wire-like conductors are arranged in contact with each other spreads two-dimensionally or three-dimensionally to form a network structure. Forming. By forming the wire-like conductor as having a network structure, the volume resistivity of the first electrode 52 can be lowered.

またワイヤ状導電体は、少なくともその一部分が第1電極52の基板51とは反対側の表面寄りに、露出するように配置することが好ましい。このようにワイヤ状導電体を配置することによって、第1電極52の表面部の抵抗を下げることができる。   The wire-like conductor is preferably arranged so that at least a part of the wire-like conductor is exposed near the surface of the first electrode 52 opposite to the substrate 51. By arranging the wire-like conductor in this way, the resistance of the surface portion of the first electrode 52 can be lowered.

ワイヤ状導電体の形状は、例えば曲線状でも、針状でもよい。曲線状および/または針状の導電体が膜本体中で互いに接触し合って網目状構造を形成することによって、体積抵抗率の低い第1電極52を実現することができる。   The shape of the wire-like conductor may be, for example, a curved shape or a needle shape. The curved and / or needle-shaped conductors contact each other in the film body to form a network structure, whereby the first electrode 52 having a low volume resistivity can be realized.

(ワイヤ状導電体の材料)
ワイヤ状導電体の材料としては、例えば、Ag、Au、Cu、Alおよびこれらの合金などの抵抗の低い金属が好適に用いられる。ワイヤ状導電体は、例えばN.R.Jana, L.Gearheart and C.J.Murphyによる方法(Chm.Commun.,2001, p617-p618)や、C.Ducamp-Sanguesa, R.Herrera-Urbina, and M.Figlarz等による方法(J. Solid State Chem.,Vol.100, 1992, p272〜p280)によって製造することができる。
(Wire conductor material)
As a material for the wire-like conductor, for example, a low resistance metal such as Ag, Au, Cu, Al, and alloys thereof is preferably used. For example, the wire conductor is a method by NRJana, L. Gearheart and CJMurphy (Chm. Commun., 2001, p617-p618), a method by C. Ducamp-Sanguesa, R. Herrera-Urbina, and M. Figlarz ( J. Solid State Chem., Vol. 100, 1992, p272-p280).

(第1電極の形成方法)
第1電極52を成膜する方法としては、例えば、前述したワイヤ状導電体を樹脂に練り込むことによって、樹脂に分散させ、この樹脂を塗布する方法、ワイヤ状導電体と、樹脂とを分散媒に分散させた分散液を用いる塗布法によって成膜化する方法、およびワイヤ状導電体を樹脂からなる膜の表面にコーティングし、ワイヤ状導電体を膜中に分散させる方法などを挙げることができる。
(Formation method of the first electrode)
As a method of forming the first electrode 52, for example, the above-described wire-like conductor is kneaded into a resin to disperse the resin, and the resin is applied. The wire-like conductor and the resin are dispersed. Examples include a method of forming a film by a coating method using a dispersion liquid dispersed in a medium, and a method of coating a wire-like conductor on the surface of a film made of resin and dispersing the wire-like conductor in the film. it can.

なお、第1電極52には、必要に応じて界面活性剤や酸化防止剤などの各種添加剤を加えてもよい。樹脂の種類は、屈折率、透光率および電気抵抗などの第1電極52に求められる特性に応じて適宜選ばれる。   In addition, you may add various additives, such as surfactant and antioxidant, to the 1st electrode 52 as needed. The type of resin is appropriately selected according to the characteristics required for the first electrode 52, such as refractive index, light transmittance, and electrical resistance.

また、ワイヤ状導電体を分散させる量は、第1電極52の電気抵抗、ヘイズ値および透光率などに影響するので、第1電極52の特性に応じて適宜設定される。   In addition, the amount of the wire-like conductor dispersed affects the electrical resistance, haze value, translucency, and the like of the first electrode 52, and thus is appropriately set according to the characteristics of the first electrode 52.

本実施形態の第1電極52は、導電性を有するワイヤ状導電体を分散媒に分散させた分散液を、基板51の表面に塗布し、さらにこの塗膜を硬化することによって得られる。   The first electrode 52 of the present embodiment is obtained by applying a dispersion liquid in which a conductive wire-like conductor is dispersed in a dispersion medium to the surface of the substrate 51 and further curing the coating film.

分散液は、ワイヤ状導電体と樹脂とを分散媒に分散させることによって調合される。分散媒としては、たとえば樹脂を溶解させるものであればよく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒を挙げることができる。   The dispersion is prepared by dispersing a wire-like conductor and a resin in a dispersion medium. The dispersion medium may be any material that can dissolve the resin, for example, a chlorine-based solvent such as chloroform, methylene chloride or dichloroethane, an ether-based solvent such as tetrahydrofuran, an aromatic hydrocarbon-based solvent such as toluene or xylene, acetone, or methyl ethyl ketone. And ketone solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and ethyl cellosolve acetate.

また、樹脂としては、透光率の高いものが好ましく、また第1電極52上に設けられる層を塗布法により形成する場合には、第1電極52の一部を構成する樹脂が塗布液に溶解しないものである必要がある。このような樹脂としては例えば、低密度または高密度のポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂;ナイロン−6、ナイロン−6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体;ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂;ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂;ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリルなどのスチレン−アクリロニトリル系樹脂;トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性樹脂;ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶樹脂などのエンジニアリングプラスチック系樹脂などが挙げられる。   In addition, as the resin, a resin having high transmissivity is preferable. When the layer provided on the first electrode 52 is formed by a coating method, the resin constituting a part of the first electrode 52 is used as the coating liquid. It must be insoluble. Examples of such resins include low density or high density polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-hexene copolymer, ethylene-octene copolymer, and ethylene-norbornene copolymer. Polyolefin resins such as ethylene-dmon copolymer, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ionomer resin; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate; Nylon-6, nylon-6,6, metaxylenediamine-adipic acid condensation polymer; amide resin such as polymethylmethacrylamide; acrylic resin such as polymethylmethacrylate; polystyrene, styrene-acrylic Styrene-acrylonitrile resins such as nitrile copolymers, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymers, polyacrylonitrile; hydrophobic cellulose resins such as cellulose triacetate and cellulose diacetate; polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride Halogen-containing resins such as polytetrafluoroethylene; hydrogen-bonding resins such as polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymers and cellulose derivatives; polycarbonate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyetheretherketone resins, polyphenylene Examples thereof include engineering plastic resins such as oxide resins, polymethylene oxide resins, polyarylate resins, and liquid crystal resins.

また第1電極52上に設けられる層を塗布法により形成する場合には、第1電極52の一部を構成する樹脂が塗布液に溶解し難いという観点から、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、フォトレジスト材料が好適に用いられる。   Moreover, when forming the layer provided on the 1st electrode 52 by the apply | coating method, from the viewpoint that the resin which comprises a part of 1st electrode 52 is hard to melt | dissolve in a coating liquid, a thermosetting resin and a photocurable property are used. Resins and photoresist materials are preferably used.

例示した樹脂の中でも、導電性を有する樹脂が好適に用いられ、導電性を有する樹脂としては例えばポリアニリン、ポリチオフェンの誘導体などが挙げられる。   Among the exemplified resins, a resin having conductivity is preferably used, and examples of the resin having conductivity include polyaniline and polythiophene derivatives.

第1電極52の屈折率は、樹脂などによって構成される膜本体の屈折率によって主に決まる。この膜本体の屈折率は、例えば、用いる樹脂の種類によって主に決まるので、用いる樹脂を選択することによって、意図する屈折率を示す第1電極52を容易に形成することができる。   The refractive index of the first electrode 52 is mainly determined by the refractive index of the film body made of resin or the like. The refractive index of the film body is mainly determined by, for example, the type of resin to be used. Therefore, the first electrode 52 having the intended refractive index can be easily formed by selecting the resin to be used.

なお、感光性フォトレジストに用いられる感光性材料および光硬化性モノマーに、ワイヤ状導電体を分散させた分散液を用いれば、塗布法による塗布工程、およびフォトリソグラフィ工程によって所定のパターン形状を有する第1電極52を容易に形成することができる。   In addition, if a dispersion liquid in which a wire-like conductor is dispersed in a photosensitive material and a photocurable monomer used for a photosensitive photoresist, a predetermined pattern shape is obtained by a coating process by a coating method and a photolithography process. The first electrode 52 can be easily formed.

第1電極52としては、有機EL素子26の形成工程において加熱される温度で変形しないものが好ましく、第1電極52を構成する樹脂としては、ガラス転移点Tgが、150℃以上のものが好ましく、180℃以上のものがより好ましく、200℃以上のものがさらに好ましい。このような樹脂としては、例えばガラス転移点Tgが230℃のポリエーテルサルホンや高耐熱性フォトレジスト材料などを挙げることができる。   The first electrode 52 is preferably one that does not deform at the temperature heated in the step of forming the organic EL element 26, and the resin constituting the first electrode 52 preferably has a glass transition point Tg of 150 ° C. or higher. More preferably, 180 ° C or higher, more preferably 200 ° C or higher. Examples of such a resin include polyether sulfone having a glass transition point Tg of 230 ° C. and a high heat resistant photoresist material.

