JPH08120176A - Semiconductive silicone rubber composition - Google Patents

Semiconductive silicone rubber composition

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JPH08120176A
JPH08120176A JP28119494A JP28119494A JPH08120176A JP H08120176 A JPH08120176 A JP H08120176A JP 28119494 A JP28119494 A JP 28119494A JP 28119494 A JP28119494 A JP 28119494A JP H08120176 A JPH08120176 A JP H08120176A
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JP
Japan
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silicone rubber
component
weight
group
parts
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JP28119494A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshito Ushio
嘉人 潮
Akito Nakamura
明人 中村
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DuPont Toray Specialty Materials KK
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Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To obtain a semiconductive silicone rubber composition useful for forming a semiconductive silicone rubber having volume resistivity of 10<2> -10<10> Ω.cm and of extremely little variation. CONSTITUTION: This semiconductive silicone rubber composition is composed of (A) 100 pts.wt. of a diorgano polyslioxane having an alkenyl group containing at least two silicon atoms in a molecule, (B) 2-30 pts.wt. of carbon black, (C) 2-20 pts.wt. of an electrically conductive whisker of a metal compound such as a potassium titanate whisker having a tin oxide layer and/or an antimony oxide layer on the surface and (D) a curing agent in an amount sufficient for curing the composition.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導電性シリコーンゴム
組成物に関し、詳しくは、体積抵抗率が102〜1010
Ω・cmであり、その値のばらつきが極めて少ない半導
電性のシリコーンゴムを形成するための半導電性シリコ
ーンゴム組成物を提供する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductive silicone rubber composition, more specifically, a volume resistivity of 10 2 to 10 10.
Provided is a semiconductive silicone rubber composition for forming a semiconductive silicone rubber having a value of Ω · cm and a very small variation in the value.

【0002】[0002]

【従来の技術およびその問題点】カーボンブラックを配
合したシリコーンゴム組成物(特開昭55−12065
6号公報参照)や銀被覆したチタン酸カリウムウィスカ
ーを配合したシリコーンゴム組成物(特開平5−194
856号公報参照)は、上記の導電性充填剤を多量に配
合することにより、体積抵抗率が102Ω・cm未満で
あり、その値のばらつきが少ない高導電性のシリコーン
ゴムを形成することができる。
2. Description of the Related Art Silicone rubber compositions containing carbon black (JP-A-55-12065)
No. 6) or a silicone rubber composition containing silver-coated potassium titanate whiskers (JP-A-5-194).
No. 856), a highly conductive silicone rubber having a volume resistivity of less than 10 2 Ω · cm and little variation in its value is formed by blending a large amount of the above-mentioned conductive filler. You can

【0003】しかし、これらの組成物において、上記の
導電性充填剤の配合量を少なくして体積抵抗率が102
〜1010Ω・cmである半導電性のシリコーンゴムを形
成しようとすると、その体積抵抗率のばらつきが大き
く、しばしば大きな問題となっていた。
However, in these compositions, the volume resistivity was 10 2 by reducing the compounding amount of the above-mentioned conductive filler.
Attempting to form a semiconductive silicone rubber having a resistivity of about 10 10 Ω · cm causes a large variation in volume resistivity, which is often a big problem.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記の
課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達
した。すなわち、本発明の目的は、体積抵抗率が102
〜1010Ω・cmであり、その値のばらつきが極めて少
ない半導電性のシリコーンゴムを形成するための半導電
性シリコーンゴム組成物を提供することにある。
The present inventors have arrived at the present invention as a result of extensive studies to solve the above problems. That is, the object of the present invention is to obtain a volume resistivity of 10 2
The purpose of the present invention is to provide a semiconductive silicone rubber composition for forming a semiconductive silicone rubber, which has a value of about 10 10 Ω · cm and has a very small variation in the value.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段およびその作用】本発明
は、 (A)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するジオルガ ノポリシロキサン 100重量部、 (B)カーボンブラック 2〜30重量部、 (C)金属化合物系導電性ウィスカー 2〜20重量部および (D)硬化剤(本組成物を硬化させるに十分な量) からなる半導電性シリコーンゴム組成物に関する。
MEANS FOR SOLVING THE PROBLEMS AND ACTIONS OF THE INVENTION The present invention provides (A) 100 parts by weight of diorganopolysiloxane having at least two silicon-bonded alkenyl groups in one molecule, (B) carbon black 2-30 The present invention relates to a semiconductive silicone rubber composition comprising 1 part by weight, (C) 2 to 20 parts by weight of a metal compound type conductive whisker, and (D) a curing agent (a sufficient amount to cure the composition).

