KR100811861B1 - Method for manufacturing of tactile sensor - Google Patents

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김종호
권현준
박연규
김민석
강대임
최재혁
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Abstract

본 발명은 제조 공정을 단순화하고, 정확하게 접촉 정보를 검출할 수 있는 촉각센서의 제조방법에 관한 것으로서, 이러한 본 발명은, 소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 금속층 상에 저항체를 형성하여 촉각센서의 상판을 제조하고, 소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 금속층 위에 저항체를 형성한 후 저항체를 제외한 금속층 위에 소정 두께의 스페이서를 형성하여 촉각센서의 하판을 제조한 후, 그 제조한 상판의 저항체와 하판의 저항체가 대향되도록 본딩하여 촉각센서를 제조함으로써, 촉각센서의 제조 공정을 단순화할 수 있게 된다.The present invention relates to a method for manufacturing a tactile sensor that can simplify a manufacturing process and accurately detect contact information. The present invention relates to a method for forming a coating layer and a metal layer in order on a polymer film having a predetermined thickness, and on a metal layer. By forming a resistor, a top plate of the tactile sensor is manufactured, a coating layer and a metal layer are sequentially formed on a polymer film having a predetermined thickness, a resistor is formed on the metal layer, and a spacer having a predetermined thickness is formed on the metal layer except for the resistor. After the lower plate is manufactured, the haptic sensor is manufactured by bonding the resistors of the manufactured upper plate and the resistors of the lower plate to face each other, thereby simplifying the manufacturing process of the tactile sensor.

촉각센서, 제조방법, 신호처리Tactile sensor, manufacturing method, signal processing

Description

촉각센서의 제조 방법{Method for manufacturing of tactile sensor}Method for manufacturing tactile sensor {Method for manufacturing of tactile sensor}

도 1a 내지 도 1c는 본 발명에서 힘 센서 기반 촉각센서의 원리를 설명하기 위한 도면으로서, 도 1a는 촉각센서의 정면 및 배면도이고, 도 1b는 촉각센서의 측면도이며, 도 1c는 촉각센서의 상판 및 하판을 본딩하여 완성한 촉각센서의 측면도이다. Figure 1a to 1c is a view for explaining the principle of the force sensor-based tactile sensor in the present invention, Figure 1a is a front and rear view of the tactile sensor, Figure 1b is a side view of the tactile sensor, Figure 1c of the tactile sensor Side view of the tactile sensor completed by bonding the upper and lower plates.

도 2a 내지 도 2j는 본 발명에 따른 촉각센서 제조방법을 보인 공정도.2a to 2j is a process chart showing a tactile sensor manufacturing method according to the present invention.

도 3은 본 발명에서 제조된 촉각센서의 신호처리장치 구성을 보인 블록도.Figure 3 is a block diagram showing the configuration of a signal processing device of the tactile sensor manufactured in the present invention.

도 4는 본 발명에서 촉각센서 모듈의 일 실시 예 회로도.Figure 4 is a circuit diagram of one embodiment of the tactile sensor module in the present invention.

도 5는 정보 표시기에서 사용하는

Figure 112006063147078-pat00001
프로그램의 화면 표시 일 예도.5 is used in the information indicator
Figure 112006063147078-pat00001
An example of the screen display of the program.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

101, 111… 캡톤 폴리이미드 필름101, 111... Kapton polyimide film

102, 112… 코팅층102, 112... Coating layer

103, 113… 금속층103, 113... Metal layer

104, 114… 저항체(레지스터)104, 114... Resistor (register)

115… 스페이서115... Spacer

본 발명은 촉각센서에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 제조 공정을 단순화하고, 정확하게 접촉 정보를 검출할 수 있는 촉각센서의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a tactile sensor, and more particularly, to a manufacturing method of a tactile sensor capable of simplifying a manufacturing process and accurately detecting contact information.

현재 접촉을 통한 주변환경의 정보, 즉 접촉력, 진동, 표면의 거칠기, 열전도도에 대한 온도변화 등을 획득하는 촉각기능은 차세대 정보수집 매체로 인식되고 있으며, 이 같은 촉각감각을 대체할 수 있는 생체모방형 촉각센서는 혈관 내의 미세수술, 암진단 등의 각종 의료진단 및 시술에 사용될 뿐만 아니라 향후 가상환경 구현기술에서 중요한 촉각제시 기술에 적용될 수 있기 때문에 그 중요성이 더해지고 있다.At present, the tactile function of acquiring information on the surrounding environment through contact, such as contact force, vibration, surface roughness, and temperature change for thermal conductivity, is recognized as a next-generation information collection medium. The mimic tactile sensor is not only used for various medical diagnosis and procedures such as microsurgery and cancer diagnosis in blood vessels, but also because of its importance, it can be applied to tactile presentation techniques that are important in the virtual environment realization technology.

