JP5519497B2 - Touch panel - Google Patents

Touch panel Download PDF

Info

Publication number
JP5519497B2
JP5519497B2 JP2010514443A JP2010514443A JP5519497B2 JP 5519497 B2 JP5519497 B2 JP 5519497B2 JP 2010514443 A JP2010514443 A JP 2010514443A JP 2010514443 A JP2010514443 A JP 2010514443A JP 5519497 B2 JP5519497 B2 JP 5519497B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
touch panel
substrate
walled carbon
electrode substrate
conductive layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010514443A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2009145080A1 (en
Inventor
高広 北野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP2010514443A priority Critical patent/JP5519497B2/en
Publication of JPWO2009145080A1 publication Critical patent/JPWO2009145080A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5519497B2 publication Critical patent/JP5519497B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/045Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact

Description

本発明は、絡み合った単層カーボンナノチューブを用いて(但し、バインダ樹脂を用いない)構成された導電層を有する電極基板が用いられたタッチパネルに関する。   The present invention relates to a touch panel using an electrode substrate having a conductive layer configured using entangled single-walled carbon nanotubes (but not using a binder resin).

タッチパネルがディスプレイに採用されている。すなわち、透明(光透過性を有する)なタッチパネル(入力装置)が液晶画面などのディスプレイ上に配置されている。そして、ディスプレイ前面に設けられたタッチパネルに触れると、情報の入力が行なわれる。この種のタッチパネルとしては、例えば2枚の透明電極基板の透明電極層が向かい合うように配置された構造のタッチパネル(所謂、抵抗膜式タッチパネル)が知られている。   A touch panel is used for the display. That is, a transparent (light transmissive) touch panel (input device) is disposed on a display such as a liquid crystal screen. When a touch panel provided on the front surface of the display is touched, information is input. As this type of touch panel, for example, a touch panel having a structure in which the transparent electrode layers of two transparent electrode substrates are arranged to face each other (so-called resistance film type touch panel) is known.

この抵抗膜式タッチパネルは携帯機器(例えば、携帯電話機や携帯ゲーム機など)に利用されることが多い。これらの携帯機器は画面が小さい。そして、画面が小さいが故に、画面端部まで有効利用できるように設計されている。この為、ユーザが画面端部を押圧することも多い。   This resistive touch panel is often used for mobile devices (for example, mobile phones and mobile game machines). These portable devices have a small screen. And since the screen is small, it is designed so that it can be effectively used up to the edge of the screen. For this reason, the user often presses the screen edge.

現在利用されている透明電極の材料は、インジウムと錫との酸化物(ITO)に代表される通り、セラミックが多い。この為、屈曲性が悪い。   The material of the transparent electrode currently utilized is many ceramics as represented by the oxide (ITO) of indium and tin. For this reason, flexibility is bad.

ところで、上記の如く、画面の端部が押されると、押圧された電極基板は局所的に折れ曲がった状態となる。この為、電極基板が破損する問題が有る。   By the way, as described above, when the end of the screen is pressed, the pressed electrode substrate is locally bent. For this reason, there is a problem that the electrode substrate is damaged.

上記抵抗膜式タッチパネルの他に、タッチパネルとして、所謂、静電容量式タッチパネルが知られている。この種のタッチパネルも、透明基板上に導電層が設けられたものである。この場合にも、インジウムと錫の酸化物(ITO)が使用されている。   In addition to the resistive touch panel, a so-called capacitive touch panel is known as a touch panel. This type of touch panel also has a conductive layer provided on a transparent substrate. Again, indium and tin oxide (ITO) is used.

静電容量式のタッチパネルにあっては、基板にガラスが用いられた場合は問題が少ない。しかしながら、基板に樹脂製基板が用いられた場合、基板の表面硬度が低いので、耐久性が低下する。この為、電極基板が破損する問題が有る。   In a capacitive touch panel, there are few problems when glass is used for the substrate. However, when a resin substrate is used as the substrate, the surface hardness of the substrate is low, so that the durability is lowered. For this reason, there is a problem that the electrode substrate is damaged.

タッチパネルの電極基板の技術として、例えば特開2004−202948号が知られている。すなわち、透明樹脂からなる基材層と、基材層に積層される導電層とを備え、前記導電層が基板側導電層と対面して配置されて基板側導電層と接触して通電状態になるタッチパネル用シート状樹脂積層体であって、前記導電層が透明なマトリックス樹脂にカーボンナノ線条体(例えば、単層カーボンナノチューブ(例えば、ハイペリオン社製SWCNT)、多層カーボンナノチューブ(例えば、ハイペリオン社製MWCNT)、気相成長カーボンナノファイバー(例えば、昭和電工社製VGCF)等。好ましくは、多層カーボンナノチューブ、又は気相成長カーボンナノファイバー)が分散された樹脂組成物からなることを特徴とするタッチパネル用シート状樹脂積層体が提案されている。又、透明樹脂からなる基材層と、基材層に積層される導電層とを備えるタッチパネル用シート状樹脂積層体が、前記導電層を基板側導電層に対面させた状態でスペーサを介して基板の上側に所定間隔で配設されているタッチパネルであって、前記タッチパネル用シート状樹脂積層体の導電層が透明なマトリックス樹脂にカーボンナノ線条体が分散された樹脂組成物からなることを特徴とするタッチパネルが提案されている。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-202948 is known as a technique for an electrode substrate of a touch panel. That is, it comprises a base material layer made of a transparent resin and a conductive layer laminated on the base material layer, the conductive layer is disposed facing the substrate side conductive layer, and is brought into an energized state in contact with the substrate side conductive layer. A sheet-like resin laminate for a touch panel, wherein the conductive layer is a transparent matrix resin and carbon nanowires (for example, single-walled carbon nanotubes (for example, SWCNT manufactured by Hyperion), multi-walled carbon nanotubes (for example, Hyperion) MWCNT), vapor-grown carbon nanofibers (for example, VGCF manufactured by Showa Denko KK), etc., preferably a resin composition in which multi-walled carbon nanotubes or vapor-grown carbon nanofibers) are dispersed. A sheet-like resin laminate for touch panels has been proposed. In addition, a sheet-like resin laminate for a touch panel including a base material layer made of a transparent resin and a conductive layer laminated on the base material layer is interposed via a spacer in a state where the conductive layer faces the conductive layer on the substrate side. A touch panel disposed on the upper side of the substrate at a predetermined interval, wherein the conductive layer of the sheet-like resin laminate for touch panel is made of a resin composition in which carbon nanowires are dispersed in a transparent matrix resin. A characteristic touch panel has been proposed.

この提案の技術によれば、透明性、導電性および柔軟性に富んだ電極基板(タッチパネル用シート状樹脂積層体)が得られる。そして、タッチパネル用に好適であると謳われている。
特開2004−202948号
According to this proposed technique, an electrode substrate (a sheet-like resin laminate for a touch panel) rich in transparency, conductivity, and flexibility can be obtained. And it is said that it is suitable for touch panels.
JP 2004-202948 A

しかしながら、本発明者の研究によれば、前記提案の技術、即ち、マトリックス樹脂にカーボンナノ線条体を分散させた電極基板を用いたタッチパネルは、性能が劣っていることが判って来た。この性能不良の原因が、鋭意、検討された結果、前記提案の技術は、マトリックス樹脂が導電層中に含まれている為、カーボンナノ線条体間の接触抵抗が高い(表面抵抗が高い)ことに気付くに至った。そして、抵抗が高いことから、タッチパネルには動作不良が起きていることに気付くに至った。   However, according to the inventor's research, it has been found that the proposed technique, that is, a touch panel using an electrode substrate in which carbon nanowires are dispersed in a matrix resin, is inferior in performance. As a result of earnestly examining the cause of this performance failure, the proposed technique has a high contact resistance (high surface resistance) between carbon nanowires because the matrix resin is contained in the conductive layer. I came to realize that. And since resistance was high, it came to realize that the touch panel had malfunctioning.