ワイヤ状導電体の分散量、並びに必要に応じて分散液に混入されるバインダーおよび添加剤などは、成膜の容易さ、および第1電極52に求められる特性などの条件に応じて適宜設定および選択することができる。   The dispersion amount of the wire-like conductor, and the binder and additive mixed in the dispersion liquid as necessary are appropriately set according to conditions such as the ease of film formation and the characteristics required for the first electrode 52. You can choose.

ワイヤ状導電体を分散した分散液の塗布方法としては、ディッピング法、バーコータによるコーティング法、スピンコータによるコーティング法、ドクターブレード法、噴霧塗布法、スクリーンメッシュ印刷法、刷毛塗り、吹き付け、ロールコーティング等の工業的に通常用いられている方法を挙げることができる。なお、熱硬化性樹脂および光硬化性樹脂を用いる場合には、分散液を塗布した後に、加熱または光照射によって塗膜を硬化させることができる。   The coating method of the dispersion liquid in which the wire-like conductor is dispersed includes dipping method, coating method by bar coater, coating method by spin coater, doctor blade method, spray coating method, screen mesh printing method, brush coating, spraying, roll coating, etc. The method usually used industrially can be mentioned. In addition, when using a thermosetting resin and a photocurable resin, after apply | coating a dispersion liquid, a coating film can be hardened by a heating or light irradiation.

(発光層)
発光層56は、第1電極52と第2電極58との間に設けられる。発光層56は、複数の層から構成されていてもよく、発光する層を少なくとも1層含んでいればよい。陽極(本実施の形態では第1電極52)と発光層56との間には、必要に応じて所定の1層または複数層からなる第1機能層53が設けられる。また発光層56と陰極(本実施の形態では第2電極58)との間には、必要に応じて所定の1層または複数層からなる第2機能層57が設けられる。
(Light emitting layer)
The light emitting layer 56 is provided between the first electrode 52 and the second electrode 58. The light emitting layer 56 may be composed of a plurality of layers as long as it includes at least one light emitting layer. Between the anode (first electrode 52 in the present embodiment) and the light emitting layer 56, a first functional layer 53 including a predetermined layer or a plurality of layers is provided as necessary. In addition, a second functional layer 57 including a predetermined layer or a plurality of layers is provided between the light emitting layer 56 and the cathode (the second electrode 58 in the present embodiment) as necessary.

(第1機能層)
陽極(第1電極52)と発光層56との間に設けられる第1機能層53としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層等が挙げられる。なお正孔注入層、および/または正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。電子ブロック層は、電子の輸送を堰き止める機能を有する層である。電子ブロック層が電子の輸送を堰き止める機能を有することは、例えば、電子電流のみを流す素子を作製し、その電流値の減少で堰き止める効果を確認することが可能である。
(First functional layer)
Examples of the first functional layer 53 provided between the anode (first electrode 52) and the light emitting layer 56 include a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron block layer. In the case where the hole injection layer and / or the hole transport layer has a function of blocking electron transport, these layers may also serve as the electron blocking layer. The electron blocking layer is a layer having a function of blocking electron transport. The fact that the electron blocking layer has a function of blocking electron transport makes it possible, for example, to produce an element that allows only electron current to flow and confirm the blocking effect by reducing the current value.

(第2機能層)
発光層56と陰極(第2電極58)との間に設けられる第2機能層57としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層等が挙げられる。陰極58と発光層56との間に電子注入層と電子輸送層との両方の層が設けられる場合には、陰極58に接する層を電子注入層といい、この電子注入層を除く層を電子輸送層という。なお電子注入層、および/または電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。正孔ブロック層は、正孔の輸送を堰き止める機能を有する層である。正孔ブロック層が正孔の輸送を堰き止める機能を有することは、例えばホール電流のみを流す素子を作製し、その電流値の減少で堰き止める効果を確認することが可能である。
(Second functional layer)
Examples of the second functional layer 57 provided between the light emitting layer 56 and the cathode (second electrode 58) include an electron injection layer, an electron transport layer, and a hole blocking layer. When both the electron injection layer and the electron transport layer are provided between the cathode 58 and the light emitting layer 56, the layer in contact with the cathode 58 is referred to as an electron injection layer, and the layers other than the electron injection layer are defined as electron injection layers. It is called a transport layer. In the case where the electron injection layer and / or the electron transport layer have a function of blocking hole transport, these layers may also serve as the hole blocking layer. The hole blocking layer is a layer having a function of blocking hole transport. The fact that the hole blocking layer has a function of blocking hole transport makes it possible, for example, to produce an element that allows only a hole current to flow, and confirm the blocking effect by reducing the current value.

本実施形態の有機EL素子26における、陽極52Aから陰極58までの層構成の組み合わせ例を以下に示す。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
c)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
d)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
e)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
f)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
g)陽極/発光層/電子注入層/陰極
h)陽極/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(ここで、記号「/」は、記号「/」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)
In the organic EL element 26 of the present embodiment, a combination example of layer configurations from the anode 52A to the cathode 58 is shown below.
a) Anode / light emitting layer / cathode b) Anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode c) Anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode d) Anode / hole injection layer / hole transport Layer / light emitting layer / cathode e) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode f) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron Injection layer / cathode g) Anode / light-emitting layer / electron injection layer / cathode h) Anode / light-emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode (Here, the symbol “/” indicates each layer sandwiching the symbol “/”) (Indicates that they are stacked adjacently. The same shall apply hereinafter.)

また、本実施の形態の有機EL素子26は、2層以上の発光層56を有していてもよく、2層の発光層56を有する有機EL素子としては、以下のi)に示す層構成を挙げることができる。
i)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/電荷発生層/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
また、3層以上の発光層を有する有機EL素子としては、具体的には、(電荷発生層/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層)を1つの繰り返し単位として、以下のj)に示す繰り返し単位を2つ以上含む層構成を挙げることができる。
j)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/(繰り返し単位)/(繰り返し単位)/・・・/陰極
In addition, the organic EL element 26 of the present embodiment may have two or more light emitting layers 56, and the organic EL element having the two light emitting layers 56 has a layer configuration shown in i) below. Can be mentioned.
i) Anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / charge generation layer / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode Specifically, as an organic EL device having three or more light emitting layers, (charge generation layer / charge injection layer / hole transport layer / light emission layer / electron transport layer / charge injection layer) is one repeating unit. Examples of the layer structure include two or more repeating units shown in j) below.
j) Anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / (repeat unit) / (repeat unit) /... / cathode

上記層構成において、陽極、陰極、発光層以外の各層は必要に応じて非形成とすることができる。   In the above layer configuration, each layer other than the anode, the cathode, and the light emitting layer can be left unformed as necessary.

ここで、電荷発生層とは、電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。電荷発生層としては、例えば酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、酸化モリブデンなどからなる薄膜を挙げることができる。   Here, the charge generation layer is a layer that generates holes and electrons by applying an electric field. Examples of the charge generation layer include a thin film made of vanadium oxide, indium tin oxide (abbreviated as ITO), molybdenum oxide, or the like.

有機EL素子26において、本実施形態のように基板51側に陽極52Aが配置されるのが通常であるが、基板51側に陰極58を配置するようにしてもよい。   In the organic EL element 26, the anode 52A is normally disposed on the substrate 51 side as in the present embodiment, but the cathode 58 may be disposed on the substrate 51 side.

本実施形態の有機EL素子26は、さらに電極との密着性向上や電極からの電荷注入性の改善のために、電極に隣接して膜厚2nm以下の絶縁層を設けてもよい。また界面での密着性向上や混合の防止などのために、前述した各層間に薄いバッファー層を挿入してもよい。   In the organic EL element 26 of the present embodiment, an insulating layer having a thickness of 2 nm or less may be provided adjacent to the electrode in order to improve the adhesion to the electrode and the charge injection property from the electrode. In addition, a thin buffer layer may be inserted between each of the aforementioned layers in order to improve adhesion at the interface or prevent mixing.

以下、各層の構成についてさらに詳細に説明する。
(正孔注入層)
正孔注入層は、陽極(第1電極)52Aからの正孔注入効率を改善する機能を有する層である。正孔注入層を構成する材料としては、公知の材料を適宜用いることができ、特に制限はない。例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、酸化バナジウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。
Hereinafter, the configuration of each layer will be described in more detail.
(Hole injection layer)
The hole injection layer is a layer having a function of improving the hole injection efficiency from the anode (first electrode) 52A. As a material constituting the hole injection layer, a known material can be appropriately used, and there is no particular limitation. For example, phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, hydrazone derivative, carbazole derivative, triazole derivative, imidazole derivative, oxadiazole derivative having amino group, vanadium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide And oxides such as aluminum oxide, amorphous carbon, polyaniline, polythiophene derivatives, and the like.