【0006】以下、本発明の半導電性シリコーンゴム組
成物について詳細に説明する。(A)成分のジオルガノポ
リシロキサンは本組成物の主剤であり、一分子中に少な
くとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有すること
が必要である。(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル
基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル
基、ペンテニル基、ヘキセニル基が挙げられ、好ましく
は、ビニル基、ヘキセニル基である。(A)成分中のアル
ケニル基の結合位置は特に限定されず、例えば、分子鎖
末端、分子鎖側鎖、分子鎖末端および分子鎖側鎖が挙げ
られる。また、(A)成分中のアルケニル基以外のケイ素
原子結合有機基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等のアルキル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール
基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、クロ
ロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、
3−クロロプロピル基、2−シアノエチル基等の置換も
しくは非置換の一価炭化水素基が挙げられ、好ましく
は、メチル基、フェニル基である。また、(A)成分の分
子構造は実質的に直鎖状であるが、その分子構造の一部
に分岐構造を有してもよい。また、(A)成分の粘度は特
に限定されず、実用上好ましくは、25℃における粘度
が50センチポイズから生ゴム状の粘度までであり、よ
り好ましくは、25℃における粘度が100センチポイ
ズから生ゴム状の粘度までである。
The semiconductive silicone rubber composition of the present invention will be described in detail below. The component (A), the diorganopolysiloxane, is the main ingredient of the composition, and it is necessary that it has at least two silicon-bonded alkenyl groups in one molecule. Examples of the silicon atom-bonded alkenyl group in the component (A) include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group and a hexenyl group, and a vinyl group and a hexenyl group are preferable. The bonding position of the alkenyl group in the component (A) is not particularly limited, and examples thereof include a molecular chain terminal, a molecular chain side chain, a molecular chain terminal and a molecular chain side chain. Examples of the silicon atom-bonded organic group other than the alkenyl group in the component (A) include, for example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and pentyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, etc. An aryl group, a benzyl group, an aralkyl group such as a phenethyl group, a chloropropyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group,
Examples thereof include a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group such as a 3-chloropropyl group and a 2-cyanoethyl group, and a methyl group and a phenyl group are preferable. Further, the molecular structure of the component (A) is substantially linear, but a part of the molecular structure may have a branched structure. In addition, the viscosity of the component (A) is not particularly limited, and practically preferably, the viscosity at 25 ° C. is from 50 centipoises to raw rubber-like viscosity, and more preferably, the viscosity at 25 ° C. is 100 centipoises to raw rubber-like. Up to viscosity.

【0007】このような(A)成分のジオルガノポリシロ
キサンとしては、例えば、分子鎖両末端トリメチルシロ
キシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサ
ン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メ
チルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重
合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチル
シロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニル
シロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ
基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・
メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)シロキサ
ン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封
鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニ
ルシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン、分子
鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチル(3,
3,3−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体、
分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシ
ロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両
末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン
・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジ
メチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチ
ル(3,3,3−トリフルオロプロピル)シロキサン共
重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジ
メチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフ
ェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端シラノール基
封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重
合体、分子鎖両末端シラノール基封鎖メチルビニルシロ
キサン・メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)
シロキサン共重合体、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジ
メチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフ
ェニルシロキサン共重合体が挙げられる。(A)成分とし
ては、これらのジオルガノポリシロキサンを単独または
二種以上の混合物として配合することができる。
Examples of the diorganopolysiloxane of the component (A) include a dimethylsiloxy / methylvinylsiloxane copolymer capped with trimethylsiloxy groups at both molecular chain terminals, and a methylvinylsiloxane with trimethylsiloxy groups capped at both molecular chain terminals. Methylphenylsiloxane copolymer, dimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxysiloxane-methylvinylsiloxane-Methylphenylsiloxane copolymer, dimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane-
Methyl (3,3,3-trifluoropropyl) siloxane copolymer, dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane at both molecular chain ends, dimethylvinylsiloxy group-blocked methylphenylpolysiloxane at both molecular chain ends, dimethylvinylsiloxane at both molecular chain ends Siloxy group-blocked methyl (3
3,3-trifluoropropyl) siloxane copolymer,
Molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy group blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy group blocked dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy group blocked dimethylsiloxane Methyl (3,3,3-trifluoropropyl) siloxane copolymer, dimethylvinylsiloxy group-capped dimethylsiloxane at both molecular chain ends, methylvinylsiloxane, methylphenylsiloxane copolymer, silanol group-capped dimethylsiloxane at both molecular chain ends Methyl vinyl siloxane copolymer, silanol group-blocked methyl vinyl siloxane / methyl (3,3,3-trifluoropropyl)
Examples thereof include siloxane copolymers and silanol group-capped dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymers having molecular chain terminals at both ends. As the component (A), these diorganopolysiloxanes may be blended alone or as a mixture of two or more.