ところで、透明導電性フィルムは公知である。この種のフィルムは、PVDやCVD等の乾式の方法や塗布などの湿式の方法によって、透明導電層が絶縁性基板上に形成されたものである。湿式法では、導電性粉末とバインダとを含む導電性コーティング組成物が調製される。この湿式法は、乾式法に比べて、使用装置が簡便であり、生産性も高い。更には、連続的または大型の基板への適用が容易である。このようなことから、透明導電性フィルムの技術が提案(例えば、特開2005−255985号公報)されている。すなわち、特開2005−255985号公報には、カーボンナノチューブが存在することで、カーボンナノチューブを含有しない従来の材料の製造コストは軽減され、製造されたカーボンナノチューブ含有コーティングフィルムの透明性・導電性を向上させることを目的として、カーボンナノチューブが三次元網目構造を有していて、かつ、このカーボンナノチューブに樹脂を含む分散体を浸透させて、カーボンナノチューブ含有コーティングフィルムの表面上に露出させたカーボンナノチューブ含有コーティングフィルムが提案されている。例えば、基材上に塗布されたカーボンナノチューブ含有コーティングフィルムにおいて、前記カーボンナノチューブ含有コーティングフィルムは、カーボンナノチューブが三次元網目構造を有していて、かつ、カーボンナノチューブ含有コーティングフィルムの表面上に露出していることを特徴とするカーボンナノチューブ含有コーティングフィルムが提案されている。   By the way, transparent conductive films are known. This type of film has a transparent conductive layer formed on an insulating substrate by a dry method such as PVD or CVD or a wet method such as coating. In the wet method, a conductive coating composition containing a conductive powder and a binder is prepared. This wet method has a simpler apparatus and higher productivity than the dry method. Furthermore, it can be easily applied to continuous or large substrates. For these reasons, a technique of a transparent conductive film has been proposed (for example, JP-A-2005-255985). That is, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-255985, the presence of carbon nanotubes reduces the production cost of conventional materials that do not contain carbon nanotubes, and improves the transparency and conductivity of the produced carbon nanotube-containing coating film. In order to improve the carbon nanotube, the carbon nanotube has a three-dimensional network structure, and the carbon nanotube is exposed on the surface of the carbon nanotube-containing coating film by infiltrating a dispersion containing resin into the carbon nanotube. Containing coating films have been proposed. For example, in the carbon nanotube-containing coating film applied on a substrate, the carbon nanotube-containing coating film has a three-dimensional network structure and is exposed on the surface of the carbon nanotube-containing coating film. A carbon nanotube-containing coating film characterized by the above has been proposed.

但し、この特開2005−255985号公報においては、本願発明が提供しようとするタッチパネルについては一言も触れられていない。タッチパネルの文言、及びタッチパネルを想起させるような文言すら、特開2005−255985号公報には記載が認められない。   However, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-255985 does not mention any word about the touch panel to be provided by the present invention. Even the wording of the touch panel and the word reminiscent of the touch panel cannot be described in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-255985.

ところで、特開2005−255985号公報が透明導電膜を提案していることから、前記公報の実施例に記載の技術を基にしてタッチパネルを試作した。   By the way, since Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-255985 has proposed the transparent conductive film, the touch panel was made as a trial based on the technique as described in the Example of the said gazette.

しかしながら、この試作タッチパネルは、タッチパネルとしての性能が奏せないものであった。すなわち、商品化できるようなものでは無かった。   However, this prototype touch panel cannot perform as a touch panel. In other words, it was not something that could be commercialized.

従って、本発明が解決しようとする第1の課題は、曲率半径が小さなように曲げられても破損し難く、機械的耐久性が高いタッチパネルを提供することである。   Therefore, the first problem to be solved by the present invention is to provide a touch panel that is not easily damaged even when bent so that the radius of curvature is small and has high mechanical durability.

本発明が解決しようとする第2の課題は、表面抵抗が小さく、動作性に優れたタッチパネルを提供することである。   The second problem to be solved by the present invention is to provide a touch panel with low surface resistance and excellent operability.

前記の課題は、
電極基板を有するタッチパネルであって、
前記電極基板は、
基板と、
前記基板上に設けられた導電層
とを有し、
前記導電層は、
絡み合った単層カーボンナノチューブを有し、
バインダ樹脂を有さない
ことを特徴とするタッチパネルによって解決される。
The above issues are
A touch panel having an electrode substrate,
The electrode substrate is
A substrate,
A conductive layer provided on the substrate;
The conductive layer is
Having entangled single-walled carbon nanotubes,
It is solved by a touch panel characterized by having no binder resin.

尚、前記タッチパネルの単層カーボンナノチューブがアーク放電法によって得られた単層カーボンナノチューブであるタッチパネルは好ましい。   The touch panel is preferably a single-walled carbon nanotube obtained by an arc discharge method.

又、前記導電層が更にフラーレンを有するタッチパネルは特に好ましい。   A touch panel in which the conductive layer further contains fullerene is particularly preferable.

又、前記フラーレンが水酸化フラーレンであるタッチパネルは特に好ましい。   A touch panel in which the fullerene is a fullerene hydroxide is particularly preferable.

又、前記導電層上に保護層が設けられた電極基板が用いられたタッチパネルは特に好ましい。   Further, a touch panel using an electrode substrate in which a protective layer is provided on the conductive layer is particularly preferable.

又、アンチニュートン層を有する電極基板が用いられたタッチパネルは特に好ましい。   A touch panel using an electrode substrate having an anti-Newton layer is particularly preferable.

本発明のタッチパネルは、例えば静電容量式タッチパネルである。或いは、抵抗膜式タッチパネルである。この抵抗膜式タッチパネルには2枚の電極基板が用いられている。この2枚の電極基板が前記電極基板であっても良い。或いは、2枚の中の1枚の電極基板が前記電極基板であっても良い。   The touch panel of the present invention is, for example, a capacitive touch panel. Or it is a resistive film type touch panel. Two electrode substrates are used in this resistive film type touch panel. The two electrode substrates may be the electrode substrates. Alternatively, one of the two electrode substrates may be the electrode substrate.

本発明の導電層は、絡み合った単層カーボンナノチューブを有する。しかしながら、バインダ樹脂を有さない。この為、本発明のタッチパネルが大きく曲げられても破損し難く、タッチパネルの耐久性が高い。しかも、導電層にはバインダ樹脂が含まれて無いことから、タッチパネルの表面抵抗は小さい。従って、タッチパネルの動作性が優れている。   The conductive layer of the present invention has entangled single-walled carbon nanotubes. However, it does not have a binder resin. For this reason, even if the touch panel of the present invention is greatly bent, it is difficult to break, and the durability of the touch panel is high. Moreover, since the conductive layer contains no binder resin, the surface resistance of the touch panel is small. Therefore, the operability of the touch panel is excellent.

尚、導電層にフラーレン、特に、水酸化フラーレンを含ませておくと、タッチパネルは耐熱性に優れたものであった。   If the conductive layer contains fullerene, especially hydroxylated fullerene, the touch panel was excellent in heat resistance.

電極基板の概略側面図Schematic side view of electrode substrate 抵抗膜式タッチパネルの電極図(上面図)Electrode diagram of resistive touch panel (top view) 抵抗膜式タッチパネルの電極図(側面図)Electrode diagram of resistive touch panel (side view) 抵抗膜式タッチパネルの構成図(上面図)Resistive touch panel configuration (top view) 抵抗膜式タッチパネルの構成図(側面図)Resistive touch panel configuration (side view) 静電容量式タッチパネルの構成図Configuration diagram of capacitive touch panel

1 電極基板
2 対向電極
3 上部対向電極
4 上部電極基板
5 下部対向電極
6 粘着テープ
7 下部電極基板
11 基板
12 導電層
13 保護層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrode substrate 2 Counter electrode 3 Upper counter electrode 4 Upper electrode substrate 5 Lower counter electrode 6 Adhesive tape 7 Lower electrode substrate 11 Substrate 12 Conductive layer 13 Protective layer