正孔注入層の成膜方法としては、例えば、正孔注入層となる材料(正孔注入材料)を含む溶液からの成膜を挙げることができる。溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、正孔注入材料を溶解させるものであれば、特に制限はなく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。   As a film formation method of the hole injection layer, for example, film formation from a solution containing a material (hole injection material) that becomes the hole injection layer can be mentioned. The solvent used for film formation from a solution is not particularly limited as long as it dissolves the hole injection material. Chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride and dichloroethane, ether solvents such as tetrahydrofuran, toluene, Mention may be made of aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and ethyl cellosolve acetate, and water.

溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法などの塗布法を挙げることができる。   As a film forming method from a solution, a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, Examples of the application method include a flexographic printing method, an offset printing method, and an ink jet printing method.

また、正孔注入層の厚みとしては、5nmから300nm程度であることが好ましい。この厚みが5nm未満では、製造が困難になる傾向があり、他方、300nmを超えると、駆動電圧、および正孔注入層に印加される電圧が大きくなる傾向となる。   The thickness of the hole injection layer is preferably about 5 nm to 300 nm. If the thickness is less than 5 nm, the production tends to be difficult. On the other hand, if the thickness exceeds 300 nm, the driving voltage and the voltage applied to the hole injection layer tend to increase.

(正孔輸送層)
正孔輸送層は、陽極、正孔注入層または陽極により近い正孔輸送層からの正孔注入を改善する機能を有する層である。正孔輸送層を構成する材料としては、特に制限はないが、例えば、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−メチルフェニル)4,4’−ジアミノビフェニル(TPD)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(NPB)等の芳香族アミン誘導体、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体、ポリアリールアミンもしくはその誘導体、ポリピロールもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体などが例示される。
(Hole transport layer)
The hole transport layer is a layer having a function of improving hole injection from the anode, the hole injection layer, or the hole transport layer closer to the anode. The material constituting the hole transport layer is not particularly limited. For example, N, N′-diphenyl-N, N′-di (3-methylphenyl) 4,4′-diaminobiphenyl (TPD), 4 , 4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPB) and other aromatic amine derivatives, polyvinylcarbazole or derivatives thereof, polysilane or derivatives thereof, aromatic amines in the side chain or main chain Polysiloxane derivative having pyrazole, pyrazoline derivative, arylamine derivative, stilbene derivative, triphenyldiamine derivative, polyaniline or derivative thereof, polythiophene or derivative thereof, polyarylamine or derivative thereof, polypyrrole or derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) Or its derivatives, or poly (2,5-thienylene vinylene) or a derivative thereof is exemplified.

これらの中でも、正孔輸送層に用いる正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体、ポリアリールアミンもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体等の高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。   Among these, as the hole transport material used for the hole transport layer, polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine compound group in a side chain or a main chain, polyaniline or a derivative thereof, Polymeric hole transport materials such as polythiophene or derivatives thereof, polyarylamine or derivatives thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivatives thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or derivatives thereof are preferred, and more preferred Is polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, and a polysiloxane derivative having an aromatic amine in the side chain or main chain. In the case of a low-molecular hole transport material, it is preferably used by being dispersed in a polymer binder.

正孔輸送層の成膜方法としては、特に制限はないが、低分子の正孔輸送材料では、高分子バインダーと正孔輸送材料とを含む混合液からの成膜を挙げることができ、高分子の正孔輸送材料では、正孔輸送材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。   The method for forming the hole transport layer is not particularly limited, but in the case of a low molecular hole transport material, film formation from a mixed solution containing a polymer binder and a hole transport material can be exemplified. Examples of molecular hole transport materials include film formation from a solution containing a hole transport material.

溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば、特に制限はなく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒などを挙げることができる。
溶液からの成膜方法としては、前述した正孔注入層の成膜法と同様の塗布法を挙げることができる。
The solvent used for film formation from a solution is not particularly limited as long as it dissolves the hole transport material, and is a chlorine-based solvent such as chloroform, methylene chloride, dichloroethane, an ether-based solvent such as tetrahydrofuran, toluene, Examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl cellosolve acetate.
Examples of the film forming method from a solution include the same coating method as the above-described film forming method of the hole injection layer.

混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収の弱いものが好適に用いられ、例えばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。   As the polymer binder to be mixed, those that do not extremely inhibit charge transport are preferable, and those that weakly absorb visible light are preferably used. For example, polycarbonate, polyacrylate, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polystyrene, poly Examples thereof include vinyl chloride and polysiloxane.

正孔輸送層の厚みは、特に制限されないが、目的とする設計に応じて適宜変更することができ、1〜1000nm程度であることが好ましい。この厚みが下限値未満となると、製造が困難になる、または正孔輸送の効果が十分に得られないなどの傾向があり、他方、上限値を超えると、駆動電圧および正孔輸送層に印加される電圧が大きくなる傾向がある。したがって正孔輸送層の厚みは、上述のように、好ましくは、1〜1000nmであるが、より好ましくは、2nm〜500nmであり、さらに好ましくは、5nm〜200nmである。   The thickness of the hole transport layer is not particularly limited, but can be appropriately changed according to the intended design, and is preferably about 1 to 1000 nm. If the thickness is less than the lower limit, production tends to be difficult, or the effect of hole transport is not sufficiently obtained. On the other hand, if the thickness exceeds the upper limit, the drive voltage and the hole transport layer are applied. Tend to be larger. Therefore, the thickness of the hole transport layer is preferably 1 to 1000 nm as described above, more preferably 2 nm to 500 nm, and still more preferably 5 nm to 200 nm.

(発光層)
発光層56は、通常、主として蛍光またはリン光を発光する有機物を有し、さらにドーパント材料を含んでいてもよい。有機物としては低分子化合物、および/または高分子化合物が用いられ、好ましくは高分子化合物が用いられる。発光層56は、ポリスチレン換算の数平均分子量が、10から10である高分子化合物を含むことが好ましい。この実施形態において用いることができる発光層56を構成する発光材料としては、例えば以下のものが挙げられる。なお、第1電極52と第2電極58との間には、一層の発光層に限らず、複数の発光層が配置されてもよい。
(Light emitting layer)
The light emitting layer 56 usually includes an organic substance that mainly emits fluorescence or phosphorescence, and may further include a dopant material. As the organic substance, a low molecular compound and / or a high molecular compound is used, and a high molecular compound is preferably used. It is preferable that the light emitting layer 56 contains the high molecular compound whose number average molecular weight of polystyrene conversion is 10 < 3 > -10 < 8 >. Examples of the light emitting material constituting the light emitting layer 56 that can be used in this embodiment include the following. In addition, between the 1st electrode 52 and the 2nd electrode 58, not only one light emitting layer but a several light emitting layer may be arrange | positioned.

(色素系材料)
色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー(誘導体)、ピラゾリンダイマーなどが挙げられる。
(Dye material)
Examples of the dye-based material include cyclopentamine derivatives, quinacridone derivatives, coumarin derivatives, tetraphenylbutadiene derivative compounds, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, Examples include pyrrole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, oxadiazole dimers (derivatives), and pyrazoline dimers.

(金属錯体系材料)
金属錯体系材料としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体など、中心金属に、Al、Zn、BeなどまたはTb、Eu、Dyなどの希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを有する金属錯体などを挙げることができる。
(Metal complex materials)
Examples of metal complex materials include metal complexes that emit light from triplet excited states such as iridium complexes and platinum complexes, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol beryllium complexes, benzoxazolyl zinc complexes, benzothiazole zinc complexes, azomethyls. Zinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, etc., which has Al, Zn, Be or the like as the central metal or rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy, and the ligand is oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzo Examples thereof include metal complexes having an imidazole or quinoline structure.

(高分子系材料)
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、前述の色素体や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどが挙げられる。
(Polymer material)
Polymer materials include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, and the above-mentioned dye bodies and metal complex light emitting materials. Things.

発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。   Among the luminescent materials, materials that emit blue light include distyrylarylene derivatives, oxadiazole derivatives, and polymers thereof, polyvinylcarbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, and the like. Of these, polymer materials such as polyvinyl carbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polyfluorene derivatives are preferred.

また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。   Examples of materials that emit green light include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives, and the like. Of these, polymer materials such as polyparaphenylene vinylene derivatives and polyfluorene derivatives are preferred.

また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。   Examples of materials that emit red light include coumarin derivatives, thiophene ring compounds, and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyfluorene derivatives. Among these, polymer materials such as polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyfluorene derivatives are preferable.