【0008】(B)成分のカーボンブラックは、本組成物
を硬化して得られるシリコーンゴムに半導電性を付与す
るための成分である。(B)成分は特に限定されず、その
製法から、例えば、ファーネスブラック、ランプブラッ
ク、チャンネルブラック、サーマルブラックが挙げら
れ、また、その原料から、例えば、オイルブラック、ア
セチレンブラックが挙げられる。また、(B)成分の特性
は特に限定されないが、例えば、その表面積が10m2
/g以上であることが好ましく、特に、これが50m2
/g以上であることが好ましく、また、その吸油量が5
0ミリリットル/100g〜350ミリリットル/10
0gであることが好ましい。このような(B)成分は、コ
ンチネツクスCF、コンチネツクスSCF(以上、コン
チネンタルカーボン社製;商品名)、バルカンC、バル
カンSC、バルカンXC−72(以上、キヤボツト社
製;商品名)、旭HS−500(旭カーボン株式会社
製;商品名)、ケツチェンブラックEC(ライオン・ア
クゾ株式会社製;商品名)、コウラツクスL(デグッサ
社製;商品名)、デンカブラック(電気化学工業株式会
社製;商品名)として入手可能である。
The carbon black as the component (B) is a component for imparting semiconductivity to the silicone rubber obtained by curing the composition. The component (B) is not particularly limited, and examples thereof include furnace black, lamp black, channel black, and thermal black, and examples of the raw materials thereof include oil black and acetylene black. The characteristics of the component (B) are not particularly limited, but for example, its surface area is 10 m 2
/ G or more, especially 50m 2
/ G or more, and its oil absorption is 5
0 ml / 100 g to 350 ml / 10
It is preferably 0 g. Such a component (B) includes Continex CF, Continex SCF (above, product name of Continental Carbon Co., Ltd.), Vulcan C, Vulcan SC, Vulcan XC-72 (above product name of Kyabobot; product name), Asahi HS- 500 (manufactured by Asahi Carbon Co., Ltd .; trade name), Ketsu Chen Black EC (manufactured by Lion Akzo Co., Ltd .; trade name), Koratsuku L (manufactured by Degussa Co., trade name), Denka Black (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .; trade name) First name) is available.

【0009】(B)成分の配合量は、(A)成分100重量
部に対して2〜30重量部の範囲内である。これは、
(B)成分の配合量が、(A)成分100重量部に対して2
重量部未満であるか、または、これが30重量部をこえ
る場合には、得られるシリコーンゴムが半導電性でなく
なったり、その体積抵抗率のばらつきが大きくなるため
である。また、(B)成分の配合量が、(A)成分100重
量部に対して30重量部をこえる場合には、得られるシ
リコーンゴム組成物の流動性が著しく低下して、その取
扱作業性が低下するためである。
The blending amount of the component (B) is in the range of 2 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A). this is,
The blending amount of the component (B) is 2 with respect to 100 parts by weight of the component (A).
This is because if it is less than 30 parts by weight, or if it exceeds 30 parts by weight, the obtained silicone rubber is not semi-conductive or its volume resistivity varies greatly. Further, when the amount of the component (B) compounded exceeds 30 parts by weight relative to 100 parts by weight of the component (A), the fluidity of the obtained silicone rubber composition is remarkably reduced, and the handling workability thereof is reduced. This is because it will decrease.