생체모방형 촉각센서는 이미 산업용 로봇의 손목에 사용되고 있는 6자 유도의 힘/토크 센서와 로봇의 그립퍼(gripper) 용으로 접촉 압력 및 순간적인 미끄러짐을 감지할 수 있는 것이 개발된 바 있으나, 이는 감지부의 크기가 비교적 큰 관계로 민감도가 낮은 문제점을 안고 있다.The biomimetic tactile sensor has been developed to detect contact pressure and instant slippage for the gripper of the robot and the six-way inductive force / torque sensor already used on the wrist of an industrial robot. Due to the relatively large size of wealth, it has a problem of low sensitivity.

그리고 미소기전집적시스템(MEMS: micro electro mechanical systems) 제작기술을 이용하여 촉각센서의 개발 가능성을 보여준 바 있으나, 이들은 단지 접촉력에 대한 정보만을 획득할 수 있도록 제작되었기 때문에 외부환경에 대한 정보수집 면에서 제한적이었다.Although the development of tactile sensors has been shown using micro electro mechanical systems (MEMS) manufacturing technology, they are only designed to obtain information on contact force, so they can be used to collect information about the external environment. It was limited.

특히, 상기와 같은 기존의 촉각센서들은 그 제조공정이 복잡하다는 단점이 있었다.In particular, the conventional tactile sensors as described above had a disadvantage that the manufacturing process is complicated.

이에 본 발명은 상기와 같은 촉각센서에서 발생하는 제반 문제점을 해결하기 위해서 제안된 것으로서,Accordingly, the present invention has been proposed to solve various problems occurring in the tactile sensor as described above,

본 발명의 목적은, 제조 공정을 단순화하고, 정확하게 접촉 정보를 검출할 수 있는 촉각센서의 제조방법을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a manufacturing method of a tactile sensor which can simplify a manufacturing process and accurately detect contact information.

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상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 촉각센서의 제조 방법은,Method of manufacturing a tactile sensor according to the present invention for achieving the above object,

소정 두께의 고분자 필름(폴리이미드 필름, 폴리에스터 필름 등)상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 상기 금속층 상에 저항체를 형성하여 촉각센서의 상판을 제조하는 제1공정과;A first step of forming a coating layer and a metal layer in order on a polymer film (polyimide film, polyester film, etc.) having a predetermined thickness, and forming a resistor on the metal layer to manufacture a top plate of the tactile sensor;

소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 상기 금속층 상에 저항체를 형성한 후 상기 저항체를 제외한 금속층 상에 소정 두께의 스페이서를 형성하여 촉각센서의 하판을 제조하는 제2공정과;A second process of forming a bottom plate of the tactile sensor by forming a coating layer and a metal layer on a polymer film having a predetermined thickness in order, forming a resistor on the metal layer, and then forming a spacer having a predetermined thickness on the metal layer except for the resistor; ;

상기 제조한 상판의 저항체와 상기 하판의 저항체가 대향되도록 본딩하여 촉각센서를 제조하는 제3공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.And a third process of manufacturing the tactile sensor by bonding the resistors of the manufactured upper plate and the resistors of the lower plate to face each other.

여기서 제1공정은,Here, the first step is

소정 두께의 고분자 필름상에 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅층을 형성하는 공정과;Forming a coating layer by coating HD 4000 which is a polymer material on a polymer film having a predetermined thickness;

상기 코팅층 상에 금속을 증착하여 금속층을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하는 공정과;Depositing a metal on the coating layer to form a metal layer, and then forming a signal line using a lift-off process;

상기 금속층 위에 저항체를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.And forming a resistor on the metal layer.

상기에서, 소정 두께는 125㎛인 것을 특징으로 한다.In the above, the predetermined thickness is characterized in that 125㎛.

또한, 코팅층은 스핀코팅 장비를 사용하여 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the coating layer is characterized in that it is formed using a spin coating equipment.

또한, 금속 층은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것을 특징으로 한다.In addition, the metal layer is characterized in that the deposition using an E-beam (E-beam) or sputter (sputter) equipment.