(ドーパント材料)
発光層中に発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的で、ドーパントを添加することができる。このようなドーパントとしては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約2nmから200nm(20〜2000Å)である。
(Dopant material)
A dopant can be added to the light emitting layer for the purpose of improving the light emission efficiency and changing the light emission wavelength. Examples of such dopants include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazolone derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like. In addition, the thickness of such a light emitting layer is usually about 2 nm to 200 nm (20 to 2000 mm).

(発光層の成膜方法)
有機物を含む発光層の成膜方法としては、発光材料を含む溶液を画素領域59に直接的に塗布する方法、画素領域に真空蒸着法を用いて堆積させる方法、転写用の基体の上に発光材料を含む溶液を一旦塗布し、この塗膜を成膜化し、得られた膜を画素領域59に転写して間接的に成膜する方法などを用いることができる。溶液からの成膜に用いる溶媒の具体例としては、前述の溶液から正孔輸送層を成膜する際に正孔輸送材料を溶解させる溶媒と同様の溶媒が挙げられる。
(Light-emitting layer deposition method)
As a method for forming a light emitting layer containing an organic substance, a method including directly applying a solution containing a light emitting material to the pixel region 59, a method of depositing the pixel region using a vacuum vapor deposition method, and light emission on a transfer substrate. For example, a method may be used in which a solution containing the material is applied once, this coating film is formed into a film, and the obtained film is transferred to the pixel region 59 to form a film indirectly. Specific examples of the solvent used for the film formation from the solution include the same solvents as those for dissolving the hole transport material when forming the hole transport layer from the above solution.

発光材料を含む溶液を画素領域59に塗布する方法、もしくは転写用の膜を形成するために基体の上に塗布する方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の印刷法等の塗布法を用いることができる。パターン形成や多色の色分けが容易であるという点で、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の印刷法が好ましい。また、昇華性の低分子化合物の場合は、真空蒸着法を用いることができる。さらには、レーザによる転写や熱転写により、所望の領域のみに発光層を形成する方法も用いることができる。   As a method of applying a solution containing a light emitting material to the pixel region 59, or a method of applying a solution on a substrate to form a transfer film, a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, Bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, slit coating method, capillary coating method, spray coating method, nozzle coating method and other coating methods, gravure printing method, screen printing method, flexographic printing method, offset A coating method such as a printing method such as a printing method, a reverse printing method, and an ink jet printing method can be used. A printing method such as a gravure printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, a reversal printing method, and an ink jet printing method is preferable in that pattern formation and multi-coloring are easy. In the case of a sublimable low-molecular compound, a vacuum deposition method can be used. Furthermore, a method of forming a light emitting layer only in a desired region by laser transfer or thermal transfer can be used.

(電子注入層)
電子注入層は、陰極58からの電子注入効率を改善する機能を有する層である。電子注入層は、先に述べたように、電子輸送層と陰極58との間、または発光層56と陰極58との間に設けられる。電子注入層としては、発光層56の種類に応じて、アルカリ金属やアルカリ土類金属、あるいは前述の金属を一種類以上含む合金、あるいは前述の金属の酸化物、ハロゲン化物および炭酸化物、あるいは前述の物質の混合物などが挙げられる。
(Electron injection layer)
The electron injection layer is a layer having a function of improving the electron injection efficiency from the cathode 58. As described above, the electron injection layer is provided between the electron transport layer and the cathode 58 or between the light emitting layer 56 and the cathode 58. As the electron injection layer, depending on the type of the light emitting layer 56, an alkali metal, an alkaline earth metal, an alloy containing one or more of the aforementioned metals, an oxide, halide and carbonate of the aforementioned metals, or the aforementioned And a mixture of these substances.

アルカリ金属またはその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウム等が挙げられる。   Examples of alkali metals or oxides, halides and carbonates thereof include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, lithium oxide, lithium fluoride, sodium oxide, sodium fluoride, potassium oxide, potassium fluoride, rubidium oxide. , Rubidium fluoride, cesium oxide, cesium fluoride, lithium carbonate and the like.

アルカリ土類金属またはその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどが挙げられる。   Examples of alkaline earth metals or oxides, halides and carbonates thereof include magnesium, calcium, barium, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, calcium oxide, calcium fluoride, calcium fluoride, barium oxide, fluoride Examples include barium, strontium oxide, strontium fluoride, and magnesium carbonate.

さらに、金属、金属酸化物、金属塩をドーピングした有機金属化合物、および有機金属錯体化合物、またはこれらの混合物も、電子注入層の材料として用いることができる。   Furthermore, a metal, a metal oxide, an organometallic compound doped with a metal salt, an organometallic complex compound, or a mixture thereof can also be used as a material for the electron injection layer.

この電子注入層は、2層以上を積層した積層構造を有していてもよい。具体的には、Li/Caなどが挙げられる。この電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法などにより形成される。
この電子注入層の膜厚としては、1nmから1μm程度が好ましい。
This electron injection layer may have a stacked structure in which two or more layers are stacked. Specifically, Li / Ca etc. are mentioned. This electron injection layer is formed by vapor deposition, sputtering, printing, or the like.
The thickness of the electron injection layer is preferably about 1 nm to 1 μm.

(電子輸送層)
電子輸送層は、陰極58、電子注入層または陰極58により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。電子輸送層を形成する材料としては、公知のものが使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンもしくはその誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、ナフトキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンもしくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンもしくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体等が例示される。
(Electron transport layer)
The electron transport layer is a layer having a function of improving electron injection from the cathode 58, the electron injection layer, or the electron transport layer closer to the cathode 58. As the material for forming the electron transport layer, known materials can be used, such as oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or derivatives thereof, benzoquinone or derivatives thereof, naphthoquinone or derivatives thereof, anthraquinones or derivatives thereof, tetracyanoanthraquinodi. Examples include methane or its derivatives, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or its derivatives, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or its derivatives, polyquinoline or its derivatives, polyquinoxaline or its derivatives, polyfluorene or its derivatives, etc. The

これらのうち、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体が好ましく、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。   Of these, oxadiazole derivatives, benzoquinone or derivatives thereof, anthraquinones or derivatives thereof, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof are preferred, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinol) aluminum, and polyquinoline are more preferable.

なお、電子注入層および正孔注入層を総称して電荷注入層という場合があり、電子輸送層および正孔輸送層を総称して電荷輸送層という場合がある。   The electron injection layer and the hole injection layer may be collectively referred to as a charge injection layer, and the electron transport layer and the hole transport layer may be collectively referred to as a charge transport layer.

(第2電極)
第1の実施形態における第2電極58は、第1電極52に対向して配置される電極であって、有機EL素子26の陰極となるものであるが、本発明においては、後述の第2の実施形態に示すように、第2電極58を陽極とすることもできる。このような陰極の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易な材料が好ましい。また陰極の材料としては電気伝導度が高く、可視光反射率の高い材料が好ましい。かかる陰極材料としては、具体的には、金属、金属酸化物、合金、グラファイトまたはグラファイト層間化合物、酸化亜鉛(ZnO)等の無機半導体などを挙げることができる。
(Second electrode)
The second electrode 58 in the first embodiment is an electrode disposed to face the first electrode 52 and serves as a cathode of the organic EL element 26. In the present invention, the second electrode described later is used. As shown in the embodiment, the second electrode 58 may be an anode. As such a cathode material, a material having a small work function and easy electron injection into the light emitting layer is preferable. The cathode material is preferably a material having high electrical conductivity and high visible light reflectance. Specific examples of such cathode materials include metals, metal oxides, alloys, graphite or graphite intercalation compounds, and inorganic semiconductors such as zinc oxide (ZnO).

前述の金属としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属や周期表の第13族金属等を用いることができる。これら金属の具体的例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム等を挙げることができる。   As the above-mentioned metal, an alkali metal, an alkaline earth metal, a transition metal, a Group 13 metal of the periodic table, or the like can be used. Specific examples of these metals include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin, and aluminum. , Scandium, vanadium, zinc, yttrium, indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, and the like.

また、合金としては、上記金属の少なくとも一種を含む合金を挙げることができ、具体的には、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金等を挙げることができる。   Examples of the alloy include an alloy containing at least one of the above metals. Specifically, a magnesium-silver alloy, a magnesium-indium alloy, a magnesium-aluminum alloy, an indium-silver alloy, a lithium-aluminum alloy, Examples thereof include a lithium-magnesium alloy, a lithium-indium alloy, and a calcium-aluminum alloy.

陰極58は、必要に応じて光透過性の電極とされるが、材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ITO、IZOなどの導電性酸化物;ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの導電性有機物を挙げることができる。   The cathode 58 is a light-transmitting electrode as required, and the material is a conductive oxide such as indium oxide, zinc oxide, tin oxide, ITO, IZO; polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof. And conductive organic substances such as

なお、陰極である第2電極58を2層以上の積層構造としてもよい。また、電子注入層が陰極として用いられる場合もある。   Note that the second electrode 58 serving as a cathode may have a laminated structure of two or more layers. Moreover, an electron injection layer may be used as a cathode.