【0010】(C)成分の金属化合物系導電性ウィスカー
は、本組成物を硬化して得られるシリコーンゴムに半導
電性を付与するための成分であり、(B)成分のカーボン
ブラックと併用することにより、得られる半導電性のシ
リコーンゴムの体積抵抗率のばらつきを抑えることがで
きる。(C)成分の主体である金属化合物ウィスカーとし
ては、例えば、チタン酸カリウムウィスカー、炭化ケイ
素ウィスカー、酸化亜鉛ウィスカー、ホウ酸アルミニウ
ムウィスカー、二酸化チタンウィスカーが挙げられる。
(C)成分としては、例えば、上記の金属化合物ウィスカ
ー、表面に銀層を有する上記の金属化合物ウィスカー、
表面に導電性カーボン層を有する上記の金属化合物ウィ
スカー、表面に酸化錫層および/または酸化アンチモン
層を有する上記の金属化合物ウィスカーが挙げられる。
(C)成分を製造する方法は特に限定されず、例えば、上
記の金属化合物ウィスカーの表面に銀鏡反応により銀を
被覆する方法、上記の金属化合物ウィスカーの表面にC
VD蒸着法により導電性カーボンを蒸着する方法、上記
の金属化合物ウィスカーの表面に湿式吸着法により酸化
アンチモンをドープした導電性酸化錫を吸着する方法が
挙げられる。(C)成分はウィスカー状であり、その寸法
は特に限定されないが、例えば、(C)成分の平均繊維長
は1〜100μmの範囲内であることが好ましく、特
に、これが10〜20μmの範囲内であることが好まし
い。また、(C)成分の繊維径は0.01〜10μmの範
囲内であることが好ましく、特に、0.2〜0.5μm
の範囲内であることが好ましい。さらに、(C)成分の吸
油量は10〜300ミリリットル/100gの範囲内で
あることが好ましく、特に、150〜250ミリリット
ル/100gの範囲内であることが好ましい。このよう
な(C)成分として、表面に導電性カーボン層を有するチ
タン酸カリウムウィスカーはデントールBKとして入手
可能であり、表面に酸化錫層および酸化アンチモン層を
有するチタン酸カリウムウィスカーはデントールWKと
して入手可能であり、また、表面に銀層を有するチタン
酸カリウムウィスカーはスーパーデントール(以上、大
塚化学株式会社製;商品名)として入手可能である。
The metal compound type conductive whiskers as the component (C) are components for imparting semiconductivity to the silicone rubber obtained by curing the composition, and are used in combination with the carbon black as the component (B). This makes it possible to suppress variations in the volume resistivity of the semiconductive silicone rubber obtained. Examples of the metal compound whiskers, which are the main component (C), include potassium titanate whiskers, silicon carbide whiskers, zinc oxide whiskers, aluminum borate whiskers, and titanium dioxide whiskers.
Examples of the component (C) include the above metal compound whiskers, the above metal compound whiskers having a silver layer on the surface,
The above-mentioned metal compound whiskers having a conductive carbon layer on the surface and the above-mentioned metal compound whiskers having a tin oxide layer and / or an antimony oxide layer on the surface can be mentioned.
The method for producing the component (C) is not particularly limited, and examples thereof include a method of coating the surface of the above metal compound whiskers with silver by a silver mirror reaction, and a method of coating the surface of the above metal compound whiskers with C.
Examples thereof include a method of depositing conductive carbon by the VD vapor deposition method and a method of adsorbing conductive tin oxide doped with antimony oxide on the surface of the above metal compound whiskers by a wet adsorption method. The component (C) has a whisker shape, and its size is not particularly limited, but for example, the average fiber length of the component (C) is preferably in the range of 1 to 100 μm, and particularly, in the range of 10 to 20 μm. Is preferred. Further, the fiber diameter of the component (C) is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, particularly 0.2 to 0.5 μm.
It is preferably within the range. Further, the oil absorption of the component (C) is preferably in the range of 10 to 300 ml / 100 g, and particularly preferably in the range of 150 to 250 ml / 100 g. As the component (C), potassium titanate whiskers having a conductive carbon layer on the surface are available as dentol BK, and potassium titanate whiskers having a tin oxide layer and an antimony oxide layer on the surface are available as dentol WK. Further, potassium titanate whiskers having a silver layer on the surface are available as Super Dentol (the above, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd .; trade name).

【0011】(C)成分の配合量は、(A)成分100重量
部に対して2〜20重量部の範囲内である。これは、
(C)成分の配合量が、(A)成分100重量部に対して2
重量部未満であるか、または、これが20重量部をこえ
る場合には、得られるシリコーンゴムが半導電性でなく
なったり、また、その体積抵抗率のばらつきが大きくな
るためである。また、(C)成分の配合量が、(A)成分1
00重量部に対して20重量部をこえると、得られるシ
リコーンゴム組成物の流動性が著しく低下し、その取扱
作業性が低下するためである。
The compounding amount of the component (C) is in the range of 2 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A). this is,
The compounding amount of the component (C) is 2 with respect to 100 parts by weight of the component (A).
When the amount is less than 20 parts by weight or exceeds 20 parts by weight, the obtained silicone rubber is not semiconductive and the volume resistivity varies greatly. Further, the blending amount of the component (C) is the same as that of the component (A) 1
This is because if it exceeds 20 parts by weight with respect to 00 parts by weight, the fluidity of the obtained silicone rubber composition is remarkably lowered and the handling workability thereof is deteriorated.

【0012】(D)成分の硬化剤は本組成物を硬化させる
ための成分である。(D)成分としては、例えば、有機過
酸化物、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水
素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
と白金系触媒との混合物が挙げられる。(D)成分の有機
過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブ
チルパーベンゾエイト、2,4−ジクロロベンゾイルパ
ーオキサイド、モノクロロベンゾイルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−
ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサンが挙げられる。ま
た、(D)成分中のオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンとしては、例えば、分子鎖両末端トリメチルシロキシ
基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両
末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メ
チルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端
ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシ
ロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキ
シ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシ
ロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基
封鎖メチルフェニルシロキサン・メチルハイドロジェン
シロキサン共重合体が挙げられ、(D)成分中の白金系触
媒としては、例えば、白金黒、塩化白金酸、白金とオレ
フィンとの錯体、白金とアルケニルシロキサンとの錯
体、塩化白金酸のアルコール溶液、白金担持の微粉末状
シリカ、白金担持の活性炭、これらの白金系触媒を含有
する、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレー
ト樹脂、ポリスチレン樹脂、ナイロン樹脂、シリコーン
樹脂等の熱可塑性有機樹脂微粒子が挙げられる。
The component (D) curing agent is a component for curing the composition. Examples of the component (D) include organic peroxides and a mixture of an organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule and a platinum catalyst. Examples of the organic peroxide as the component (D) include benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, monochlorobenzoyl peroxide,
Dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-
Di (t-butylperoxy) hexane may be mentioned. Examples of the organohydrogenpolysiloxane in the component (D) include, for example, methylhydrogenpolysiloxane blocked with trimethylsiloxy groups at both ends of the molecular chain, and dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer blocked with trimethylsiloxy groups at both ends of the molecular chain. Dimethylpolysiloxane with dimethylhydrogensiloxy group blocked at both ends of the molecular chain, dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer with dimethylhydrogensiloxy group blocked at both ends of the molecular chain, methylphenylsiloxane / methylhydro with trimethylsiloxy group blocked at both ends of the molecular chain Examples of the platinum-based catalyst in the component (D) include platinum black, chloroplatinic acid, a platinum-olefin complex, a platinum-alkenylsiloxane complex, and a chloroplatinic acid adduct. Lucol solution, platinum-supported fine powder silica, platinum-supported activated carbon, and thermoplastic organic resin fine particles containing these platinum-based catalysts such as polycarbonate resin, polymethylmethacrylate resin, polystyrene resin, nylon resin, silicone resin, etc. To be