또한, 금속 층은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 특징으로 한다.In addition, the metal layer is characterized in that selected from the group of titanium, nickel, gold.

또한, 상기 저항체를 형성하는 공정은 스크린 인쇄법(screen printing process)을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체를 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the step of forming the resistor is characterized in that the resistor is formed after applying a reduced pressure ink using a screen printing process (screen printing process).

또한, 상기 저항체를 형성하는 공정은 니크롬 및 저항체로 사용되는 합금을 이-빔 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the process of forming the resistor is characterized in that to form a pattern of the resistor through the etching after evaporation of the alloy used for nichrome and the resistor using an e-beam or sputtering equipment.

상기에서, 제2공정은,In the above, the second step,

소정 두께의 고분자 필름상에 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅층을 형성하는 공정과;Forming a coating layer by coating HD 4000 which is a polymer material on a polymer film having a predetermined thickness;

상기 코팅층 상에 금속을 증착하여 금속층을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하는 공정과;Depositing a metal on the coating layer to form a metal layer, and then forming a signal line using a lift-off process;

상기 금속층 위에 저항체를 형성하는 공정과;Forming a resistor on the metal layer;

상기 저항체를 제외한 상기 금속층 위에 스페이서를 형성하는 공정을 포함한다.Forming a spacer on the metal layer except for the resistor.

상기에서, 소정 두께는 50㎛인 것을 특징으로 한다.In the above, the predetermined thickness is characterized in that 50㎛.

또한, 코팅층은 스핀코팅 장비를 사용하여 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the coating layer is characterized in that it is formed using a spin coating equipment.

또한, 금속 층은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것을 특징으로 한다.In addition, the metal layer is characterized in that the deposition using an E-beam (E-beam) or sputter (sputter) equipment.

또한, 금속 층은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 특징으로 한다.In addition, the metal layer is characterized in that selected from the group of titanium, nickel, gold.

또한, 상기 저항체를 형성하는 공정은 스크린 인쇄법을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체를 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the step of forming the resistor is characterized in that the resistor is formed after applying the reduced pressure ink using a screen printing method.

또한, 상기 저항체를 형성하는 공정은 니크롬 및 저항체로 사용되는 합금을 이-빔 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the process of forming the resistor is characterized in that to form a pattern of the resistor through the etching after evaporation of the alloy used for nichrome and the resistor using an e-beam or sputtering equipment.

또한, 상기 제3공정의 본딩 방법은 양면 테이프를 이용하거나 필름 접착용 열 접착 테이프를 이용하여 접착하는 것을 특징으로 한다.In addition, the bonding method of the third step is characterized in that the adhesive by using a double-sided tape or a thermal adhesive tape for film bonding.

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이하 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면에 의거 상세히 설명하면 다음과 같다. 본 발명을 설명하기에 앞서 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, described in detail with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the present invention. If it is determined that the detailed description of the known function or configuration related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1a 내지 도 1c는 본 발명에서 힘 센서 기반 촉각센서의 감지 원리를 설명하기 위한 도면이다.1A to 1C are diagrams for explaining a sensing principle of a force sensor-based tactile sensor according to the present invention.

도 1a는 촉각센서의 정면 및 배면도로서, 여기서 참조부호 10, 20은 촉각센서 제조를 위한 기판으로서 고분자 필름(폴리이미드 필름, 폴리에스터 필름, 기타 등등)을 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 고분자 필름인 폴리이미드 필름을 기판으로 사용한 이유는 유연성을 가지면서 우수한 전기적, 열적, 기계적, 물리/화학적 특성이 있기 때문이다. 참조부호 21은 고분자 재료를 이용하여 형성된 코팅층을 나타내고, 참조부호 22는 저항체(Resistor)를 나타낸다.FIG. 1A is a front and rear view of the tactile sensor, wherein reference numerals 10 and 20 preferably use a polymer film (polyimide film, polyester film, etc.) as a substrate for manufacturing the tactile sensor. The reason why the polyimide film, which is a polymer film, is used as a substrate is because it has flexibility and excellent electrical, thermal, mechanical, and physical / chemical properties. Reference numeral 21 denotes a coating layer formed using a polymer material, and reference numeral 22 denotes a resistor.

도 1b는 촉각센서의 측면도로서, 참조부호 11은 고분자 재료를 이용하여 형성된 코팅층을 나타내고, 참조부호 12는 저항체를 나타낸다.FIG. 1B is a side view of the tactile sensor, in which reference numeral 11 denotes a coating layer formed using a polymer material and reference numeral 12 denotes a resistor.