陰極である第2電極58の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nmから10μmであり、好ましくは20nmから1μmであり、さらに好ましくは50nmから500nmである。   The film thickness of the second electrode 58 serving as the cathode can be appropriately selected in consideration of electric conductivity and durability, but is, for example, 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, and more preferably 50 nm. To 500 nm.

陰極である第2電極58を形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が挙げられる。なお、この第2電極58を2層以上の積層構造としてもよい。   Examples of the method for forming the second electrode 58 serving as the cathode include a vacuum deposition method, a sputtering method, and a laminating method in which a metal thin film is thermocompression bonded. The second electrode 58 may have a laminated structure of two or more layers.

(保護層)
上述のように陰極である第2電極58が形成された後、基本構造である第1電極(陽極)52−発光層56−第2電極(陰極)58を保護するために、これらを封止する保護層70が形成されることが好ましい。なお、保護層70は、既に説明した基板51と同様の基板または出射光の光取り出し側ではない場合には不透明である従来公知の任意好適な基板により構成することもできる(保護層70を保護基板70とする場合がある)。
(Protective layer)
After the second electrode 58 that is a cathode is formed as described above, the first electrode (anode) 52, the light emitting layer 56, and the second electrode (cathode) 58, which are basic structures, are sealed in order to protect them. A protective layer 70 is preferably formed. The protective layer 70 may be formed of a substrate similar to the substrate 51 already described, or any conventionally known suitable substrate that is opaque when not on the light extraction side of the emitted light (the protective layer 70 is protected). The substrate 70 may be used).

保護層70は、通常、少なくとも一層の無機層と少なくとも一層の有機層を有する。積層数は、必要に応じて決定され、基本的には、無機層と有機層とは交互に積層される。   The protective layer 70 usually has at least one inorganic layer and at least one organic layer. The number of stacked layers is determined as necessary, and basically, inorganic layers and organic layers are stacked alternately.

なお、ガラス基板に比べると、プラスチック基板は酸素および水などのガスの透過性が高い。発光層56などの発光物質は酸化されやすく、酸素および水などと接触することにより劣化しやすいので、基板51としてプラスチック基板が用いられる場合には、ガスバリア性を高めるための処理を基板に予め施すことが好ましい。例えばプラスチック基板上にガスなどに対するバリア性の高い下部封止膜を積層し、その後、この下部封止膜の上に有機EL素子26を積層することが好ましい。この下部封止膜は、通常、保護層70と同様の構成、同様の材料にて形成される。   Note that the plastic substrate has higher permeability of gases such as oxygen and water than the glass substrate. Since a light emitting substance such as the light emitting layer 56 is easily oxidized and easily deteriorated by contact with oxygen, water, or the like, when a plastic substrate is used as the substrate 51, the substrate is preliminarily subjected to a treatment for improving gas barrier properties. It is preferable. For example, it is preferable that a lower sealing film having a high barrier property against gas or the like is laminated on a plastic substrate, and then the organic EL element 26 is laminated on the lower sealing film. This lower sealing film is usually formed with the same configuration and the same material as the protective layer 70.

本実施形態の有機EL素子26では、陽極である第1電極52に接する位置に配置される層としては、上述のように、正孔注入層、正孔輸送層、および発光層56などが挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層、および発光層56の屈折率は、それぞれ通常1.5から1.8程度である。第1電極52の屈折率(n1)は、前述した式(1)を満たし、好ましくは、第1電極52に接する層の屈折率(n3)以下になるように設定される。   In the organic EL element 26 of this embodiment, examples of the layer disposed at the position in contact with the first electrode 52 that is the anode include the hole injection layer, the hole transport layer, and the light emitting layer 56 as described above. It is done. The refractive indexes of the hole injection layer, the hole transport layer, and the light emitting layer 56 are usually about 1.5 to 1.8, respectively. The refractive index (n1) of the first electrode 52 satisfies the above-described formula (1), and is preferably set to be equal to or lower than the refractive index (n3) of the layer in contact with the first electrode 52.

従来のボトムエミッション型の有機EL素子26では、ガラス基板上に形成されたITOが陽極(第1電極)として用いられてきた。ITOの屈折率(n1’)は、2程度であり、ガラス基板の屈折率(n2’)は、1.5程度であり、正孔注入層、正孔輸送層、および発光層などのうちでITOに接する部分の屈折率(n3’)は、1.7程度なので、従来のボトムエミッション型の有機EL素子は、屈折率の低いガラス基板と発光層との間に、屈折率の高いITOが挟まれた構成であった。したがって、発光層からの光の一部が、全反射などによってITOで反射されるので、発光層からの光を効率的に取り出すことができなかった。   In the conventional bottom emission type organic EL element 26, ITO formed on a glass substrate has been used as an anode (first electrode). The refractive index (n1 ′) of ITO is about 2, and the refractive index (n2 ′) of the glass substrate is about 1.5. Among the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, etc. Since the refractive index (n3 ′) of the portion in contact with the ITO is about 1.7, the conventional bottom emission type organic EL element has an ITO having a high refractive index between the glass substrate having a low refractive index and the light emitting layer. It was a sandwiched configuration. Therefore, a part of the light from the light emitting layer is reflected by the ITO by total reflection or the like, so that the light from the light emitting layer cannot be extracted efficiently.

それに対して、本実施形態では、前述の式(1)の関係を満たす基板51と第1電極52とを用いることによって、従来の有機EL素子に比べて、基板51と、第1電極52と、正孔注入層、正孔輸送層、および発光層などのうちで第1電極52に接する部分との各屈折率の差が小さい有機EL素子26を構成することができる。これによって、発光層56からの光が第1電極52で反射することを抑制し、有機EL素子26の光取り出し効率を向上することができる。特に、n2≦n1≦n3の関係を満たす第1電極52および基板51を用いれば、基板51と、第1電極52と、正孔注入層、正孔輸送層、および発光層などのうちで第1電極52に接する部分との各屈折率の差をさらに小さくすることができ、発光層56からの出射光が第1電極52で反射することを抑制し、有機EL素子26の光取り出し効率をさらに向上することができる。これによって発光効率が高い有機EL素子を実現することができる。   On the other hand, in the present embodiment, by using the substrate 51 and the first electrode 52 that satisfy the relationship of the above-described formula (1), the substrate 51, the first electrode 52, and the like can be compared with the conventional organic EL element. The organic EL element 26 having a small difference in refractive index from the portion in contact with the first electrode 52 among the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, and the like can be configured. Thereby, it is possible to suppress the light from the light emitting layer 56 from being reflected by the first electrode 52, and to improve the light extraction efficiency of the organic EL element 26. In particular, if the first electrode 52 and the substrate 51 satisfying the relationship of n2 ≦ n1 ≦ n3 are used, the first of the substrate 51, the first electrode 52, the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, etc. The difference in each refractive index from the portion in contact with the first electrode 52 can be further reduced, the light emitted from the light emitting layer 56 is suppressed from being reflected by the first electrode 52, and the light extraction efficiency of the organic EL element 26 is improved. This can be further improved. As a result, an organic EL element with high luminous efficiency can be realized.

また、表面粗さRaが、100nm以下の平坦な第1電極52に発光層56を成膜すれば、各層における膜厚のばらつきを抑制することができる。これによって、第1電極52の突起による短絡をなくすことができる。   Further, if the light emitting layer 56 is formed on the flat first electrode 52 having a surface roughness Ra of 100 nm or less, variations in film thickness in each layer can be suppressed. Thereby, a short circuit due to the protrusion of the first electrode 52 can be eliminated.

また、第1電極52を塗布法によって形成することができるので、真空蒸着およびスパッタ法などのように真空装置を用いて光透過性の第1電極52を形成する場合や、特殊な工程で第1電極52を形成する場合に比べて、簡易に第1電極52を形成することができ、低コスト化を図ることができる。さらに、第1電極52の特性は、樹脂およびワイヤ状導電体の種類、並びにワイヤ状導電体の形状などによって決まるので、これらを適宜選択するだけで、意図する光学特性および電気的特性などを示す第1電極52を容易に得ることができる。
本実施形態の有機EL素子の製造は、上述の各層の材料説明のところで、それぞれ説明した形成工程を組み合わせることによって、実現することができる。
In addition, since the first electrode 52 can be formed by a coating method, the first electrode 52 that is light transmissive can be formed by using a vacuum apparatus such as vacuum deposition and sputtering, or in a special process. Compared to the case where the first electrode 52 is formed, the first electrode 52 can be easily formed, and the cost can be reduced. Furthermore, since the characteristics of the first electrode 52 are determined by the types of the resin and the wire-shaped conductor, the shape of the wire-shaped conductor, and the like, the intended optical characteristics and electrical characteristics can be shown by simply selecting these. The first electrode 52 can be easily obtained.
Manufacture of the organic EL element of this embodiment is realizable by combining the formation process each demonstrated in the above-mentioned material description of each layer.