【0013】(D)成分の配合量は本組成物を硬化させる
に十分な量であり、例えば、(D)成分が有機過酸化物で
ある場合には、(A)成分100重量部に対して0.1〜
10重量部の範囲内であることが好ましく、また、(D)
成分がオルガノハイドロジェンポリシロキサンと白金系
触媒の混合物である場合には、(D)成分中のオルガノハ
イドロジェンポリシロキサンの配合量は、(A)成分10
0重量部に対して0.5〜20重量部の範囲であること
が好ましく、また、(D)成分中の白金系触媒の配合量
は、この触媒中の白金金属の含有量が(A)成分100万
重量部に対して0.1〜1000重量部の範囲内である
ことが好ましい。
The blending amount of the component (D) is an amount sufficient to cure the composition. For example, when the component (D) is an organic peroxide, it is added to 100 parts by weight of the component (A). 0.1 to
It is preferably in the range of 10 parts by weight, and (D)
When the component is a mixture of the organohydrogenpolysiloxane and the platinum-based catalyst, the amount of the organohydrogenpolysiloxane in the component (D) is 10
The amount of the platinum-based catalyst in the component (D) is preferably 0.5 to 20 parts by weight with respect to 0 part by weight, and the platinum metal content in the catalyst is (A). It is preferably within the range of 0.1 to 1000 parts by weight with respect to 1 million parts by weight of the component.

【0014】本組成物は、上記の(A)成分〜(D)成分か
らなるが、本発明の目的を損なわない限り、その他の任
意の成分として、例えば、ヒュームドシリカ、湿式シリ
カ、ヒュームド酸化チタン等の補強性充填剤、および、
これらの補強性充填剤の表面をオルガノアルコキシシラ
ン、オルガノハロシラン、オルガノシラザン、分子鎖両
末端がシラノール基で封鎖されたジオルガノシロキサン
オリゴマー、環状オルガノシロキサン等の有機ケイ素化
合物により表面処理してなる補強性充填剤が挙げられ
る。これらの補強性充填剤の表面を有機ケイ素化合物に
より処理する方法は特に限定されず、予め、これらの補
強性充填剤を上記の有機ケイ素化合物により処理したも
のであってもよく、また、これらの補強性充填剤を(A)
成分に配合する際に、上記の有機ケイ素化合物を共に配
合して処理してもよい。また、このような補強性充填剤
の粒子径および表面積は特に限定されないが、その粒子
径は50mμ以下であることが好ましく、また、その表
面積は50m2/g以上であることが好ましく、特に、
これが250m2/g以上であることが好ましい。ま
た、その他の任意の成分としては、例えば、石英微粉
末、溶融シリカ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化
アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸カルシウ
ム、ケイ酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、ケイ藻土、タルク、マイカ、クレイ、水酸化ア
ルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ
素等の非補強性充填剤、酸化鉄、酸化セリウム、セリウ
ム脂肪酸塩等の耐熱剤、界面活性剤等の帯電防止剤、難
燃剤、内部離型剤、可塑剤、ビニル基を含有する分岐状
もしくは樹脂状のオルガノポリシロキサンが挙げられ
る。さらに、(D)成分としてオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンと白金系触媒との混合物を用いる場合に
は、本組成物の可使時間を調節する目的で、3−メチル
−1−ブチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘ
キシン−3−オール、フェニルブチノール等のアルキン
アルコール、3−メチル−3−ペンテン−1−イン、
3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のエンイ
ン化合物、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,
5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,
3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラヘ
キセニルシクロテトラシロキサン、メチルトリス(メチ
ルイソブチノキシ)シラン、ベンゾトリアゾール、アセ
チレン系化合物、ハイドロジェンパーオキサイド化合物
等の付加反応抑制剤を配合することができる。
The composition comprises the above-mentioned components (A) to (D), but other optional components such as fumed silica, wet silica and fumed oxidation can be used as long as the object of the present invention is not impaired. Reinforcing filler such as titanium, and
The surface of these reinforcing fillers is treated with an organosilicon compound such as an organoalkoxysilane, an organohalosilane, an organosilazane, a diorganosiloxane oligomer whose molecular chain ends are blocked with silanol groups, or a cyclic organosiloxane. Reinforcing fillers may be mentioned. The method of treating the surface of these reinforcing fillers with an organic silicon compound is not particularly limited, and may be one obtained by treating these reinforcing fillers with the above organic silicon compound in advance. Reinforcing filler (A)
When blended into the components, the above organosilicon compound may be blended together and treated. The particle size and surface area of such a reinforcing filler are not particularly limited, but the particle size is preferably 50 mμ or less, and the surface area is preferably 50 m 2 / g or more, and particularly,
It is preferably 250 m 2 / g or more. In addition, as other optional components, for example, quartz fine powder, fused silica, titanium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum silicate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium carbonate, magnesium carbonate, diatomaceous earth, Non-reinforcing fillers such as talc, mica, clay, aluminum hydroxide, aluminum nitride, silicon nitride, and boron nitride, heat-resistant agents such as iron oxide, cerium oxide, and cerium fatty acid salts, antistatic agents such as surfactants, difficult Examples thereof include a flame retardant, an internal mold release agent, a plasticizer, and a branched or resinous organopolysiloxane containing a vinyl group. Furthermore, when a mixture of an organohydrogenpolysiloxane and a platinum-based catalyst is used as the component (D), 3-methyl-1-butyn-3-ol, for the purpose of adjusting the pot life of the composition, Alkyne alcohols such as 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol and phenylbutynol, 3-methyl-3-penten-1-yne,
Enyne compounds such as 3,5-dimethyl-3-hexen-1-yne, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3
5,7-Tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,
Suppression of addition reaction of 3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane, methyltris (methylisobutynoxy) silane, benzotriazole, acetylene compound, hydrogen peroxide compound, etc. Agents can be added.