本発明は、タッチパネルである。例えば、静電容量式のタッチパネルである。或いは、抵抗膜式のタッチパネルである。この抵抗膜式のタッチパネルは、電極基板における導電層が互いに向い合うように対向配置された構造である。すなわち、2枚の電極基板が、間に空隙が有るように、対向配置されたものである。そして、2枚の電極基板の中、1枚の電極基板が本発明の構造の電極基板であっても良い。勿論、2枚の電極基板が本発明の構造の電極基板であっても良い。本発明における最大の特徴はタッチパネルを構成する電極基板にある。この電極基板は、図1に示される如く、基板(透明基板)11上に設けられた導電層(透明導電層)12を有する。この導電層12は、バインダ樹脂を用いないで構成されたものである。バインダ樹脂を不要なものとする為、導電層を構成する単層カーボンナノチューブとして、互いの単層カーボンナノチューブが絡み合った構造のものが用いられた。これによって、単層カーボンナノチューブ同士が、直接、接触した構造となる。従って、間に絶縁物が介在してないことから、導電性が良い。しかも、単層カーボンナノチューブ同士が絡み合っていることから、導電層にバインダ樹脂が不要なものとなった。尚、走査型電子顕微鏡で導電層表面を観察したならば、単層カーボンナノチューブが絡み合った構造であるか否かを確認・判定できる。   The present invention is a touch panel. For example, a capacitive touch panel. Or it is a resistive film type touch panel. This resistive film type touch panel has a structure in which the conductive layers in the electrode substrate are arranged so as to face each other. That is, the two electrode substrates are arranged to face each other so that there is a gap between them. Of the two electrode substrates, one electrode substrate may be an electrode substrate having the structure of the present invention. Of course, the two electrode substrates may be electrode substrates having the structure of the present invention. The greatest feature of the present invention is the electrode substrate constituting the touch panel. This electrode substrate has a conductive layer (transparent conductive layer) 12 provided on a substrate (transparent substrate) 11 as shown in FIG. The conductive layer 12 is configured without using a binder resin. In order to make the binder resin unnecessary, single-walled carbon nanotubes constituting the conductive layer have a structure in which the single-walled carbon nanotubes are intertwined with each other. As a result, the single-walled carbon nanotubes are in direct contact with each other. Therefore, since there is no intervening insulator, the conductivity is good. In addition, since the single-walled carbon nanotubes are entangled with each other, no binder resin is required for the conductive layer. If the surface of the conductive layer is observed with a scanning electron microscope, it can be confirmed / determined whether the single-walled carbon nanotubes are intertwined.

導電層12は、絡み合った単層カーボンナノチューブのみで構成された導電層であっても良い。しかしながら、特に好ましいのは、導電層12がフラーレン(本明細書にあっては、「フラーレン」には「フラーレン類縁体」も含まれる。以下、同様。)を有する場合である。中でも、導電層12が水酸化フラーレンを有する場合である。すなわち、フラーレン、特に、水酸化フラーレンを含ませておくことにより、耐熱性が向上した。又、導電性も優れていた。   The conductive layer 12 may be a conductive layer composed only of entangled single-walled carbon nanotubes. However, it is particularly preferable that the conductive layer 12 has fullerene (in the present specification, “fullerene” includes “fullerene analog”, and the same shall apply hereinafter). Especially, it is a case where the conductive layer 12 has a fullerene hydroxide. That is, heat resistance was improved by including fullerene, particularly, fullerene hydroxide. Also, the conductivity was excellent.

前記フラーレンは如何なるフラーレンでも良い。例えば、C60,C70,C76,C78,C82,C84,C90,C96等が挙げられる。勿論、複数種のフラーレンの混合物でも良い。分散性能の観点からはC60が特に好ましい。更に、C60は入手し易い。又、C60のみでは無く、C60と他の種類のフラーレン(例えば、C70)との混合物でも良い。又、フラーレン内部に金属原子が内包されたものでも良い。フラーレン類縁体としては、官能基(例えば、OH基、エポキシ基、エステル基、アミド基、スルホニル基、エーテル基などの官能基)を含むものが挙げられる。又、フェニル−C61−プロピル酸アルキルエステル、フェニル−C61−ブチル酸アルキルエステルを持つものも挙げられる。又、水素化フラーレンなども挙げられる。中でも、OH基(水酸基)を持つフラーレン(水酸化フラーレン)が好ましい。それは、単層カーボンナノチューブを分散液として塗工する際の分散性が高かったからである。尚、水酸基の量が少ないと、単層カーボンナノチューブの分散性向上度が低下する。逆に、多すぎると、合成が困難である。従って、OH基の量はフラーレン1分子当り5〜30個が好ましい。特に、8〜15個が好ましい。   The fullerene may be any fullerene. For example, C60, C70, C76, C78, C82, C84, C90, C96 etc. are mentioned. Of course, a mixture of plural kinds of fullerenes may be used. C60 is particularly preferable from the viewpoint of dispersion performance. Furthermore, C60 is easy to obtain. Further, not only C60 but also a mixture of C60 and another kind of fullerene (for example, C70) may be used. Moreover, the metal atom may be included in the fullerene. Examples of the fullerene analog include those containing a functional group (for example, a functional group such as OH group, epoxy group, ester group, amide group, sulfonyl group, ether group). Moreover, what has phenyl-C61-propyl acid alkyl ester and phenyl-C61-butyric acid alkyl ester is also mentioned. In addition, hydrogenated fullerene is also included. Among them, fullerene having an OH group (hydroxyl group) (fullerene hydroxide) is preferable. This is because the dispersibility when coating single-walled carbon nanotubes as a dispersion was high. In addition, when there is little quantity of a hydroxyl group, the dispersibility improvement degree of a single-walled carbon nanotube will fall. On the other hand, if too much, synthesis is difficult. Therefore, the amount of OH groups is preferably 5 to 30 per molecule of fullerene. In particular, 8 to 15 are preferable.

フラーレンの添加量(含有量)は、多すぎると、導電性が低下する。逆に、少なすぎると、効果が乏しい。従って、フラーレン量は、好ましくは、単層カーボンナノチューブ100質量部に対して10〜1000質量部(特に、20質量部以上。100質量部以下。)である。   When there is too much addition amount (content) of fullerene, electroconductivity will fall. Conversely, if the amount is too small, the effect is poor. Therefore, the amount of fullerene is preferably 10 to 1000 parts by mass (particularly 20 parts by mass or more and 100 parts by mass or less) with respect to 100 parts by mass of the single-walled carbon nanotube.

本発明で用いられる単層カーボンナノチューブは、公知の製法によって得られた単層カーボンナノチューブでも良い。例えば、アーク放電法、化学気相法、レーザー蒸発法などの製法で得られたものを用いることが出来る。但し、結晶性の観点から、アーク放電による製造法で得られた単層カーボンナノチューブが好ましい。そして、このものは入手も容易である。   The single-walled carbon nanotube used in the present invention may be a single-walled carbon nanotube obtained by a known production method. For example, what was obtained by manufacturing methods, such as an arc discharge method, a chemical vapor deposition method, and a laser evaporation method, can be used. However, single-walled carbon nanotubes obtained by a production method using arc discharge are preferable from the viewpoint of crystallinity. And this thing is also easily available.

前記単層カーボンナノチューブは、酸処理が施された単層カーボンナノチューブが好ましい。ここで、酸処理とは、酸性液体中に単層カーボンナノチューブが浸漬されることによって実施される。浸漬の代わりに噴霧と言った手法が採用されても良い。酸性液体は各種のものが用いられる。例えば、無機酸や有機酸が用いられる。但し、無機酸が好ましい。例えば、硝酸、塩酸、硫酸、リン酸、或いはこれらの混合物が挙げられる。中でも、硝酸、或いは硝酸と硫酸との混酸を用いた酸処理が好ましい。好ましい酸処理条件は、80℃〜100℃の温度下で、1日〜7日間掛けて反応させる条件である。この酸処理によって、単層カーボンナノチューブと炭素微粒子とがアモルファスカーボンを介して物理的に結合している場合に、アモルファスカーボンを分解して両者が分離されたり、単層カーボンナノチューブ作製時に使用した金属触媒の微粒子を分解することになる。従って、本発明にあっては、単層カーボンナノチューブの酸処理はかなり大事な要件である。例えば、酸処理が施され無い場合に比べ、導電性が向上した。   The single-walled carbon nanotube is preferably a single-walled carbon nanotube subjected to acid treatment. Here, the acid treatment is performed by immersing single-walled carbon nanotubes in an acidic liquid. A technique called spraying may be employed instead of immersion. Various kinds of acidic liquids are used. For example, an inorganic acid or an organic acid is used. However, inorganic acids are preferred. For example, nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, or a mixture thereof can be used. Among these, acid treatment using nitric acid or a mixed acid of nitric acid and sulfuric acid is preferable. Preferable acid treatment conditions are conditions in which the reaction is performed at a temperature of 80 ° C. to 100 ° C. for 1 day to 7 days. By this acid treatment, when single-walled carbon nanotubes and carbon microparticles are physically bonded via amorphous carbon, the amorphous carbon is decomposed and separated from each other, or the metal used when producing single-walled carbon nanotubes The fine particles of the catalyst will be decomposed. Therefore, in the present invention, acid treatment of single-walled carbon nanotubes is a very important requirement. For example, the conductivity is improved as compared with the case where acid treatment is not performed.