〈構成例2〉
次に、有機EL素子26の構成例2を、図11を参照して説明する。なお、図10を参照して既に説明した構成例1と同一の符号が付された構成要素については、同一の構成および製造方法とすることができるため、詳細な説明は省略する。
構成例2では、有機EL素子の各構成要素の積層順序を構成例1のそれとは逆にしたものであり、構成例2と、前述の構成例1との違いは、構成例1の有機EL素子26が、発光層56からの光を光透過性の陽極(第1電極52)を通して基板51側から外部環境へ出射するいわゆるボトムエミッション型であったのに対し、構成例2の有機EL素子26では発光層56からの光を光透過性の陽極である第1電極52を通して基板51側から外部環境へ出射するいわゆるトップエミッション型である点にある。なお構成例2の基板51は、構成例1において保護基板として説明した部材に相当する。また構成例2において、第2電極58が設けられる基板80は、構成例1においてTFT基板などの第1電極52が設けられる基板として説明した基板に相当する。
<Configuration example 2>
Next, Structural Example 2 of the organic EL element 26 will be described with reference to FIG. In addition, since it can be set as the same structure and manufacturing method about the component to which the code | symbol same as the structural example 1 already demonstrated with reference to FIG. 10 can be set, detailed description is abbreviate | omitted.
In the configuration example 2, the stacking order of each component of the organic EL element is reversed from that in the configuration example 1, and the difference between the configuration example 2 and the above-described configuration example 1 is the organic EL of the configuration example 1. The element 26 is a so-called bottom emission type in which light from the light emitting layer 56 is emitted from the substrate 51 side to the external environment through a light-transmitting anode (first electrode 52), whereas the organic EL element of the configuration example 2 26 is a so-called top emission type in which light from the light emitting layer 56 is emitted from the substrate 51 side to the external environment through the first electrode 52 which is a light transmissive anode. The substrate 51 of the configuration example 2 corresponds to the member described as the protective substrate in the configuration example 1. In the configuration example 2, the substrate 80 provided with the second electrode 58 corresponds to the substrate described in the configuration example 1 as the substrate provided with the first electrode 52 such as a TFT substrate.

構成例2においても、基板51と第1電極52とは、前述した式(1)の関係を満たす。したがって本発明にかかる有機EL素子を、構成例2のように構成しても、既に説明した構成例1と同様の作用、効果を得ることができる。   Also in the configuration example 2, the substrate 51 and the first electrode 52 satisfy the relationship of the above-described formula (1). Therefore, even when the organic EL element according to the present invention is configured as in the configuration example 2, the same operations and effects as those in the configuration example 1 already described can be obtained.

図10に示される構成例1の有機EL素子26は、発光層56からの光を光透過性の陽極である第1電極52を透過させて光透過性である基板51から外部環境に出射するボトムエミッション型の構造を有している。この構成例1の有機EL素子の構造を第1の構造と仮称すると、ボトムエミッション型の構造であって、第1電極52を陰極とし、保護層70側に陽極である第2電極58を設けた構造(第2の構造という場合がある)の有機EL素子も作製可能である。なお、必要ならば、第1機能層53と第2機能層57との配置を入れ替えるといった設計変更を行ってもよい。このような第2の構造の有機EL素子に対しても、本発明は適用可能である。   The organic EL element 26 of the configuration example 1 shown in FIG. 10 transmits the light from the light emitting layer 56 through the first electrode 52 that is a light transmissive anode and emits the light from the light transmissive substrate 51 to the external environment. It has a bottom emission type structure. If the structure of the organic EL element of the configuration example 1 is tentatively referred to as a first structure, it is a bottom emission type structure in which the first electrode 52 is a cathode and the second electrode 58 that is an anode is provided on the protective layer 70 side. An organic EL element having a different structure (sometimes referred to as a second structure) can also be manufactured. If necessary, a design change such as replacement of the arrangement of the first functional layer 53 and the second functional layer 57 may be performed. The present invention can also be applied to such an organic EL element having the second structure.

また、図11に示される構成例2の有機EL素子26は、発光層56からの出射光を光透過性の陽極である第1電極52を透過させて基板51から外部環境に出射するトップエミッション型の構造を有している。この構成例2の有機EL素子の構造を第3の構造と仮称すると、トップエミッション型の構造であって、第1電極52を陰極とし、基板80側に陽極である第2電極58を設けた構造(第4の構造という場合がある)の有機EL素子も作製可能である。なお、この場合にも、必要ならば、第1機能層53と第2機能層57との配置を入れ替えるといった設計変更を行ってもよい。このような第4の構造の有機EL素子に対しても、本発明は適用可能である。
また、発光層56からの出射光を、例えば、陽極である第1電極52を透過させて基板51から外部環境に出射すると同時に、光透過性の陰極である第2電極53を透過させて光透過性の保護層70から外部環境に出射するダブルエミッション型の構造も作製可能であり、このようなダブルエミッション型の有機EL素子に対しても、本発明は適用可能である。
In addition, the organic EL element 26 of the configuration example 2 shown in FIG. 11 transmits the emitted light from the light emitting layer 56 through the first electrode 52 that is a light transmitting anode and emits the light from the substrate 51 to the external environment. Has a mold structure. If the structure of the organic EL element of the configuration example 2 is tentatively referred to as a third structure, it is a top emission type structure in which the first electrode 52 is used as a cathode and the second electrode 58 serving as an anode is provided on the substrate 80 side. An organic EL element having a structure (sometimes referred to as a fourth structure) can also be manufactured. Also in this case, if necessary, a design change such as replacement of the arrangement of the first functional layer 53 and the second functional layer 57 may be performed. The present invention can also be applied to such an organic EL element having the fourth structure.
In addition, the light emitted from the light emitting layer 56 is transmitted through the first electrode 52 that is an anode and emitted from the substrate 51 to the external environment, and at the same time, the light is transmitted through the second electrode 53 that is a light transmissive cathode. A double emission type structure that emits light from the transmissive protective layer 70 to the outside environment can also be produced, and the present invention can be applied to such a double emission type organic EL element.

以下、作製例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
作製例1から3では、基板と基板上に設けられる電極の屈折率を特定の範囲に制御するとともに、電極内にワイヤ状導電体を備える電極を有する有機EL素子を製造する。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on production examples, but the present invention is not limited to the following examples.
In Production Examples 1 to 3, an organic EL element having an electrode including a wire-like conductor in the electrode is manufactured while controlling the refractive index of the substrate and the electrode provided on the substrate within a specific range.

(作製例1)
ワイヤ状導電体として、アミノ基含有高分子系分散剤(アイ・シー・アイ・ジャパン社製、商品名「ソルスパース24000SC」)で表面を保護した銀ナノワイヤー(長軸平均長さ1μm、短軸平均長さ10nm)を用いる。この銀ナノワイヤーのトルエン分散液2g(銀ナノワイヤー1.0g含有)と、膜本体となる光硬化性モノマーであるトリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学社製、商品名「NKエステル−TMPT」)0.25gとを混合し、さらに重合開始剤(日本チバ・ガイギー社製、商品名「イルガキュア907」)0.0025gを添加する。この混合溶液を厚さ0.7mmのガラス基板(光透過性基板本体)に塗布し、ホットプレート上で110℃20分加熱して溶媒を乾燥し、さらにUVランプで光照射(6000mW/cm2)することによって硬化して、膜厚が150nmの第1電極を得る。このように成膜することによって、透過率が80%以上、体積抵抗率が1Ω・cm以下、表面粗さが100nm以下である第1電極が得られる。
(Production Example 1)
As a wire-like conductor, a silver nanowire (major axis average length 1 μm, minor axis) whose surface is protected with an amino group-containing polymer dispersant (product name “Solsperse 24000SC” manufactured by IC Japan Ltd.) An average length of 10 nm) is used. 2 g of toluene dispersion of silver nanowire (containing 1.0 g of silver nanowire) and trimethylolpropane triacrylate (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name “NK Ester-TMPT”) which is a photocurable monomer serving as the film body 0.25 g is mixed, and further, 0.0025 g of a polymerization initiator (trade name “Irgacure 907” manufactured by Ciba-Geigy Corporation of Japan) is added. This mixed solution is applied to a 0.7 mm thick glass substrate (light transmissive substrate main body), heated on a hot plate at 110 ° C. for 20 minutes to dry the solvent, and further irradiated with a UV lamp (6000 mW / cm 2). ) To obtain a first electrode having a thickness of 150 nm. By forming the film in this manner, a first electrode having a transmittance of 80% or more, a volume resistivity of 1 Ω · cm or less, and a surface roughness of 100 nm or less is obtained.