【0015】本組成物は、上記の(A)成分〜(D)成分、
および、その他任意の成分とを均一に混合することによ
り調製される。本組成物を調製する方法は特に限定され
ず、例えば、上記の(A)成分〜(C)成分からなる組成物
を調製後、これに(D)成分をロールにより練り込み作業
(通称、キャタライジング)を行うことが一般的であ
る。上記の(A)成分〜(C)成分からなる組成物を調製す
るための装置は特に限定されず、例えば、ヘンシェルミ
キサー、ロスミキサー、ニーダミキサー、2軸連続混練
押出機が挙げられる。また、本発明の組成物を調製する
ため、例えば、上記例示の混練装置において、(A)成分
に(B)成分と(C)成分を均一に混練後、これに(D)成分
を混練する方法、(A)成分の一部に(B)成分と(C)成分
を均一に混練後、これに(A)成分の残部と(D)成分を配
合して均一に混練する方法を用いることができる。
The composition comprises the above-mentioned components (A) to (D),
And, it is prepared by uniformly mixing with other optional components. The method for preparing the present composition is not particularly limited, and, for example, after preparing a composition comprising the above-mentioned components (A) to (C), the component (D) is kneaded with a roll (commonly known as catalysis). Rising) is generally performed. The apparatus for preparing the composition comprising the above components (A) to (C) is not particularly limited, and examples thereof include a Henschel mixer, a Ross mixer, a kneader mixer, and a twin-screw continuous kneading extruder. Further, in order to prepare the composition of the present invention, for example, in the above-mentioned kneading device, the component (A) is uniformly kneaded with the component (B) and the component (C), and then the component (D) is kneaded. The method is to uniformly knead the components (B) and (C) to a part of the components (A), and then mix the rest of the components (A) and the components (D) and knead them uniformly. You can

【0016】本発明の半導電性シリコーンゴム組成物
は、これを硬化して得られるシリコーンゴムの体積抵抗
率が102〜1010Ω・cmの範囲内であり、かつ、そ
の値のばらつきが極めて少ないので、これを帯電防止材
料、半導電性ロール等に使用することができる。本組成
物を用いてロールを成形する条件は特に限定されず、例
えば、本組成物を圧縮成形機、射出成形機、トランスフ
ァー成形機等の周知のゴム成形機により、ロール芯金に
被覆して、50℃〜250℃で数秒〜数分間加熱するこ
とにより半導電性ロールを成形することができる。ま
た、本組成物を従来のロール表面に被覆した後、これを
硬化して半導電性ロールを成形することもできる。
In the semiconductive silicone rubber composition of the present invention, the volume resistivity of the silicone rubber obtained by curing the composition is in the range of 10 2 to 10 10 Ω · cm, and the variation in the value is caused. Since it is extremely small, it can be used in antistatic materials, semiconductive rolls, and the like. The conditions for molding a roll using the present composition are not particularly limited. For example, the present composition is coated on a roll core metal by a known rubber molding machine such as a compression molding machine, an injection molding machine, or a transfer molding machine. The semiconductive roll can be formed by heating at 50 ° C to 250 ° C for several seconds to several minutes. Alternatively, a semi-conductive roll can be formed by coating the present composition on the surface of a conventional roll and then curing the composition.