前記単層カーボンナノチューブは、濾過によって不純物が除去され、純度が向上した単層カーボンナノチューブが好ましい。その理由は、不純物による導電性の低下や光透過率の低下が防止されるからである。濾過には各種の手法が採用される。例えば、吸引濾過、加圧濾過、クロスフロー濾過などが用いられる。中でも、スケールアップの観点から、中空糸膜を用いたクロスフロー濾過の採用が好ましい。   The single-walled carbon nanotube is preferably a single-walled carbon nanotube from which impurities are removed by filtration and the purity is improved. This is because a decrease in conductivity and a decrease in light transmittance due to impurities are prevented. Various methods are employed for filtration. For example, suction filtration, pressure filtration, cross flow filtration and the like are used. Among these, from the viewpoint of scale-up, it is preferable to employ cross flow filtration using a hollow fiber membrane.

本発明のタッチパネルの電極基板は、単層カーボンナノチューブからなる導電層12上に保護層13を有することが好ましい。この保護層13に用いられる材料には格別な制限は無い。例えば、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ビニル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ABS樹脂などの熱可塑性樹脂が用いられる。又、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂などの公知のコーティング材料を用いることも出来る。但し、保護層の材料は、密着性の観点から、基板と同じ(同系統)材料が好ましい。例えば、基板11がポリエステル樹脂の場合は、保護層13もポリエステル樹脂が好ましい。尚、保護層13の膜厚が厚すぎると、透明導電層の接触抵抗が大きくなる。逆に、保護層13の膜厚が薄すぎると、保護層としての効果が得られない。従って、保護層13の厚さは1nm〜1μmが好ましい。特に、10nm以上が好ましい。又、100nm以下が好ましい。   The electrode substrate of the touch panel of the present invention preferably has a protective layer 13 on the conductive layer 12 made of single-walled carbon nanotubes. There is no particular limitation on the material used for the protective layer 13. For example, a thermoplastic resin such as a polyester resin, a cellulose resin, a polyvinyl alcohol resin, a vinyl resin, a cycloolefin resin, a polycarbonate resin, an acrylic resin, or an ABS resin is used. Moreover, well-known coating materials, such as a photocurable resin and a thermosetting resin, can also be used. However, the material of the protective layer is preferably the same (same system) material as the substrate from the viewpoint of adhesion. For example, when the substrate 11 is a polyester resin, the protective layer 13 is also preferably a polyester resin. In addition, when the film thickness of the protective layer 13 is too thick, the contact resistance of a transparent conductive layer will become large. On the contrary, if the thickness of the protective layer 13 is too thin, the effect as the protective layer cannot be obtained. Therefore, the thickness of the protective layer 13 is preferably 1 nm to 1 μm. In particular, 10 nm or more is preferable. Moreover, 100 nm or less is preferable.

本発明の抵抗膜式タッチパネルにあっては、2枚の電極基板が必要である。一つは、上部電極と呼ばれるタッチ面側の電極基板である。もう一つは、液晶ディスプレイ側に配置される電極基板(下部基板と称される)である。静電容量式タッチパネルにあっては、電極基板は1枚でも良い。電極基板の透明基板11は、一般的には、ガラス板が用いられる。しかしながら、透明基板11は、樹脂板や樹脂シート或いは樹脂フィルムであっても良い。そして、導電層12とは反対側の面にノイズ除去の為のシールド層が施されていても良い。尚、電極基板は、全光線透過率が80%以上100%以下のシート状ないしはフィルム状のものが好ましい。すなわち、フレキシブルな透明基板は好ましい。透明基板の材質に格別な制限は無い。例えば、ガラス等のセラミックの他にも、例えばポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ABS樹脂などの熱可塑性樹脂、或いは光硬化性樹脂、又は熱硬化性樹脂などが用いられる。透明基板11の厚さは、用途によって決まる。シート状が要求される場合には、500μm〜10mm程度である。フィルム状が要求される場合には、10μm〜500μm程度である。   In the resistive film type touch panel of the present invention, two electrode substrates are required. One is an electrode substrate on the touch surface side called an upper electrode. The other is an electrode substrate (referred to as a lower substrate) disposed on the liquid crystal display side. In the capacitive touch panel, one electrode substrate may be used. A glass plate is generally used as the transparent substrate 11 of the electrode substrate. However, the transparent substrate 11 may be a resin plate, a resin sheet, or a resin film. A shield layer for noise removal may be provided on the surface opposite to the conductive layer 12. The electrode substrate is preferably in the form of a sheet or film having a total light transmittance of 80% to 100%. That is, a flexible transparent substrate is preferable. There are no particular restrictions on the material of the transparent substrate. For example, in addition to ceramics such as glass, thermoplastic resins such as polyester resin, cellulose resin, polyvinyl alcohol resin, vinyl chloride resin, cycloolefin resin, polycarbonate resin, acrylic resin, ABS resin, or photocurable resin Alternatively, a thermosetting resin or the like is used. The thickness of the transparent substrate 11 depends on the application. When a sheet shape is required, it is about 500 μm to 10 mm. When a film shape is required, it is about 10 μm to 500 μm.

抵抗膜式タッチパネルにおいては、上部基板と下部基板との何れもがシート状あるいはフィルム状であっても良い。一方がシート状で、他方がフィルム状であっても良い。そして、双方の電極基板の導電層が単層カーボンナノチューブからなる導電層であっても良い。一方の電極基板の導電層のみが単層カーボンナノチューブからなる導電層でも良い。単層カーボンナノチューブからなる電極基板は、インジウム錫酸化物などのセラミック性導電層とも接触抵抗が低いからである。従って、一方の電極基板の導電層がセラミック性導電層であっても、タッチパネルとして良好な動作性が確保できる。   In the resistive touch panel, both the upper substrate and the lower substrate may be in the form of a sheet or film. One may be a sheet and the other may be a film. The conductive layers of both electrode substrates may be conductive layers made of single-walled carbon nanotubes. Only the conductive layer of one electrode substrate may be a conductive layer made of single-walled carbon nanotubes. This is because an electrode substrate made of single-walled carbon nanotubes has a low contact resistance with a ceramic conductive layer such as indium tin oxide. Therefore, even if the conductive layer of one electrode substrate is a ceramic conductive layer, good operability as a touch panel can be secured.

電極基板は、微細な凹凸を付け、所謂、アンチニュートン処理が施された基板が好ましい。抵抗膜式タッチパネルに用いられる電極基板にあっては、上部基板と下部基板との一方または双方に微細な凹凸を付けたアンチニュートン処理が施された基板が好ましい。上部基板は、基板の片面あるいは両面に基板保護の為のハードコート処理、視認性向上の為の反射防止処理、及び/又は耐指紋処理を施した基板であっても良い。下部基板は、液晶ディスプレイの最表面の基板に導電層を積層したものであっても良い。   The electrode substrate is preferably a substrate with fine irregularities and subjected to so-called anti-Newton treatment. The electrode substrate used for the resistive touch panel is preferably a substrate that has been subjected to anti-Newtonian treatment with fine irregularities on one or both of the upper substrate and the lower substrate. The upper substrate may be a substrate on which one or both sides of the substrate are subjected to a hard coat treatment for protecting the substrate, an antireflection treatment for improving visibility, and / or an anti-fingerprint treatment. The lower substrate may be one in which a conductive layer is laminated on the outermost substrate of the liquid crystal display.

電極基板は、その全光線透過率が60%以上で100%以下であることが好ましい。表面抵抗値は100Ω/□以上で50000Ω/□以下であることが好ましい。それは、全光線透過率が低すぎると、視認性が低下するからである。ところで、単層カーボンナノチューブで構成された導電層は、全光線透過率と表面抵抗値とはトレードオフの関係が有る。従って、表面抵抗率はタッチパネルが動作する限り高いほうが好ましい。ここで、全光線透過率は単層カーボンナノチューブを含む導電膜のみならず透明基板を含めた全光線透過率である。尚、抵抗膜式タッチパネルでは、全光線透過率が70%以上で、かつ、表面抵抗値が100Ω/□〜5000Ω/□の透明導電膜が好ましい。静電容量式タッチパネルでは、全光線透過率が60%以上で、かつ、表面抵抗値が100Ω/□〜1000Ω/□の透明導電膜が好ましい。   The electrode substrate preferably has a total light transmittance of 60% or more and 100% or less. The surface resistance value is preferably 100Ω / □ or more and 50000Ω / □ or less. This is because the visibility decreases when the total light transmittance is too low. By the way, the conductive layer comprised of single-walled carbon nanotubes has a trade-off relationship between the total light transmittance and the surface resistance value. Accordingly, the surface resistivity is preferably as high as the touch panel operates. Here, the total light transmittance is the total light transmittance including not only the conductive film containing single-walled carbon nanotubes but also the transparent substrate. In the resistive touch panel, a transparent conductive film having a total light transmittance of 70% or more and a surface resistance value of 100Ω / □ to 5000Ω / □ is preferable. In the capacitive touch panel, a transparent conductive film having a total light transmittance of 60% or more and a surface resistance value of 100Ω / □ to 1000Ω / □ is preferable.