光硬化樹脂の屈折率は1.47であり、得られる第1電極の屈折率も1.47となる。このような基板と第1電極を用いることにより前述の実施形態にかかる有機EL素子を得ることができる。得られた有機EL素子では出射光の光取り出し効率が向上する。   The refractive index of the photocurable resin is 1.47, and the refractive index of the obtained first electrode is also 1.47. By using such a substrate and the first electrode, the organic EL element according to the above-described embodiment can be obtained. In the obtained organic EL element, the light extraction efficiency of the emitted light is improved.

(作製例2)
ワイヤ状導電体として、アミノ基含有高分子系分散剤(アイ・シー・アイ・ジャパン社製、商品名「ソルスパース24000SC」)で表面を保護した銀ナノワイヤー(長軸平均長さ1μm、短軸平均長さ10nm)を用いる。この銀ナノワイヤーのトルエン分散液2g(銀ナノワイヤー1.0g含有)と、膜本体となるポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(スタルク社製、商品名「BaytronP」)2.5gとを混合する。この混合溶液を厚さ0.7mmのガラス基板(光透過性基板本体)に塗布し、ホットプレート上で200℃20分加熱し、溶媒を乾燥すると膜厚が150nmの第1電極を得る。このように成膜することによって、透過率が80%以上、体積抵抗率が1Ω・cm以下、表面粗さが100nm以下である第1電極が得られる。
(Production Example 2)
As a wire-like conductor, a silver nanowire (major axis average length 1 μm, minor axis) whose surface is protected with an amino group-containing polymer dispersant (product name “Solsperse 24000SC” manufactured by IC Japan Ltd.) An average length of 10 nm) is used. 1. 2 g of this silver nanowire in toluene dispersion (containing 1.0 g of silver nanowire) and a poly (ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonic acid solution (trade name “BaytronP” manufactured by Starck Co., Ltd.) to be the membrane body. Mix with 5 g. This mixed solution is applied to a glass substrate (light transmissive substrate main body) having a thickness of 0.7 mm, heated on a hot plate at 200 ° C. for 20 minutes, and dried to obtain a first electrode having a thickness of 150 nm. By forming the film in this manner, a first electrode having a transmittance of 80% or more, a volume resistivity of 1 Ω · cm or less, and a surface roughness of 100 nm or less is obtained.

「BaytronP」の屈折率は1.7であり、得られる第1電極の屈折率も1.7となる。このような基板と第1電極を用いることにより前述の実施形態にかかる有機EL素子を得ることができる。得られた有機EL素子では、出射光の光取り出し効率が向上する。   The refractive index of “BaytronP” is 1.7, and the refractive index of the obtained first electrode is 1.7. By using such a substrate and the first electrode, the organic EL element according to the above-described embodiment can be obtained. In the obtained organic EL element, the light extraction efficiency of the emitted light is improved.

(作製例3)
ワイヤ状導電体として、アミノ基含有高分子系分散剤(アイ・シー・アイ・ジャパン社製、商品名「ソルスパース24000SC」)で表面を保護した銀ナノワイヤー(長軸平均長さ1μm、短軸平均長さ10nm)を用いる。膜本体となるポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(スタルク社製、商品名「BaytronP」)2.5gに、ジメチルスルホキシド0.125gを混合した混合液と、銀ナノワイヤーのトルエン分散液2g(銀ナノワイヤー1.0g含有)とを混合する。この混合溶液を0.7mm厚のガラス基板に塗布し、ホットプレート上で200℃20分加熱し、溶媒を乾燥すると膜厚が150nmの導電膜を得る。このように成膜することによって透過率が80%以上、体積抵抗率が1Ω・cm以下、表面粗さが100nm以下である光透過性導電膜が得られる。
(Production Example 3)
As a wire-like conductor, a silver nanowire (major axis average length 1 μm, minor axis) whose surface is protected with an amino group-containing polymer dispersant (product name “Solsperse 24000SC” manufactured by IC Japan Ltd.) An average length of 10 nm) is used. A mixture of poly (ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonic acid solution (trade name “BaytronP”, manufactured by Starck Co., Ltd.) 2.5 g mixed with 0.125 g of dimethyl sulfoxide, and silver nanowire toluene 2 g of dispersion (containing 1.0 g of silver nanowires) is mixed. This mixed solution is applied to a 0.7 mm thick glass substrate, heated at 200 ° C. for 20 minutes on a hot plate, and dried to obtain a conductive film having a thickness of 150 nm. By forming the film in this manner, a light-transmitting conductive film having a transmittance of 80% or more, a volume resistivity of 1 Ω · cm or less, and a surface roughness of 100 nm or less is obtained.

「BaytronP」の屈折率は1.7であり、得られる光透過性導電膜の屈折率も1.7となる。このような基板と第1電極を用いることにより前述の実施形態にかかる有機EL素子を得ることができる。得られた有機EL素子では光取り出し効率が向上する。   The refractive index of “BaytronP” is 1.7, and the refractive index of the obtained light-transmitting conductive film is also 1.7. By using such a substrate and the first electrode, the organic EL element according to the above-described embodiment can be obtained. In the obtained organic EL element, the light extraction efficiency is improved.

なお、前述の作製例1から3では、基板と光透過性の第1電極との屈折率を特定の範囲に制御するとともに、第1電極内にワイヤ状導電体を設けた有機EL素子を製造し、光透過性基板本体と第1電極との屈折率を既に説明した式(1)で定義される範囲に制御している。   In Production Examples 1 to 3 described above, an organic EL element in which the refractive index between the substrate and the light-transmitting first electrode is controlled within a specific range and a wire-like conductor is provided in the first electrode is manufactured. Then, the refractive indexes of the light transmissive substrate main body and the first electrode are controlled within the range defined by the formula (1) already described.

照明光通信システムの概略的説明図(1)である。It is a schematic explanatory drawing (1) of an illumination light communication system. 照明光通信システムの概略的説明図(2)である。It is a schematic explanatory drawing (2) of an illumination light communication system. 照明光通信システムの概略的説明図(3)である。It is a schematic explanatory drawing (3) of an illumination light communication system. 照明光通信システムの概略的説明図(4)である。It is a schematic explanatory drawing (4) of an illumination light communication system. 電流プログラム方式の発光ユニットの回路図である。It is a circuit diagram of the light emission unit of a current program system. 電圧プログラム方式の発光素子の回路図である。It is a circuit diagram of the light emitting element of a voltage program system. 発光ユニットの動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing of a light emission unit. 照明光通信システムの概略的説明図(5)である。It is a schematic explanatory drawing (5) of an illumination light communication system. 照明用光源の動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing of the light source for illumination. 有機EL素子の概略的な断面図(1)である。It is a schematic sectional drawing (1) of an organic EL element. 有機EL素子の概略的な断面図(2)である。It is a schematic sectional drawing (2) of an organic EL element.

符号の説明Explanation of symbols

10:照明光通信システム
20:送信装置
22:照明用光源
24:発光ユニット
23:サブ光源
23A:第1サブ光源
23B:第2サブ光源
23C:第3サブ光源
23D:第4サブ光源
26:有機EL素子
28:制御回路
29:直列/並列変換回路
30:受信装置
32:受光部
34:復調部
36:レンズ
38:並列/直列変換回路
42:走査線駆動回路
44:データ線駆動回路
51:基板
52:第1電極
53:第1機能層
56:発光層
57:第2機能層
58:第2電極
59:画素領域
70:保護層(保護基板)
80:基板
X:データ線
Y:走査線
10: Illumination light communication system 20: Transmitter 22: Light source for illumination 24: Light emitting unit 23: Sub light source 23A: First sub light source 23B: Second sub light source 23C: Third sub light source 23D: Fourth sub light source 26: Organic EL element 28: control circuit 29: serial / parallel conversion circuit 30: receiving device 32: light receiving unit 34: demodulation unit 36: lens 38: parallel / serial conversion circuit 42: scanning line driving circuit 44: data line driving circuit 51: substrate 52: first electrode 53: first functional layer 56: light emitting layer 57: second functional layer 58: second electrode 59: pixel region 70: protective layer (protective substrate)
80: Substrate X: Data line Y: Scan line

Claims (11)