【0017】[0017]

【実施例】本発明の半導電性シリコーンゴム組成物につ
いて、これを実施例により詳細に説明する。なお、実施
例中、粘度は25℃において測定した値である。また、
シリコーンゴムの体積抵抗率は、半導電性シリコーンゴ
ム組成物を硬化して作成したサンプル(1)〜(10)のシ
リコーンゴムシートをJIS C 2123(電気用シ
リコーンゴムコンパウンド試験方法)に規定される方法
により測定した。これらのシリコーンゴムの体積抵抗率
の平均値を求め、これらの体積抵抗率のばらつきを、そ
の体積抵抗率の常用対数の標準偏差により評価した。
EXAMPLES The semiconductive silicone rubber composition of the present invention will be described in detail with reference to Examples. In the examples, the viscosity is a value measured at 25 ° C. Also,
The volume resistivity of silicone rubber is specified in JIS C 2123 (electrical silicone rubber compound test method) for the silicone rubber sheets of Samples (1) to (10) prepared by curing a semiconductive silicone rubber composition. It was measured by the method. The average value of the volume resistivities of these silicone rubbers was obtained, and the dispersion of these volume resistivities was evaluated by the standard deviation of the common logarithm of the volume resistivities.

【0018】[実施例1]生ゴム状の分子鎖両末端がト
リメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシロキサン・
メチルビニルシロキサン共重合体(ジメチルシロキサン
とメチルビニルシロキサンとのモル比は99.84:
0.16である。この平均重合度は3000である。)
100重量部、表面積が200m2/gであるヒューム
ドシリカ30重量部、30センチポイズの分子鎖両末端
シラノール基封鎖ジメチルポリシロキサン5重量部をニ
ーダミキサーにより予備混合した後、これを170℃で
加熱混合した。その後、これにケッチェンブラックEC
(ライオン・アクゾ株式会社製のカーボンブラックの商
品名:表面積=1000m2/g、吸油量=340ミリ
リットル/100g)4重量部、デントールWK−20
0(大塚化学株式会社製の表面に酸化錫層および酸化ア
ンチモン層を有するチタン酸カリウムウィスカーの商品
名:平均繊維長=10〜20μm、繊維径=0.2〜
0.5μm、吸油量=170〜220ミリリットル/1
00g)10重量部を均一に混合してシリコーンゴムベ
ース(I)を調製した。次いで、このシリコーンゴムベー
ス(I)100重量部および2,5−ジメチル−ビス
(2, 5−t−ブチルパーオキシ)ヘキサン1重量部
を2本ロールにより均一に混合して、本発明の半導電性
シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム
組成物を170℃、10分間の条件で加熱プレスして、
厚さ1mmのシリコーンゴムシートを10枚作成し、さ
らに、これらを200℃の熱風循環式オーブン中で4時
間加熱した。このようにして得られたシリコーンゴムシ
ートの体積抵抗率を測定した。これらの結果を表1に示
した。
[Example 1] A dimethylsiloxane in which both ends of a raw rubber-like molecular chain were blocked with trimethylsiloxy groups.
Methyl vinyl siloxane copolymer (the molar ratio of dimethyl siloxane and methyl vinyl siloxane is 99.84:
It is 0.16. This average degree of polymerization is 3000. )
100 parts by weight, 30 parts by weight of fumed silica having a surface area of 200 m 2 / g, and 5 parts by weight of dimethylpolysiloxane capped with silanol groups at both molecular chain ends of 30 centipoise were premixed with a kneader mixer, and then heated at 170 ° C. Mixed. After this, Ketjen Black EC
(Product name of carbon black manufactured by Lion Akzo Co., Ltd .: surface area = 1000 m 2 / g, oil absorption = 340 ml / 100 g) 4 parts by weight, DENTOL WK-20
0 (trade name of potassium titanate whiskers having a tin oxide layer and an antimony oxide layer on the surface manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd .: average fiber length = 10 to 20 μm, fiber diameter = 0.2 to
0.5 μm, oil absorption = 170-220 ml / 1
00g) 10 parts by weight were uniformly mixed to prepare a silicone rubber base (I). Next, 100 parts by weight of this silicone rubber base (I) and 1 part by weight of 2,5-dimethyl-bis (2,5-t-butylperoxy) hexane were uniformly mixed with a two-roll to form a semi-finished product of the present invention. A conductive silicone rubber composition was prepared. This silicone rubber composition is heated and pressed at 170 ° C. for 10 minutes,
Ten 1 mm-thick silicone rubber sheets were prepared, and these were further heated in a hot air circulation type oven at 200 ° C. for 4 hours. The volume resistivity of the silicone rubber sheet thus obtained was measured. The results are shown in Table 1.