本発明の抵抗膜式タッチパネルは、上部電極と下部電極との何れかの導電層上にドット印刷が施されていることが好ましい。これによって、導電層同士の誤接触が防止される。   In the resistive touch panel of the present invention, it is preferable that dot printing is performed on any one of the conductive layers of the upper electrode and the lower electrode. This prevents erroneous contact between the conductive layers.

本発明の抵抗膜式タッチパネルは以下の工程(好ましくは、工程1〜工程7の順)にて作製できる。
工程1:粗カーボンナノチューブを得る工程
工程2:粗カーボンナノチューブが酸処理される工程
工程3:工程2で得られた単層カーボンナノチューブが濾過される工程
工程4:単層カーボンナノチューブとフラーレンと溶媒とが混合され、超音波照射が行われる工程(混合・分散工程)
工程5:工程4で得られた単層カーボンナノチューブ分散液が基板上に塗布される工程
工程6:工程5で得られた電極基板上に配線が形成される工程
工程7:得られた電極基板が導電層同士が接するように張り合わされる工程
The resistive film type touch panel of the present invention can be manufactured by the following steps (preferably in the order of step 1 to step 7).
Step 1: Step of obtaining crude carbon nanotube Step 2: Step of acid treatment of crude carbon nanotube Step 3: Step of filtering single-walled carbon nanotube obtained in Step 2 Step 4: Single-walled carbon nanotube, fullerene, and solvent Is a process in which ultrasonic irradiation is performed (mixing / dispersing process)
Step 5: Step of applying the single-walled carbon nanotube dispersion obtained in Step 4 on the substrate Step 6: Step of forming wiring on the electrode substrate obtained in Step 5 Step 7: Obtained electrode substrate Where the layers are bonded so that the conductive layers are in contact with each other

以下、各々の工程について更に詳しく説明する。
[工程1]
工程1には公知の方法が採用できる。例えば、アーク放電法、化学気相法、レーザー蒸発法などいずれの製法を用いても良い。但し、カーボンナノチューブの結晶性の観点や入手容易性の観点から、アーク放電法による製造法が最も好ましい。
Hereinafter, each process will be described in more detail.
[Step 1]
A known method can be adopted for step 1. For example, any manufacturing method such as an arc discharge method, a chemical vapor phase method, or a laser evaporation method may be used. However, the production method by the arc discharge method is most preferable from the viewpoint of the crystallinity of carbon nanotubes and the availability.

[工程2]
工程2は、酸性液体中で単層カーボンナノチューブが加熱される工程である。酸性液体には格別な制限は無い。但し、硝酸、塩酸、硫酸、リン酸、及びこれらの混合物などの無機酸を用いるのが好ましい。特に、アルカリ処理前の酸処理には、硝酸、或いは硝酸と硫酸との混酸を用いるのが好ましい。このような酸にて、80℃〜100℃の温度で、1日〜7日間掛けて反応させることが好ましい。
[Step 2]
Step 2 is a step in which single-walled carbon nanotubes are heated in an acidic liquid. There are no particular restrictions on acidic liquids. However, it is preferable to use inorganic acids such as nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and mixtures thereof. In particular, nitric acid or a mixed acid of nitric acid and sulfuric acid is preferably used for the acid treatment before the alkali treatment. It is preferable to make it react with such an acid at the temperature of 80 to 100 degreeC over 1 day-7 days.

[工程3]
工程3は、炭素粒子などの不純物が除去される工程である。酸処理が行なわれたカーボンナノチューブの溶液は、直径20nm程度の不純物の粒子とカーボンナノチューブのバンドルとが、分離された状態で、溶液中に分散(あるいは沈殿)している。この為、不純物よりも大きく、かつ、カーボンナノチューブのバンドルよりも小さい孔径のフィルターを用いた濾過により、不純物は取り除かれる。濾過方法としては各種の濾過方法が採用できる。例えば、吸引濾過、加圧濾過、クロスフロー濾過などを用いることが出来る。中でも、スケールアップの観点から、中空糸膜を用いたクロスフロー濾過の採用は好ましい。
[Step 3]
Step 3 is a step in which impurities such as carbon particles are removed. In the carbon nanotube solution that has been subjected to the acid treatment, impurity particles having a diameter of about 20 nm and carbon nanotube bundles are dispersed (or precipitated) in the solution in a separated state. For this reason, the impurities are removed by filtration using a filter having a pore size larger than the impurities and smaller than the bundle of carbon nanotubes. Various filtration methods can be employed as the filtration method. For example, suction filtration, pressure filtration, cross flow filtration, or the like can be used. Among these, from the viewpoint of scale-up, it is preferable to employ cross flow filtration using a hollow fiber membrane.

[工程4]
工程4は、単層カーボンナノチューブの分散液を作製する工程である。単層カーボンナノチューブとフラーレンとの割合は、単層カーボンナノチューブ100質量部に対して、フラーレンが10〜1000質量部であることが好ましい。かつ、フラーレン濃度は1〜100000ppmであることが好ましい。尚、フラーレンは、特に、OH基を有するフラーレンが好ましい。超音波の照射には各種の手法が採用できる。例えば、バス型超音波照射機や、チップ型超音波照射機を用いることが出来る。短時間で処理する観点から、チップ型超音波照射機を用いることが好ましい。
溶媒には、一般の塗料で用いられる溶媒が用いられる。但し、沸点が200℃以下(好ましい下限値は25℃、更には30℃)の溶媒が好ましい。低沸点溶剤が好ましいのは、塗工後の乾燥が容易であるからによる。具体的には、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール等のアルコール(特に、炭素数が7以下のアルコール、特に脂肪族アルコール))、或いはこれ等の混合物が好ましいものとして挙げられる。その理由は、水酸基含有フラーレンの溶解性が高いので、より高濃度の単層カーボンナノチューブ分散液が得られるからである。他にも、ケトン系化合物(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル系化合物(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチル等)、エーテル系化合物(例えば、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、ジオキサン等)、芳香族化合物(例えば、トルエン、キシレン等)、脂肪族化合物(例えば、ペンタン、ヘキサン等)、ハロゲン化炭化水素(例えば、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等)、及びこれらの混合物を用いることも出来る。
[Step 4]
Step 4 is a step of producing a dispersion of single-walled carbon nanotubes. The ratio of the single-walled carbon nanotube to the fullerene is preferably 10 to 1000 parts by weight of fullerene with respect to 100 parts by weight of the single-walled carbon nanotube. The fullerene concentration is preferably 1 to 100,000 ppm. The fullerene is particularly preferably a fullerene having an OH group. Various methods can be employed for the irradiation of ultrasonic waves. For example, a bath type ultrasonic irradiator or a chip type ultrasonic irradiator can be used. From the viewpoint of processing in a short time, it is preferable to use a chip-type ultrasonic irradiator.
As the solvent, a solvent used in general paints is used. However, a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower (preferably lower limit is 25 ° C., further 30 ° C.) is preferable. The low boiling point solvent is preferred because it is easy to dry after coating. Specifically, water, alcohol (for example, alcohol such as methanol, ethanol, normal propanol, and isopropanol (particularly, alcohol having 7 or less carbon atoms, particularly aliphatic alcohol)), or a mixture thereof is preferable. It is done. This is because the hydroxyl group-containing fullerene has a high solubility, so that a single-walled carbon nanotube dispersion with a higher concentration can be obtained. In addition, ketone compounds (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ester compounds (eg, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, methoxyethyl acetate, etc.), ether compounds ( For example, diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, dioxane etc.), aromatic compounds (eg toluene, xylene etc.), aliphatic compounds (eg pentane, hexane etc.), halogenated hydrocarbons (eg For example, methylene chloride, chlorobenzene, chloroform, and the like) and mixtures thereof can be used.