도 1c는 촉각센서의 상판 및 하판을 본딩하여 완성한 촉각센서의 측면도이다. 여기서 참조부호 30은 스페이서를 나타낸다.Figure 1c is a side view of the tactile sensor completed by bonding the upper and lower plates of the tactile sensor. Here, reference numeral 30 denotes a spacer.

도 2a 내지 도 2j는 본 발명에 따른 촉각센서 제조방법을 보인 공정도이다.2a to 2j is a process chart showing a tactile sensor manufacturing method according to the present invention.

본 발명에 의해 제조되는 촉각센서는 먼저, 도 2a 내지 도 2d와 같은 공정을 통해서 상판을 제조하고, 도 2e 내지 도 2i와 같은 공정을 통해서 하판을 제조한 후, 도 2j와 같이 상판과 하판을 본딩하여 촉각센서를 제조하게 된다.In the tactile sensor manufactured by the present invention, first, a top plate is manufactured through a process as shown in FIGS. 2A to 2D, and a bottom plate is manufactured through a process as shown in FIGS. 2E to 2I. Bonding to produce a tactile sensor.

이를 좀 더 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.In more detail, it is as follows.

먼저, 상판 제조 과정을 살펴보면, 도 2a와 같은 125㎛ 두께를 갖는 캡톤 폴리이미드 필름(101)상에 도 2b와 같이 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅 층(102)을 형성하게 된다. 여기서 코팅층(102)은 통상의 스핀코팅 장비를 이용하여 코팅하는 것이 바람직하다. First, referring to the top plate manufacturing process, the coating layer 102 is formed by coating a polymer material HD 4000 on the Kapton polyimide film 101 having a thickness of 125 μm as shown in FIG. 2A as shown in FIG. 2B. Here, the coating layer 102 is preferably coated using a conventional spin coating equipment.

다음으로, 도 2c와 같이 상기 코팅층(102) 위에 금속을 증착하여 금속층(103)을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하게 된다. 여기서 사용되는 금속은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 사용하는 것이 바람직하며, 금속층(103)은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것이 바람직하다.Next, as shown in FIG. 2C, the metal is deposited on the coating layer 102 to form the metal layer 103, and then a signal line is formed by using a lift-off process. The metal used herein is preferably one selected from the group consisting of titanium, nickel, and gold, and the metal layer 103 is preferably deposited using an E-beam or sputtering equipment.

다음으로, 도 2d와 같이 상기 금속층(103) 위에 저항체(Resistor)(104)를 형성하게 된다. 여기서 저항체(104)는 감압잉크 또는 니크롬(Ni-Cr)을 사용하는 것이 바람직하며, 감압잉크를 사용하는 경우에는 스크린 인쇄법을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체(104)를 형성하고, 니크롬을 이용하는 경우에는 니크롬을 이-빔 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체(104)의 패턴을 형성하는 것이 바람직하다.Next, as shown in FIG. 2D, a resistor 104 is formed on the metal layer 103. Here, the resistor 104 preferably uses a reduced pressure ink or nichrome (Ni-Cr), and in the case of using a reduced pressure ink, after applying the reduced pressure ink using a screen printing method, the resistor 104 is formed, and the nichrome In this case, it is preferable to form a pattern of the resistor 104 through etching after nichrome is deposited using an e-beam or a sputtering equipment.

상기와 같은 방법으로 상판을 제조한 후에는 상판 제조와 동일한 방법으로 하판을 제조하게 된다.After the upper plate is manufactured by the same method as described above, the lower plate is manufactured by the same method as the upper plate.

하판 제조 과정을 살펴보면, 도 2e와 같이 50㎛ 두께를 갖는 캡톤 폴리이미드 필름(111)상에 도 2f와 같이 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅층(112)을 형성하게 된다. 여기서 코팅층(112)도 통상의 스핀코팅 장비를 이용하여 코팅하는 것이 바람직하다. Looking at the lower plate manufacturing process, the coating layer 112 is formed by coating a polymer material HD 4000 as shown in Figure 2f on the Kapton polyimide film 111 having a thickness of 50㎛ as shown in Figure 2e. Here, the coating layer 112 is also preferably coated using a conventional spin coating equipment.