【0019】[比較例1]実施例1において、デントー
ルWK−200を配合しない以外は実施例1と同様にし
て半導電性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリ
コーンゴム組成物を実施例1と同様にして硬化させてシ
リコーンゴムシートを10枚作成した。このようにして
得られたシリコーンゴムシートの体積抵抗率を測定し
た。これらの結果を表1に示した。
Comparative Example 1 A semiconductive silicone rubber composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that Denthol WK-200 was not added. This silicone rubber composition was cured in the same manner as in Example 1 to prepare 10 silicone rubber sheets. The volume resistivity of the silicone rubber sheet thus obtained was measured. The results are shown in Table 1.

【0020】[実施例2]2,000センチポイズの分
子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖されたジ
メチルポリシロキサン(ビニル基含有量=0.23重量
%)100重量部、平均粒子径が5μmである石英微粉
末30重量部、デンカブラック(電気化学工業株式会社
製のカーボンブラックの商品名:表面積=61m2
g、吸油量=125ミリリットル/100g)7重量部
およびデントールWK−200(大塚化学株式会社製:
商品名)5重量部をロスミキサーにより均一に混合し
た。次いで、これに、式:
[Example 2] 100 parts by weight of dimethylpolysiloxane (vinyl group content = 0.23% by weight) in which both ends of a 2,000 centipoise molecular chain were blocked with dimethylvinylsiloxy groups, and an average particle diameter was 5 μm. 30 parts by weight of quartz fine powder, Denka Black (trade name of carbon black manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .: surface area = 61 m 2 /
g, oil absorption = 125 ml / 100 g) 7 parts by weight and Dentol WK-200 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd .:
5 parts by weight (trade name) were uniformly mixed with a Ross mixer. Then to this, the formula:

【化1】 で表される分子鎖両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖
されたメチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロ
キサン共重合体2重量部および塩化白金酸のイソプロピ
ルアルコール溶液(溶液中の白金金属としての含有量=
1重量%)0.5重量部を均一に混合して、本発明の半
導電性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコー
ンゴム組成物を実施例1と同様にして硬化させてシリコ
ーンゴムシートを10枚作成した。このようにして得ら
れたシリコーンゴムシートの体積抵抗率を測定した。こ
れらの結果を表1に示した。
Embedded image 2 parts by weight of a methylhydrogensiloxane / dimethylsiloxane copolymer in which both ends of the molecular chain represented by are blocked with trimethylsiloxy groups and an isopropyl alcohol solution of chloroplatinic acid (content as platinum metal in solution =
0.5 parts by weight (1% by weight) were uniformly mixed to prepare the semiconductive silicone rubber composition of the present invention. This silicone rubber composition was cured in the same manner as in Example 1 to prepare 10 silicone rubber sheets. The volume resistivity of the silicone rubber sheet thus obtained was measured. The results are shown in Table 1.

【0021】[比較例2]実施例2において、デントー
ルWK−200を配合しない以外は実施例2と同様にし
て半導電性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリ
コーンゴム組成物を実施例2と同様にして硬化させてシ
リコーンゴムシートを10枚作成した。このようにして
得られたシリコーンゴムシートの体積抵抗率を測定し
た。これらの結果を表1に示した。
Comparative Example 2 A semiconductive silicone rubber composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that Dentol WK-200 was not added. This silicone rubber composition was cured in the same manner as in Example 2 to prepare 10 silicone rubber sheets. The volume resistivity of the silicone rubber sheet thus obtained was measured. The results are shown in Table 1.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明の半導電性シリコーンゴム組成物
は、(B)カーボンブラックおよび(C)金属化合物系導電
性ウィスカーを各々所定量配合しているので、体積抵抗
率が102〜1010Ω・cmであり、その値のばらつき
が極めて少ない半導電性のシリコーンゴムを形成するこ
とができるという特徴がある。
The semiconductive silicone rubber composition of the present invention contains (B) carbon black and (C) metal compound type conductive whiskers in the respective predetermined amounts, and therefore has a volume resistivity of 10 2 to 10 10. It has a characteristic of being 10 Ω · cm, and it is possible to form a semi-conductive silicone rubber with a very small variation in the value.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01B 1/00 J 7244−5L 1/20 Z ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01B 1/00 J 7244-5L 1/20 Z

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するジオルガ ノポリシロキサン 100重量部、 (B)カーボンブラック 2〜30重量部、 (C)金属化合物系導電性ウィスカー 2〜20重量部および (D)硬化剤(本組成物を硬化させるに十分な量) からなる半導電性シリコーンゴム組成物。1. (A) 100 parts by weight of diorganopolysiloxane having at least two silicon-bonded alkenyl groups in one molecule, (B) 2 to 30 parts by weight of carbon black, (C) metal compound-based conductivity A semiconductive silicone rubber composition comprising 2 to 20 parts by weight of whiskers and (D) a curing agent (a sufficient amount to cure the composition). 【請求項2】(C)成分が、表面に酸化錫層および/また
は酸化アンチモン層を有するチタン酸カリウムウィスカ
ーであることを特徴とする請求項1記載の半導電性シリ
コーンゴム組成物。
2. The semiconductive silicone rubber composition according to claim 1, wherein the component (C) is a potassium titanate whisker having a tin oxide layer and / or an antimony oxide layer on its surface.
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