[工程5]
工程5は、基板上に導電層が形成される工程である。具体的には、分散液が、透明基板上に、所望の塗布方法(例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、インクジェット法、スクリーンコート等)により塗布される工程である。尚、必要に応じて、上記塗布工程後、塗膜中に含まれる溶媒を除去する為、乾燥が行なわれる。乾燥には乾燥装置(例えば、加熱炉、遠赤外炉、超遠赤外炉など)が用いられる。又、必要に応じて、基板の洗浄が行われる。
[Step 5]
Step 5 is a step in which a conductive layer is formed on the substrate. Specifically, this is a step in which the dispersion liquid is applied onto a transparent substrate by a desired application method (for example, spray coating, bar coating, roll coating, ink jet method, screen coating, etc.). If necessary, drying is performed after the coating step in order to remove the solvent contained in the coating film. A drying device (for example, a heating furnace, a far infrared furnace, a super far infrared furnace, or the like) is used for drying. Further, the substrate is cleaned as necessary.

[工程6]
工程6には、通常、導電性材料を基板上に印刷する方法が用いられる。工程6の前あるいは後にドットスペーサを設ける工程があっても良い。
[Step 6]
In step 6, a method of printing a conductive material on a substrate is usually used. There may be a step of providing dot spacers before or after step 6.

[工程7]
得られた電極基板の導電層同士が接するように張り合わされる工程7によってタッチパネルが作製される。尚、上述した通り、一方の電極基板だけが単層カーボンナノチューブからなる導電層を有する電極基板であっても良い。
[Step 7]
A touch panel is produced by Step 7 in which the conductive layers of the obtained electrode substrate are bonded to each other. As described above, only one of the electrode substrates may be an electrode substrate having a conductive layer made of single-walled carbon nanotubes.

本発明の静電容量式タッチパネルは以下の工程(好ましくは、工程8〜工程13の順)にて作製できる。
工程8:粗カーボンナノチューブを得る工程
工程9:粗カーボンナノチューブが酸処理される工程
工程10:工程9で得られた単層カーボンナノチューブが濾過される工程
工程11:単層カーボンナノチューブとフラーレンと溶媒とが混合され、超音波照射が行われる工程
工程12:工程11で得られた単層カーボンナノチューブ分散液が基板上に塗布される工程
工程13:工程12で得られた電極基板上に配線が形成される工程
尚、工程8〜工程11は、上記工程1〜工程4に準じて行うことが出来る。
又、工程12において用いる電極基板は導電層を形成する面とは反対面にノイズ除去の為のシールド層が施されていても良い。
The capacitive touch panel of the present invention can be manufactured by the following steps (preferably in the order of step 8 to step 13).
Step 8: Step of obtaining crude carbon nanotube Step 9: Step of treating crude carbon nanotube with acid Step 10: Step of filtering single-walled carbon nanotube obtained in Step 9 Step 11: Single-walled carbon nanotube, fullerene, and solvent Step 12: Step of applying the single-walled carbon nanotube dispersion obtained in Step 11 on the substrate Step 13: Wiring is formed on the electrode substrate obtained in Step 12 Process to be Formed In addition, the process 8-the process 11 can be performed according to the said process 1-the process 4.
Further, the electrode substrate used in step 12 may be provided with a shield layer for noise removal on the surface opposite to the surface on which the conductive layer is formed.

以下、更に、具体的に説明する。   Hereinafter, more specific description will be given.

[実施例1]
アーク放電法によって作製された単層カーボンナノチューブが、酸処理(63%硝酸にて85℃で2日間に亘る処理(反応))された。この後、濾過が行われ、単層カーボンナノチューブが精製・回収された。
[Example 1]
Single-walled carbon nanotubes produced by the arc discharge method were treated with acid (treated with 63% nitric acid at 85 ° C. for 2 days (reaction)). Thereafter, filtration was performed, and single-walled carbon nanotubes were purified and recovered.

この単層カーボンナノチューブ10mgと、水酸基含有フラーレン(商品名 ナノムスペクトラ D−100 フロンティアカーボン社製)10mgと、水酸化ナトリウム(和光純薬工業社製)1mgと、水5mlと、2−プロパノール5mlとが混合された。この混合液に対して、1分間の超音波照射(装置名ULTRASONIC HOMOGENIZER MODEL UH−600SR、エスエムテー社製)が行なわれた。このようにして、単層カーボンナノチューブ分散液が得られた。   10 mg of this single-walled carbon nanotube, 10 mg of hydroxyl group-containing fullerene (trade name Nanomuspectra D-100 Frontier Carbon), 1 mg of sodium hydroxide (Wako Pure Chemical Industries), 5 ml of water, 5 ml of 2-propanol, Were mixed. This mixed solution was subjected to ultrasonic irradiation for 1 minute (device name: ULTRASONIC HOGENIZER MODEL UH-600SR, manufactured by SMT). In this way, a single-walled carbon nanotube dispersion was obtained.

この単層カーボンナノチューブ分散液が、PETフィルム(商品名:コスモシャイン A4100 東洋紡社製)上に、ウェット膜厚20μmで、バーコートされた。この後、80℃で3分間の乾燥が行われ、透明導電層が形成された。   This single-walled carbon nanotube dispersion was bar-coated on a PET film (trade name: Cosmo Shine A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) with a wet film thickness of 20 μm. Then, drying for 3 minutes was performed at 80 degreeC, and the transparent conductive layer was formed.

尚、走査型電子顕微鏡による観察によれば、この透明導電層における単層カーボンナノチューブは互いに絡み合ったものであった。そして、この絡み合った箇所においては、単層カーボンナノチューブ同士が直接に接触しているものであった。勿論、絡み合ってない箇所でも、単層カーボンナノチューブ同士が直接に接触していた。又、導電層は水酸基含有フラーレンを有するものであった。但し、バインダ樹脂は含まれない。   According to observation with a scanning electron microscope, the single-walled carbon nanotubes in the transparent conductive layer were entangled with each other. And in this entangled location, the single-walled carbon nanotubes were in direct contact with each other. Of course, the single-walled carbon nanotubes were in direct contact with each other even at the places where they were not entangled. The conductive layer had a hydroxyl group-containing fullerene. However, binder resin is not included.

この後、塗工面がメタノールで洗浄された。このようにして電極基板が得られた。   Thereafter, the coated surface was washed with methanol. In this way, an electrode substrate was obtained.

[実施例2]
実施例1で得られた単層カーボンナノチューブ分散液を表面抵抗が400Ω/□になるように複数回塗工した以外は実施例1に準じて行なわれ、電極基板が得られた。
[Example 2]
An electrode substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the single-walled carbon nanotube dispersion obtained in Example 1 was applied a plurality of times so that the surface resistance was 400Ω / □.

[実施例3]
実施例1において、単層カーボンナノチューブ添加量を減らし、表面抵抗が5000Ω/□になるように塗工した以外は実施例1に準じて行なわれ、電極基板が得られた。
[Example 3]
An electrode substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of single-walled carbon nanotubes added was reduced and coating was performed so that the surface resistance was 5000 Ω / □.

[実施例4]
アクリル樹脂(商品名 ウォーターゾール S−707−IM)を固形分濃度が1質量%になるように2−プロパノールで希釈した溶液中に、実施例1で得た電極基板が浸漬され、透明導電層上にアクリル樹脂系の保護層(ウェット膜厚10nm)が設けられた。
[Example 4]
The electrode substrate obtained in Example 1 was immersed in a solution obtained by diluting acrylic resin (trade name Watersol S-707-IM) with 2-propanol so that the solid content concentration was 1% by mass, and a transparent conductive layer An acrylic resin-based protective layer (wet film thickness 10 nm) was provided thereon.