다음으로, 도 2g와 같이 상기 코팅층(112) 위에 금속을 증착하여 금속 층(113)을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하게 된다. 여기서 사용되는 금속은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 사용하는 것이 바람직하며, 금속층(113)은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것이 바람직하다.Next, as illustrated in FIG. 2G, the metal is deposited on the coating layer 112 to form the metal layer 113, and then a signal line is formed by using a lift-off process. It is preferable to use a metal selected from the group of titanium, nickel, and gold, and the metal layer 113 is preferably deposited using an E-beam or a sputtering equipment.

다음으로, 도 2h와 같이 상기 금속층(113) 위에 저항체(Resistor)(114)를 형성하게 된다. 여기서 저항체(114)는 감압잉크 또는 니크롬(Ni-Cr)를 사용하는 것이 바람직하며, 감압잉크를 사용하는 경우에는 스크린 인쇄법을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체(114)를 형성하고, 니크롬을 이용하는 경우에는 니크롬을 이-빔 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체(114)의 패턴을 형성하는 것이 바람직하다.Next, as shown in FIG. 2H, a resistor 114 is formed on the metal layer 113. Here, the resistor 114 preferably uses a reduced pressure ink or nichrome (Ni-Cr), and in the case of using a reduced pressure ink, after applying the reduced pressure ink using a screen printing method, a resistor 114 is formed, and the nichrome In this case, it is preferable to form a pattern of the resistor 114 through etching after nichrome is deposited using an e-beam or a sputtering equipment.

다음으로, 상기 저항체(114)를 제외한 상기 금속층(113) 위에 소정 두께로 스페이서(115)를 형성하게 된다. 여기서 스페이서(115)는 절연 물질을 이용하는 것이 바람직하며, 두께는 레지스터(114)의 두께보다 2.1배 이상 높게 하여 상판과 하판 접착시 에어 갭(Air Gap)이 형성되도록 하는 것이 바람직하며, 에어 갭이 너무 높게 형성되면 측정하고자 하는 최소 힘 크기가 크게 되어 측정 감도가 저하되어 검출에 정확성이 떨어질 우려가 있으므로, 이러한 점을 고려하여 에어 갭을 설정하는 것이 바람직하다.Next, the spacer 115 is formed on the metal layer 113 except for the resistor 114 with a predetermined thickness. In this case, the spacer 115 may preferably use an insulating material. The thickness of the spacer 115 may be 2.1 times higher than that of the resistor 114 so that an air gap is formed when the upper plate and the lower plate are bonded to each other. If it is formed too high, the minimum force magnitude to be measured becomes large, the measurement sensitivity may be lowered, and the accuracy of detection may be lowered. Therefore, it is preferable to set the air gap in consideration of this point.

주지한 바와 같은 과정을 통해 상판과 하판을 제조하게 되면, 도 2j와 같이 상판의 레지스터(104)와 하판의 레지스터(114)가 대향되도록 본딩 공정을 통해 접촉하게 된다. 본딩된 촉각센서는 외부의 힘에 의해서 니크롬 저항체의 접촉 면적에 따른 저항률의 변화를 측정함으로써, 촉각센서의 감도를 나타낼 수 있다. 여기서 본딩 방법은 양면 테이프를 이용하거나 필름 접착용 열접착 테이프를 이용하여 접착하는 것이 바람직하며, 이로써 별도의 반도체 공정을 이용하지 않아도 되므로 적은 비용으로 쉽게 접착을 할 수 있게 된다.When the top plate and the bottom plate are manufactured through the process as is well known, the upper plate and the bottom plate 104 are in contact with each other through a bonding process as shown in FIG. 2J. The bonded tactile sensor may indicate the sensitivity of the tactile sensor by measuring a change in resistivity according to the contact area of the nichrome resistor by an external force. In this case, the bonding method is preferably bonded using a double-sided tape or a thermal adhesive tape for film bonding, and thus it is not necessary to use a separate semiconductor process, thereby easily bonding at a low cost.

도 3은 상기와 같이 제작된 촉각센서의 신호를 처리하는 "촉각센서의 신호처리장치"의 구성을 보인 블록도이다.Figure 3 is a block diagram showing the configuration of the "signal processing device of the tactile sensor" processing the signal of the tactile sensor produced as described above.