送信データに基づいて変調された変調光を出射する照明用光源を備える送信装置であって、
前記照明用光源は、光透過性を示す基板と、該基板に接して設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子とを備え、
該有機エレクトロルミネッセンス素子は、光透過性を示すとともに前記基板に接して配置される第1電極と、第2電極と、前記第1電極および前記第2電極の間に設けられた発光層とを含み、
前記第1電極の屈折率をn1、前記基板の屈折率をn2とすると、n1、およびn2がそれぞれ次式(1)
Figure 2010102969
を満たす、照明光通信システム用の送信装置。
A transmission device including an illumination light source that emits modulated light modulated based on transmission data,
The illumination light source includes a substrate exhibiting light transparency, and an organic electroluminescence element provided in contact with the substrate,
The organic electroluminescent element includes a first electrode that is light transmissive and disposed in contact with the substrate, a second electrode, and a light emitting layer provided between the first electrode and the second electrode. Including
When the refractive index of the first electrode is n1 and the refractive index of the substrate is n2, n1 and n2 are respectively expressed by the following formula (1)
Figure 2010102969
The transmission apparatus for illumination light communication systems which satisfy | fills.
前記第1電極の可視光領域の光の透過率が80%以上、体積抵抗率が1Ω・cm以下、表面粗さが100nm以下である、請求項1に記載の送信装置。   2. The transmission device according to claim 1, wherein the first electrode has a light transmittance of 80% or more, a volume resistivity of 1 Ω · cm or less, and a surface roughness of 100 nm or less. 前記照明用光源は、それぞれの発光面積が10−8cmから10−1cmである複数の前記有機エレクトロルミネッセンス素子を備える、請求項1または2に記載の送信装置。 The transmission device according to claim 1, wherein the illumination light source includes a plurality of the organic electroluminescence elements each having a light emission area of 10 −8 cm 2 to 10 −1 cm 2 . 前記照明用光源が、変調光を出射する通信用の有機エレクトロルミネッセンス素子と、非変調光を出射する照明用の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える請求項1から3のいずれか一項に記載の送信装置。   The transmission according to any one of claims 1 to 3, wherein the illumination light source includes a communication organic electroluminescence element that emits modulated light and an illumination organic electroluminescence element that emits non-modulated light. apparatus. 前記通信用の有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層が、蛍光を発光する発光材料を用いて形成され、かつ照明用の有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層が、リン光を発光する発光材料を用いて形成されてなる請求項4に記載の送信装置。   The light emitting layer of the organic electroluminescent element for communication is formed using a light emitting material that emits fluorescence, and the light emitting layer of the organic electroluminescent element for illumination is formed using a light emitting material that emits phosphorescence. The transmission device according to claim 4. 前記第1電極が、光透過性の膜本体、および該膜本体中に配置され、導電性を有するワイヤ状導電体を含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の送信装置。   6. The transmission device according to claim 1, wherein the first electrode includes a light-transmitting film main body, and a wire-shaped conductor disposed in the film main body and having conductivity. 前記ワイヤ状導電体の径が200nm以下である、請求項6に記載の送信装置。   The transmission device according to claim 6, wherein a diameter of the wire-like conductor is 200 nm or less. 前記ワイヤ状導電体が前記膜本体中において網目構造を構成している、請求項7に記載の送信装置。   The transmission device according to claim 7, wherein the wire-like conductor forms a network structure in the film main body. 前記膜本体が導電性を有する樹脂を含んでいる、請求項6から8のいずれか一項に記載の送信装置。   The transmitting apparatus according to claim 6, wherein the film main body includes a resin having conductivity. 前記第1電極が塗布法により形成されてなる、請求項1から9のいずれか一項に記載の送信装置。   The transmission device according to any one of claims 1 to 9, wherein the first electrode is formed by a coating method. 変調光を出射する照明用光源を備える請求項1から10のいずれか一項に記載の送信装置と、前記照明用光源から出射された前記変調光を受光して電気信号に変換し、該電気信号を復調して受信データを生成する受信装置とを具備する、照明光通信システム。   A transmitter according to any one of claims 1 to 10, further comprising an illumination light source that emits modulated light, receives the modulated light emitted from the illumination light source, converts the modulated light into an electrical signal, and An illumination light communication system comprising: a reception device that demodulates a signal and generates reception data.
JP2008273625A 2008-10-23 2008-10-23 Transmission device for illumination light communication system Pending JP2010102969A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008273625A JP2010102969A (en) 2008-10-23 2008-10-23 Transmission device for illumination light communication system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008273625A JP2010102969A (en) 2008-10-23 2008-10-23 Transmission device for illumination light communication system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010102969A true JP2010102969A (en) 2010-05-06

Family

ID=42293450

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008273625A Pending JP2010102969A (en) 2008-10-23 2008-10-23 Transmission device for illumination light communication system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010102969A (en)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0529080A (en) * 1990-11-28 1993-02-05 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic electroluminescence element and light emitter suing the same
JP2003115803A (en) * 2001-10-09 2003-04-18 Nec Corp Light emitting device and communication system
JP2004292423A (en) * 2002-08-30 2004-10-21 Dainippon Ink & Chem Inc Iridium (iii) complex and organic electroluminescent element including the same
JP2004342391A (en) * 2003-05-14 2004-12-02 Konica Minolta Holdings Inc Organic electroluminescent device, lighting equipment and display unit
JP2005327910A (en) * 2004-05-14 2005-11-24 Nissan Motor Co Ltd Transparent electrode, transparent electrode body, manufacturing method thereof, and organo functional element
JP2006128636A (en) * 2004-09-29 2006-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd Organic electroluminescent element
JP2006171336A (en) * 2004-12-15 2006-06-29 Takiron Co Ltd Transparent electrode member for image display, and the image display device
WO2007022226A2 (en) * 2005-08-12 2007-02-22 Cambrios Technologies Corporation Nanowires-based transparent conductors
JP2007060078A (en) * 2005-08-23 2007-03-08 Japan Science & Technology Agency Bidirectional optical communication method by bifunctional organic diode and its system
JP2007531807A (en) * 2004-03-31 2007-11-08 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー Non-aqueous dispersion comprising doped conductive polymer and colloid-forming polymeric acid
WO2008028611A2 (en) * 2006-09-04 2008-03-13 Novaled Ag Organic light emitting component, and production method

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0529080A (en) * 1990-11-28 1993-02-05 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic electroluminescence element and light emitter suing the same
JP2003115803A (en) * 2001-10-09 2003-04-18 Nec Corp Light emitting device and communication system
JP2004292423A (en) * 2002-08-30 2004-10-21 Dainippon Ink & Chem Inc Iridium (iii) complex and organic electroluminescent element including the same
JP2004342391A (en) * 2003-05-14 2004-12-02 Konica Minolta Holdings Inc Organic electroluminescent device, lighting equipment and display unit
JP2007531807A (en) * 2004-03-31 2007-11-08 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー Non-aqueous dispersion comprising doped conductive polymer and colloid-forming polymeric acid
JP2005327910A (en) * 2004-05-14 2005-11-24 Nissan Motor Co Ltd Transparent electrode, transparent electrode body, manufacturing method thereof, and organo functional element
JP2006128636A (en) * 2004-09-29 2006-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd Organic electroluminescent element
JP2006171336A (en) * 2004-12-15 2006-06-29 Takiron Co Ltd Transparent electrode member for image display, and the image display device
WO2007022226A2 (en) * 2005-08-12 2007-02-22 Cambrios Technologies Corporation Nanowires-based transparent conductors
JP2007060078A (en) * 2005-08-23 2007-03-08 Japan Science & Technology Agency Bidirectional optical communication method by bifunctional organic diode and its system
WO2008028611A2 (en) * 2006-09-04 2008-03-13 Novaled Ag Organic light emitting component, and production method

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CSNC201008111022; 松水 真一 S. Matsuki: 'ピリジル置換トリアゾール誘導体をホストに用いたリン光有機EL素子 Phosphorescent organic light-emi' 第69回応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.3 *
JPN6012061751; 松水 真一 S. Matsuki: 'ピリジル置換トリアゾール誘導体をホストに用いたリン光有機EL素子 Phosphorescent organic light-emi' 第69回応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.3 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5090227B2 (en) Organic electroluminescence element, lighting device and display device
JP5402143B2 (en) Organic electroluminescence device
JP5676867B2 (en) Organic electroluminescence device
US8471457B2 (en) Transparent plate with transparent conductive film and organic electroluminescence element
KR20100022011A (en) Illuminating light communication system and transmitting device for illuminating light communication
WO2011013618A1 (en) Organic electroluminescence element
JP2010129825A (en) Organic electroluminescence element and method of manufacturing the same
JP2010102966A (en) Transmission device for illumination light communication system
JP2011003284A (en) Light extracting structure
JP2011154800A (en) Light-emitting device, and manufacturing method thereof
JP5254711B2 (en) Organic electroluminescence device and method for manufacturing the same
JP5314380B2 (en) Transmitting apparatus for illumination light communication system
JP5249075B2 (en) Organic electroluminescence device
JP2010153091A (en) Organic electroluminescent element
JP2010055864A (en) Organic electroluminescent device and its manufacturing method
JP2009181774A (en) Organic electroluminescent element, manufacturing method therefor, surface light source, illuminating device, and display device
JP5314410B2 (en) Organic electroluminescence device
JP5410774B2 (en) Organic electroluminescence device
JP2010102969A (en) Transmission device for illumination light communication system
JP5263061B2 (en) Light emitting device
JP2010102967A (en) Transmission device for illumination light communication system
JP2010102968A (en) Transmitter for illumination light communication systems
JP2010103778A (en) Transmitter for illumination light communication system
JP5216623B2 (en) Organic electroluminescence device and method for producing the same
JP5263060B2 (en) Light emitting device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110414

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120327

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130130

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130618