[比較例1]
気相成長カーボンナノファイバー(商品名VGCF 昭和電工株式会社製)10mgと、アクリル樹脂(商品名 ウォーターゾール S−707−IM)10mg(固形分として)と、2−プロパノール10mlとが混合された。この混合液に1分間に亘っての超音波照射(装置名ULTRASONIC HOMOGENIZER MODEL UH−600SR、エスエムテー社製)が行なわれ、カーボンナノファイバー分散液が得られた。
このカーボンナノファイバー分散液が、PETフィルム(商品名:コスモシャイン A4100 東洋紡社製)上に、ウェット膜厚50μmで、バーコートされた。この後、80℃で3分間の乾燥が行われ、透明導電層が形成された。これにより、電極基板が得られた。
[Comparative Example 1]
Vapor growth carbon nanofiber (trade name VGCF, manufactured by Showa Denko KK) 10 mg, acrylic resin (trade name Watersol S-707-IM) 10 mg (as solid content), and 2-propanol 10 ml were mixed. This mixed solution was subjected to ultrasonic irradiation (apparatus name: ULTRASONIC HOMOGENIZER MODEL UH-600SR, manufactured by SMT Co., Ltd.) for 1 minute to obtain a carbon nanofiber dispersion.
This carbon nanofiber dispersion was bar-coated with a wet film thickness of 50 μm on a PET film (trade name: Cosmo Shine A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). Then, drying for 3 minutes was performed at 80 degreeC, and the transparent conductive layer was formed. Thereby, an electrode substrate was obtained.

[特性]
上記各例で得られた電極基板について「全光線透過率」「表面抵抗値」「打鍵試験」「摺動筆記試験」「限界曲率半径」「タッチパネル動作性」が調べられた。この結果が表−1,−2に示される。
全光線透過率: 直読ヘーズコンピュータ(スガ試験機社製)を用いて電極基板の全光線透過率が測定された。
表面抵抗値: ロレスタ−EP(ダイアインスツルメンツ社製)を用いて4探針法にて電極基板の表面抵抗値が測定された。
打鍵試験: 条件(3Rシリコンゴム、荷重250g、周波数10Hz(1秒間に10回)、電圧3V)にて電極基板が打鍵試験に供された。
摺動筆記試験: 条件(ポリアセタールペン、荷重250g、筆記カタカナ文字(20×20mm))にて電極基板が摺動筆記試験に供された。
限界曲率半径: 一定の半径を持つ棒に電極基板が巻き付けられ。そして、一定荷重で引っ張りながら表面抵抗が2端子法にて測定された。表面抵抗値が急激に上昇した半径が限界曲率半径とされた。
タッチパネル動作性: 得られた電極基板を上部電極、ITO付ガラスを下部基板とした。そして、各々、銅箔シートを対向する2辺に張り、対向電極とした(図2,3参照)。この上部電極基板と下部電極基板との対向電極が直行するように張り合わされ、抵抗膜式タッチパネルが作製された(図4,5参照)。そして、下部電極基板の電極間抵抗が測定され、上部電極基板が押された時に、下部電極基板の抵抗値が変わった場合をタッチパネルとして動作する場合とした。動作性の良い場合が○で、動作性の悪い場合が×で表示された。
[Characteristic]
The electrode substrates obtained in the above examples were examined for “total light transmittance”, “surface resistance value”, “keystroke test”, “sliding writing test”, “limit radius of curvature”, and “touch panel operability”. The results are shown in Tables 1 and 2.
Total light transmittance: The total light transmittance of the electrode substrate was measured using a direct reading haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
Surface resistance value: The surface resistance value of the electrode substrate was measured by a four-probe method using Loresta-EP (manufactured by Dia Instruments).
Keystroke test: The electrode substrate was subjected to the keystroke test under the conditions (3R silicon rubber, load 250 g, frequency 10 Hz (10 times per second), voltage 3 V).
Sliding writing test: The electrode substrate was subjected to the sliding writing test under the conditions (polyacetal pen, load 250 g, writing katakana character (20 × 20 mm)).
Limit curvature radius: An electrode substrate is wound around a rod having a certain radius. Then, the surface resistance was measured by the two-terminal method while pulling with a constant load. The radius at which the surface resistance value suddenly increased was defined as the critical curvature radius.
Touch panel operability: The obtained electrode substrate was the upper electrode, and the glass with ITO was the lower substrate. Then, a copper foil sheet was stretched on two opposite sides to form a counter electrode (see FIGS. 2 and 3). The upper electrode substrate and the lower electrode substrate were laminated so that the counter electrodes were orthogonal to each other, and a resistive film type touch panel was manufactured (see FIGS. 4 and 5). Then, when the interelectrode resistance of the lower electrode substrate is measured and the upper electrode substrate is pushed, the case where the resistance value of the lower electrode substrate changes is assumed to be a case of operating as a touch panel. A case where the operability was good was indicated by a circle, and a case where the operability was poor was indicated by a cross.

Figure 0005519497
Figure 0005519497
*比較例2のものはITO付PETフィルム(東洋紡社製)
*「表面抵抗値*」は電極基板を80℃のオーブンで10日間放置後の測定値
Figure 0005519497
Figure 0005519497
* The comparative example 2 is a PET film with ITO (Toyobo Co., Ltd.)
* "Surface resistance value *" is the value measured after leaving the electrode substrate in an oven at 80 ° C for 10 days.

[実施例5]
実施例1で得られた単層カーボンナノチューブ分散液が、アンチニュートン処理付ポリカーボネート基板上に、ウェット膜厚20μmで、バーコートされた。この後、80℃で3分間の乾燥が行われ、透明導電層が形成された。この後、塗工面がメタノールで洗浄され、電極基板が得られた。
このようにして得られた電極基板が下部基板とされ、ITO付PETフィルムが上部基板とされ、上記と同様にして抵抗膜式タッチパネルが作製された。そして、上部基板が押された時に、下部基板の電極間抵抗値が変わり、タッチパネルとしての動作性の良いことが確認された。
[Example 5]
The single-walled carbon nanotube dispersion obtained in Example 1 was bar-coated with a wet film thickness of 20 μm on a polycarbonate substrate with anti-Newton treatment. Then, drying for 3 minutes was performed at 80 degreeC, and the transparent conductive layer was formed. Thereafter, the coated surface was washed with methanol to obtain an electrode substrate.
The electrode substrate thus obtained was used as the lower substrate, the PET film with ITO was used as the upper substrate, and a resistive film type touch panel was produced in the same manner as described above. And when the upper board | substrate was pushed, the resistance value between electrodes of a lower board | substrate changed, and it was confirmed that the operativity as a touch panel is good.

[実施例6]
実施例1及び実施例2で得られた電極基板を、各々、上部基板、下部基板とし、上記と同様にして抵抗膜式タッチパネルが作製された。そして、上部基板が押された時に、下部基板の電極間抵抗値が変わり、タッチパネルとしての動作性の良いことが確認された。
[Example 6]
The electrode substrates obtained in Example 1 and Example 2 were used as an upper substrate and a lower substrate, respectively, and resistive film type touch panels were produced in the same manner as described above. And when the upper board | substrate was pushed, the resistance value between electrodes of a lower board | substrate changed, and it was confirmed that the operativity as a touch panel is good.

[実施例7]
実施例1で得られた単層カーボンナノチューブ分散液が、ポリカーボネート基板上に、ウェット膜厚50μmでバーコートされた。この後、80℃で3分間の乾燥が行われ、透明導電層が形成された。そして、塗工面がメタノールで洗浄され、電極基板が得られた。このようにして得られた電極基板の全光線透過率は85%、表面抵抗値は510Ω/□であった。
この電極基板を用いて静電容量式タッチパネル(図6参照)が作製された。電極基板に500Hz,1vの交流電流を流し、静電容量式タッチパネルの基板が押された時に電流値が変わり、タッチパネルとしての動作性の良いことが確認された。
[Example 7]
The single-walled carbon nanotube dispersion obtained in Example 1 was bar-coated on a polycarbonate substrate with a wet film thickness of 50 μm. Then, drying for 3 minutes was performed at 80 degreeC, and the transparent conductive layer was formed. And the coating surface was wash | cleaned with methanol, and the electrode substrate was obtained. The electrode substrate thus obtained had a total light transmittance of 85% and a surface resistance value of 510Ω / □.
A capacitive touch panel (see FIG. 6) was fabricated using this electrode substrate. When an alternating current of 500 Hz, 1v was passed through the electrode substrate and the capacitive touch panel substrate was pressed, the current value changed, and it was confirmed that the touch panel has good operability.

この出願は、2008年5月24日に出願された日本出願特願2008−136118を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

This application claims the priority on the basis of Japanese application Japanese Patent Application No. 2008-136118 for which it applied on May 24, 2008, and takes in those the indications of all here.