여기서 참조부호 210은 신호 선이 매트릭스 어레이 타입(Matrix Array Type)으로 형성된 촉각센서를 나타내고, 참조부호 220은 상기 촉각센서(210)의 입력단과 출력단에 연결되어 일정시간 간격으로 순차적으로 신호를 검출하는 릴레이 멀티플렉서(Relay Multiplexer)를 나타내며, 참조부호 230은 상기 릴레이 멀티플렉서(220)에서 출력된 신호를 소정 레벨로 증폭하는 아날로그 증폭기를 나타내고, 참조부호 240은 상기 아날로그 증폭기(230)에서 증폭된 검출신호를 분석하여 시간에 따른 힘의 변화를 파악하고, 이를 화면에 실시간으로 표시해주는 검출신호 분석 및 표시부를 나타낸다.Here, reference numeral 210 denotes a tactile sensor in which signal lines are formed in a matrix array type, and reference numeral 220 is connected to an input terminal and an output terminal of the tactile sensor 210 to sequentially detect signals at predetermined time intervals. Representing a relay multiplexer, reference numeral 230 denotes an analog amplifier for amplifying the signal output from the relay multiplexer 220 to a predetermined level, and reference numeral 240 denotes a detection signal amplified by the analog amplifier 230. Analyze the change of the force over time to identify the detection signal analysis and display that displays the real time on the screen.

도 4는 도 3의 촉각센서 모듈의 일 예를 보인 회로도로서, 릴레이 멀티플렉서를 생략한 것이다.FIG. 4 is a circuit diagram illustrating an example of the tactile sensor module of FIG. 3, in which a relay multiplexer is omitted.

출력단자의 출력은 아날로그 증폭기(230)의 부(-) 입력단자로 인가되고, 아날로그 증폭기(230 : OPAMP1)의 정(+) 입력단자에는 측정 대상인 저항(A)에 연결된 메인 입력라인 이외의 입력 라인으로 인가되는 전압과 동일한 크기의 전압이 인가된다.The output of the output terminal is applied to the negative input terminal of the analog amplifier 230, and the positive input terminal of the analog amplifier 230 (OPAMP1) is input other than the main input line connected to the resistance (A) to be measured. A voltage of the same magnitude as that applied to the line is applied.

여기서 아날로그 증폭기(OPAMP1)의 부(-) 입력단자에

Figure 112006063147078-pat00002
의 전압을 인가하고, 측정 대상인 저항(A)에 연결된 메인 입력라인 이외의 입력라인에는
Figure 112006063147078-pat00003
의 전압을 인가하는 데,
Figure 112006063147078-pat00004
Figure 112006063147078-pat00005
는 모두 같은 전압을 나타낸다.Here, the negative input terminal of the analog amplifier OPAMP1 is
Figure 112006063147078-pat00002
Is applied to input lines other than the main input line connected to the resistance (A) to be measured.
Figure 112006063147078-pat00003
To apply a voltage of
Figure 112006063147078-pat00004
Wow
Figure 112006063147078-pat00005
All represent the same voltage.

여기서 상기 아날로그 증폭기(OPAMP1)의 출력단자와 부(-) 입력단자 사이에 접속된 귀환 저항(Rf)의 저항치는 힘센서를 구성하는 저항의 저항치와 동일한 크기로 설정하는 것이 바람직하다.The resistance value of the feedback resistor Rf connected between the output terminal of the analog amplifier OPAMP1 and the negative input terminal is preferably set to the same size as the resistance value of the resistance constituting the force sensor.

아날로그 증폭기(OPAMP)의 출력(Vout) 값은 아래의 [수학식1]과 같다.The output Vout value of the analog amplifier OPAMP is shown in Equation 1 below.

Figure 112006063147078-pat00006
In
Figure 112006063147078-pat00006
In

이와 같이 구성된 촉각센서의 신호처리장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the signal processing device of the tactile sensor configured as described above are as follows.

제작된 촉각센서는 신호 선이 매트릭스 어레이 타입으로 구성되어 각 16개의 입력단과 출력단만으로 총 256개의 촉각검출요소의 측정이 가능하다(도 4에서는 각 8개의 입력단과 출력단만으로 보인 것이다). 총 256개의 촉각검출요소로부터 나오는 촉각센서(210)의 신호를 처리하기 위해서 릴레이 멀티플렉서(220)는 입력단과 출력단 각 16개의 릴레이 멀티플렉서를 사용하게 되며, 이를 이용하여 일정시간 간격으로 순차적으로 신호를 검출하게 된다. 여기서 각각의 촉각검출요소의 검출시간 간격은 약 6㎳로 167㎐이다.In the manufactured tactile sensor, the signal lines are composed of a matrix array type, so that a total of 256 tactile detection elements can be measured using only 16 input terminals and 16 output terminals, respectively (in FIG. 4, only eight input terminals and output terminals are shown). In order to process the signals of the tactile sensor 210 coming out of a total of 256 tactile detection elements, the relay multiplexer 220 uses 16 relay multiplexers for input and output terminals, respectively, to sequentially detect signals at predetermined time intervals. Done. Here, the detection time interval of each tactile detection element is about 6 ms and 167 ms.

검출된 신호는 아날로그 증폭기(230)(OPAMP1)에 의해서 소정 레벨로 증폭된 후 검출신호 분석 및 표시부(240)에 제공되고, 검출신호 분석 및 표시부(240)는 제공되는 검출신호를 실시간으로 프로그램상의 신호처리 알고리즘을 이용하여 접촉형상 및 압력분포를 영상 처리하여 화면에 디스플레이하게 된다.The detected signal is amplified to a predetermined level by the analog amplifier 230 (OPAMP1) and then provided to the detection signal analysis and display unit 240, and the detection signal analysis and display unit 240 displays the detected signal in real time on a program. The contact shape and the pressure distribution are image-processed and displayed on the screen using a signal processing algorithm.

즉, 검출신호 분석 및 표시부(240)는 신호 분리기와 적분기 및 정보 표시기를 구비한다. 신호 분리기는 입력된 검출신호로부터 검출된 시간과 순서대로 신호를 분리하게 되며, 여기서 분리된 검출신호는 작용한 힘의 시간에 따른 변화량을 나타내고 있기 때문에 적분기에서 적분을 취하여 시간에 따른 힘의 변화를 파악할 수 있도록 한다. 적분 신호는 정보 표시기에 입력되고, 정보 표시기는 영상처리 하여 힘의 분포 및 동적인 변화를 시간으로 화면에 표시해주게 된다. 여기서 정보 표시기는

Figure 112006063147078-pat00007
를 이용하여 구성한 도 5와 같은 프로그램을 이용한다. 도시된 바와 같이 릴레이 멀티플렉서의 채널선택, 신호검출시간 컨트롤 및 확인, 오프셋(Offset)의 유무와 오프셋 폭의 조절이 용이하도록 프로그래밍 되었고, 검출된 힘의 분포와 동적인 변화를 2D와 3D그래프를 이용하여 디스플레이하게 된다.That is, the detection signal analysis and display unit 240 includes a signal separator, an integrator, and an information indicator. The signal separator separates the signal from the inputted detection signal in the order of the detected time, and since the separated detection signal represents the amount of change in the applied force over time, the integral of the integrator is taken to take the change in the force over time. Make it understandable. The integral signal is input to the information indicator, and the information indicator displays an image by processing the force distribution and dynamic change on the screen. Where the information indicator is
Figure 112006063147078-pat00007
The program as shown in FIG. As shown, it is programmed to facilitate channel selection, signal detection time control and verification of the relay multiplexer, the presence and absence of offset, and the adjustment of the offset width. Display.

본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.The present invention is not limited to the above-described specific preferred embodiments, and various modifications can be made by any person having ordinary skill in the art without departing from the gist of the present invention claimed in the claims. Of course, such changes will fall within the scope of the claims.

이상에서 상술한 본 발명에 따르면, 촉각센서의 제작 공정을 단순화할 수 있으며, 상판과 하판의 반도체 공정을 생략하고 접착 테이프를 이용하여 상판과 하판을 접착하도록 함으로써, 촉각센서의 제작 비용도 줄일 수 있는 장점이 있다.According to the present invention described above, it is possible to simplify the manufacturing process of the tactile sensor, and to omit the semiconductor process of the upper plate and the lower plate and to bond the upper plate and the lower plate using an adhesive tape, thereby reducing the manufacturing cost of the tactile sensor. There is an advantage.

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Claims (19)

촉각센서의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the tactile sensor, 소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 상기 금속층 상에 저항체를 형성하여 촉각센서의 상판을 제조하는 제1공정과;A first step of forming a coating layer and a metal layer in order on a polymer film having a predetermined thickness, and forming a resistor on the metal layer to manufacture a top plate of the tactile sensor; 소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 상기 금속층 상에 저항체를 형성한 후 상기 저항체를 제외한 금속층 상에 소정 두께의 스페이서를 형성하여 촉각센서의 하판을 제조하는 제2공정과;A second process of forming a bottom plate of the tactile sensor by forming a coating layer and a metal layer on a polymer film having a predetermined thickness in order, forming a resistor on the metal layer, and then forming a spacer having a predetermined thickness on the metal layer except for the resistor; ; 상기 제조한 상판의 저항체와 상기 하판의 저항체가 대향되도록 본딩하여 촉각센서를 제조하는 제3공정을 포함하는 제조되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.And a third step of manufacturing the haptic sensor by bonding the resistors of the manufactured upper plate and the resistors of the lower plate to face each other. 제1항에 있어서, 상기 제1공정은,The method of claim 1, wherein the first step, 소정 두께의 고분자 필름상에 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅층을 형성하는 공정과;Forming a coating layer by coating HD 4000 which is a polymer material on a polymer film having a predetermined thickness; 상기 코팅층 상에 금속을 증착하여 금속층을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하는 공정과;Depositing a metal on the coating layer to form a metal layer, and then forming a signal line using a lift-off process; 상기 금속층 위에 저항체를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.A method of manufacturing a tactile sensor comprising the step of forming a resistor on the metal layer. 제2항에 있어서, 상기 소정 두께는 125㎛인 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The method of claim 2, wherein the predetermined thickness is 125 μm. 제2항에 있어서, 상기 코팅층은 스핀코팅 장비를 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The method of claim 2, wherein the coating layer is formed using spin coating equipment. 제2항에 있어서, 상기 금속 층은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The method of claim 2, wherein the metal layer is deposited using an E-beam or a sputter device. 제2항 또는 제5항에 있어서, 상기 금속 층은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.A method according to claim 2 or 5, wherein the metal layer is selected from the group consisting of titanium, nickel and gold. 제2항에 있어서, 상기 저항체는 스크린 인쇄법을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체를 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The method of manufacturing a tactile sensor according to claim 2, wherein the resistor is formed by applying a reduced pressure ink using a screen printing method. 제2항에 있어서, 상기 저항체는 니크롬(Ni-Cr)을 이-빔(E-Beam) 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The tactile sensor of claim 2, wherein the resistor is formed by etching Ni-Cr using an E-Beam or a sputtering device to form a pattern of the resistor through etching. Way. 제1항에 있어서, 상기 제2공정은,The method of claim 1, wherein the second step, 소정 두께의 고분자 필름상에 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅층을 형성하는 공정과;Forming a coating layer by coating HD 4000 which is a polymer material on a polymer film having a predetermined thickness; 상기 코팅층 상에 금속을 증착하여 금속층을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하는 공정과;Depositing a metal on the coating layer to form a metal layer, and then forming a signal line using a lift-off process; 상기 금속층 위에 저항체를 형성하는 공정과;Forming a resistor on the metal layer; 상기 저항체를 제외한 상기 금속층 위에 스페이서를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.And forming a spacer on the metal layer except for the resistor. 제9항에 있어서, 상기 소정 두께는 50㎛인 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.10. The method of claim 9, wherein the predetermined thickness is 50 μm. 제9항에 있어서, 상기 코팅층은 스핀코팅 장비를 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.10. The method of claim 9, wherein the coating layer is formed using spin coating equipment. 제9항에 있어서, 상기 금속 층은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.10. The method of claim 9, wherein the metal layer is deposited using an E-beam or sputter device. 제9항 또는 제12항에 있어서, 상기 금속 층은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The method of claim 9 or 12, wherein the metal layer is selected from the group consisting of titanium, nickel, and gold. 제9항에 있어서, 상기 저항체는 스크린 인쇄법을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체를 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.10. The method of claim 9, wherein the resistor is formed by applying a reduced pressure ink using a screen printing method to form a resistor. 제9항에 있어서, 상기 저항체는 니크롬(Ni-Cr)을 이-빔(E-Beam) 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The tactile sensor of claim 9, wherein the resistor is formed by etching Ni-Cr using an E-Beam or a sputtering device to form a pattern of the resistor through etching. Way. 제9항에 있어서, 상기 스페이서는 상기 저항체(레지스터)의 두께보다 2.1배 이상 높게 형성하여 상판과 하판 접착시 에어 갭(Air Gap)이 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.10. The method of claim 9, wherein the spacer is formed at least 2.1 times higher than the thickness of the resistor (resistor) to form an air gap when the upper plate and the lower plate are bonded to each other. 제1항에 있어서, 상기 제3공정의 본딩 방법은 양면 테이프를 이용하거나 필름 접착용 열 접착 테이프를 이용하여 접착하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.The method of manufacturing a tactile sensor according to claim 1, wherein the bonding method of the third step is performed by using a double-sided tape or a thermal adhesive tape for film bonding. 삭제delete 삭제delete
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