Claims (10)

電極基板を有するタッチパネルであって、
前記電極基板は、
基板と、
前記基板上に設けられた導電層
とを有し、
前記導電層は、
絡み合った単層カーボンナノチューブ、及び水酸化フラーレンを有し、
バインダ樹脂を有さない
ことを特徴とするタッチパネル。
A touch panel having an electrode substrate,
The electrode substrate is
A substrate,
A conductive layer provided on the substrate;
The conductive layer is
Having intertwined single-walled carbon nanotubes and fullerene hydroxide ,
A touch panel characterized by having no binder resin.
前記フラーレン量は、前記単層カーボンナノチューブ100質量部に対して10〜1000質量部である
ことを特徴とする請求項1のタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein the amount of the fullerene is 10 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the single-walled carbon nanotube.
前記単層カーボンナノチューブがアーク放電法によって得られた単層カーボンナノチューブである
ことを特徴とする請求項1又は請求項2のタッチパネル。
The touch panel according to claim 1 or 2, wherein the single-walled carbon nanotube is a single-walled carbon nanotube obtained by an arc discharge method.
前記単層カーボンナノチューブは酸処理された単層カーボンナノチューブである
ことを特徴とする請求項1〜請求項3いずれかのタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein the single-walled carbon nanotube is an acid-treated single-walled carbon nanotube.
前記基板は光透過性を有するフレキシブル基板である
ことを特徴とする請求項1〜請求項4いずれかのタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein the substrate is a light-transmitting flexible substrate.
前記電極基板は前記導電層上に設けられた保護層を有する
ことを特徴とする請求項1〜請求項5いずれかのタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein the electrode substrate has a protective layer provided on the conductive layer.
前記電極基板はアンチニュートン層を有する
ことを特徴とする請求項1〜請求項6いずれかのタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein the electrode substrate has an anti-Newton layer.
静電容量式のタッチパネルである
ことを特徴とする請求項1〜請求項7いずれかのタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is a capacitive touch panel.
抵抗膜式のタッチパネルである
ことを特徴とする請求項1〜請求項7いずれかのタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is a resistive film type touch panel.
前記抵抗膜式のタッチパネルは、電極基板の導電層が互いに向い合うように対向配置されたものであり、
少なくとも一方の電極基板が前記請求項1〜請求項7いずれかのタッチパネルの電極基板である
ことを特徴とするタッチパネル。
The resistive film type touch panel is disposed so that the conductive layers of the electrode substrate face each other.
The touch panel, wherein at least one of the electrode substrates is an electrode substrate of the touch panel according to any one of claims 1 to 7.
JP2010514443A 2008-05-24 2009-05-19 Touch panel Expired - Fee Related JP5519497B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010514443A JP5519497B2 (en) 2008-05-24 2009-05-19 Touch panel

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008136118 2008-05-24
JP2008136118 2008-05-24
PCT/JP2009/059157 WO2009145080A1 (en) 2008-05-24 2009-05-19 Touch panel
JP2010514443A JP5519497B2 (en) 2008-05-24 2009-05-19 Touch panel

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009145080A1 JPWO2009145080A1 (en) 2011-10-06
JP5519497B2 true JP5519497B2 (en) 2014-06-11

Family

ID=41376961

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010514443A Expired - Fee Related JP5519497B2 (en) 2008-05-24 2009-05-19 Touch panel

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5519497B2 (en)
TW (1) TW201003191A (en)
WO (1) WO2009145080A1 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069515A (en) * 2010-08-25 2012-04-05 Toray Ind Inc Transparent conductive laminate and method for manufacturing the same
JP2013053241A (en) * 2011-09-05 2013-03-21 Kuraray Co Ltd Laminate
JP5497222B2 (en) * 2012-09-28 2014-05-21 バンドー化学株式会社 Capacitance type sensor sheet and method for manufacturing capacitance type sensor sheet
CN104880863B (en) * 2015-06-30 2018-08-28 厦门天马微电子有限公司 Compartmentalization structure of polarized light and preparation method thereof, liquid crystal display panel
WO2017126466A1 (en) * 2016-01-20 2017-07-27 東洋紡株式会社 Transparent conductive film

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002346996A (en) * 2001-05-21 2002-12-04 Fuji Xerox Co Ltd Method of manufacturing carbon nanotube structure as well as carbon nanotube structure and carbon nanotube device using the same
JP2005142088A (en) * 2003-11-07 2005-06-02 Dainippon Printing Co Ltd Electrode board for dye-sensitized solar cell, and the dye-sensitized solar cell
JP2005255985A (en) * 2001-03-26 2005-09-22 Eikos Inc Carbon nanotube-containing coating film
WO2005110594A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-24 Hokkaido Technology Licensing Office Co., Ltd. Fine carbon dispersion
WO2006028131A1 (en) * 2004-09-10 2006-03-16 Gunze Co., Ltd. Touch panel and method for manufacturing film material for touch panel
US20060274048A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Eastman Kodak Company Touchscreen with conductive layer comprising carbon nanotubes
WO2006130366A2 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Eastman Kodak Company Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer
WO2006132254A1 (en) * 2005-06-07 2006-12-14 Kuraray Co., Ltd. Carbon nanotube dispersion liquid and transparent conductive film using same

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005255985A (en) * 2001-03-26 2005-09-22 Eikos Inc Carbon nanotube-containing coating film
JP2002346996A (en) * 2001-05-21 2002-12-04 Fuji Xerox Co Ltd Method of manufacturing carbon nanotube structure as well as carbon nanotube structure and carbon nanotube device using the same
JP2005142088A (en) * 2003-11-07 2005-06-02 Dainippon Printing Co Ltd Electrode board for dye-sensitized solar cell, and the dye-sensitized solar cell
WO2005110594A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-24 Hokkaido Technology Licensing Office Co., Ltd. Fine carbon dispersion
WO2006028131A1 (en) * 2004-09-10 2006-03-16 Gunze Co., Ltd. Touch panel and method for manufacturing film material for touch panel
US20060274048A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Eastman Kodak Company Touchscreen with conductive layer comprising carbon nanotubes
WO2006130366A2 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Eastman Kodak Company Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer
WO2006132254A1 (en) * 2005-06-07 2006-12-14 Kuraray Co., Ltd. Carbon nanotube dispersion liquid and transparent conductive film using same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009145080A1 (en) 2009-12-03
JPWO2009145080A1 (en) 2011-10-06
TW201003191A (en) 2010-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5320287B2 (en) Transparent conductive film and method for producing transparent conductive film
JP5221088B2 (en) Transparent conductive film and method for producing the same
Lee et al. Highly effective electromagnetic interference shielding materials based on silver nanowire/cellulose papers
JP5401814B2 (en) Method for producing transparent conductive film and transparent conductive film
Feng et al. Flexible, stretchable, transparent conducting films made from superaligned carbon nanotubes
Saran et al. Fabrication and characterization of thin films of single-walled carbon nanotube bundles on flexible plastic substrates
CN101599316B (en) Light-transmitting electric conductor, method of manufacturing the same, destaticizing sheet, and electronic device
JP2009252014A (en) Touch panel
JP5519497B2 (en) Touch panel
JP5707628B2 (en) Graphene roll-to-roll transfer method, graphene roll-to-roll transfer apparatus, graphene roll manufacturing method, and element manufacturing method
TWI357167B (en) Touch panel, method for making the same, and displ
TW201434640A (en) Transparent conductive film
US20100187485A1 (en) Single-walled carbon nanotube dispersion liquid and method for producing single-walled carbon nanotube dispersion liquid
JP2006019239A (en) Transparent conductive film
JP2009205924A (en) Transparent conductive film, transparent conductive member, and silver nano wire dispersion solution and manufacturing method of transparent conductive film
JP6124099B1 (en) Conductive laminate, molded body using the same, capacitive touch sensor and planar heating element, and method for manufacturing molded body
JP2012151095A (en) Transparent conductive film, transparent electrode for electrostatic capacitance type touch panel, and touch panel
Tang et al. Chemical resistant silver nanowire/cellulose nanofibril flexible transparent conductive coatings
JP5274103B2 (en) Electrode substrate and touch panel
JP2009282865A (en) Transparent electrode substrate for touch panel and touch panel
Choi et al. Fabrication of a flexible and transparent touch sensor using single-walled carbon nanotube thin-films
JP5688395B2 (en) Method for forming conductive pattern and transparent conductive film
JP2006035776A (en) Antistatic resin molded product
JP5388021B2 (en) Liquid crystal cell and liquid crystal display device
JP2016018715A (en) Transparent conductive film structure, and formation method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120511

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120511

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130828

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131024

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140326

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140403

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5519497

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees