JP2020191286A - Conductive member and laminate - Google Patents

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Kenichi Ogawa
健一 小川
健祐 大塚
Kensuke Otsuka
健祐 大塚
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Abstract

To provide a conductive member having a metal-including layer and an adhesive layer, capable of preventing migration from occurring.SOLUTION: A conductive member 10 includes: a metal-including layer in which metal particles are dispersed in a resin material; and an adhesive layer 2 on one side of the metal-including layer. The adhesive layer includes ammonia and amine of 10 ng/g or less in total.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示の実施態様は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層を有する導電性部材に関する。 An embodiment of the present disclosure relates to a conductive member having a metal-containing layer in which metal particles are dispersed in a resin material.

近年、導電性部材に用いられる導電材料として、金属粒子が注目されている。金属粒子を用いた導電性部材は、例えば、金属粒子が樹脂材料中に分散された金属含有層を有する。 In recent years, metal particles have been attracting attention as a conductive material used for a conductive member. The conductive member using the metal particles has, for example, a metal-containing layer in which the metal particles are dispersed in the resin material.

ところで、従来、導電性部材のマイグレーションの発生が問題となっている。マイグレーションは、主に、導電性部材に電圧が印加されることにより、金属含有層に含まれる金属粒子が金属イオンとなって移動し、例えば絶縁領域において金属が析出するという現象である。マイグレーションが発生すると、例えば、導電性部材をタッチパネルの配線基材として用いた際に、短絡等の不具合が生じてしまう。 By the way, conventionally, the occurrence of migration of conductive members has been a problem. Migration is a phenomenon in which, when a voltage is applied to a conductive member, metal particles contained in a metal-containing layer move as metal ions, and for example, metal is deposited in an insulating region. When migration occurs, for example, when a conductive member is used as a wiring base material for a touch panel, a problem such as a short circuit occurs.

特開2014−29671号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-29671

ところで、導電性部材をタッチパネルの配線基材として用いる場合、通常、導電性部材、すなわち金属含有層は、粘着層により透明基材に貼合される。しかしながら、金属含有層表面に粘着層を配置した構成の場合、マイグレーションの発生が顕著になるという問題がある。 By the way, when the conductive member is used as the wiring base material of the touch panel, the conductive member, that is, the metal-containing layer is usually bonded to the transparent base material by the adhesive layer. However, in the case of the configuration in which the adhesive layer is arranged on the surface of the metal-containing layer, there is a problem that the occurrence of migration becomes remarkable.

本開示は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、金属含有層および粘着層を有し、マイグレーションの発生を抑制することが可能な導電性部材を提供することを主目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above problems, and an object of the present disclosure is to provide a conductive member having a metal-containing layer and an adhesive layer and capable of suppressing the occurrence of migration.

本開示の1実施態様は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層と、上記金属含有層の一方の面上の粘着層と、を有し、上記粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である導電性部材を提供する。 One embodiment of the present disclosure comprises a metal-containing layer in which metal particles are dispersed in a resin material and an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer, and ammonia and ammonia contained in the adhesive layer. Provided is a conductive member having a total amount of amines of 10 ng / g or less.

本開示の1実施態様においては、上記粘着層の上記金属含有層とは反対側の面上に剥離基材を有する導電性部材を提供する。 In one embodiment of the present disclosure, a conductive member having a release base material on a surface of the adhesive layer opposite to the metal-containing layer is provided.

本開示の1実施態様は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層、および上記金属含有層の一方の面上の粘着層を有する導電性部材と、上記導電性部材の上記粘着層側の面上の機能層と、を有し、上記粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である積層体を提供する。 One embodiment of the present disclosure comprises a conductive member having a metal-containing layer in which metal particles are dispersed in a resin material and an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer, and the adhesive layer of the conductive member. Provided is a laminate having a functional layer on the side surface and having a total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer of 10 ng / g or less.

本開示の1実施態様においては、金属含有層の一方の面上に粘着層を有する構成であっても、マイグレーションの発生を抑制できる導電性部材とすることができるという効果を奏する。 In one embodiment of the present disclosure, even if the structure has an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer, it is possible to obtain a conductive member capable of suppressing the occurrence of migration.

本開示の導電性部材の一例を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows an example of the conductive member of this disclosure. 本開示の導電性部材の他の例を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows the other example of the conductive member of this disclosure. 本開示の導電性部材の他の例を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows the other example of the conductive member of this disclosure. 本開示の積層体の一例を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows an example of the laminated body of this disclosure. 配線変質幅の評価方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the evaluation method of the wiring deterioration width.

本明細書において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に(又は下に)」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の構成の直上(又は直下)にある場合のみでなく、他の構成の上方(又は下方)にある場合を含み、すなわち、他の構成の上方(又は下方)において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。 In the present specification, when a certain structure such as a member or a certain area is "above (or below)" another structure such as another member or another area, unless otherwise specified. This includes not only the case of being directly above (or directly below) the other configuration, but also the case of being above (or below) the other configuration, that is, another configuration in between above (or below) the other configuration. Including the case where the element is included.

以下、本開示の実施の態様を、図面等を参照しながら説明する。但し、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の態様の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実施の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。また、説明の便宜上、上方又は下方という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to drawings and the like. However, the present disclosure can be implemented in many different embodiments and is not construed as limited to the description of the embodiments exemplified below. Further, in order to clarify the description, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the embodiment, but this is merely an example, and the interpretation of the present disclosure is used. It is not limited. Further, in the present specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the above-mentioned figures may be designated by the same reference numerals, and detailed description thereof may be omitted as appropriate. Further, for convenience of explanation, the phrase "upper" or "lower" may be used for explanation, but the vertical direction may be reversed.

以下、本開示の1実施態様における導電性部材および積層体について説明する。 Hereinafter, the conductive member and the laminate according to one embodiment of the present disclosure will be described.

A.導電性部材
本開示の1実施態様の導電性部材は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層と、上記金属含有層の一方の面上の粘着層と、を有し、上記粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である部材である。
A. Conductive Member The conductive member of one embodiment of the present disclosure has a metal-containing layer in which metal particles are dispersed in a resin material, and an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer. It is a member in which the total amount of ammonia and amines contained in the layer is 10 ng / g or less.

本開示の1実施態様の導電性部材について図面を参照しながら説明する。
図1は、本開示の1実施態様における導電性部材の一例を示す概略断面図である。図1に示すように、本開示の導電性部材10は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層1と、金属含有層の一方の面上の粘着層2とを有する。また、本開示の1実施態様においては、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である。
The conductive member of one embodiment of the present disclosure will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conductive member according to one embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 1, the conductive member 10 of the present disclosure has a metal-containing layer 1 in which metal particles are dispersed in a resin material, and an adhesive layer 2 on one surface of the metal-containing layer. Further, in one embodiment of the present disclosure, the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer is 10 ng / g or less.

本開示の1実施態様の導電性部材によれば、金属含有層の一方の面上に粘着層を有する構成であっても、マイグレーションの発生を抑制できる導電性部材とすることができる。
このような効果が得られる具体的な理由としては、以下のことが考えられる。
According to the conductive member of one embodiment of the present disclosure, even if the structure has an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer, the conductive member can suppress the occurrence of migration.
The following can be considered as specific reasons for obtaining such an effect.

従来、導電性部材においては、マイグレーションの発生が課題の一つとなっている。マイグレーションは、主に、導電性部材に電圧が印加されることにより、金属含有層に含まれる金属粒子が金属イオンとなって移動し、例えば絶縁領域において金属が析出するという現象である。したがって、導電性部材をタッチパネルのセンサ電極等に用いた際、マイグレーションの発生により、短絡等の不具合が生じてしまうという課題がある。そこで、本発明者等は、マイグレーションの発生について検討を重ねたところ、金属含有層の表面に粘着層が配置された構成を有する導電性部材の場合に、特にマイグレーションの発生が顕著となるという課題を新たに発見した。 Conventionally, the occurrence of migration has been one of the problems in conductive members. Migration is a phenomenon in which, when a voltage is applied to a conductive member, metal particles contained in a metal-containing layer move as metal ions, and for example, metal is deposited in an insulating region. Therefore, when the conductive member is used for the sensor electrode of the touch panel or the like, there is a problem that a problem such as a short circuit occurs due to the occurrence of migration. Therefore, as a result of repeated studies on the occurrence of migration, the present inventors have a problem that the occurrence of migration becomes particularly remarkable in the case of a conductive member having a structure in which an adhesive layer is arranged on the surface of the metal-containing layer. Was newly discovered.

本発明者等は、金属含有層の表面に粘着層が配置された構成を有する導電性部材を用いた場合に、マイグレーションの発生が顕著となる理由について検討を重ねた。その結果、粘着層に含まれるアンモニアおよびアミン類が影響しているという新たな知見を得た。具体的には、次の通りである。まず、アンモニアおよびアミン類は、孤立電子対を有することにより、下記式に示すような銀酸化物や、その他のハロゲン化銀等と反応して錯体を形成すると考えられる。上記錯体は、イオン化して電荷を帯びるため、電圧が印加されて勾配が生じることで移動しやすくなると考えられる。このような理由から、金属含有層の表面に粘着層が配置された構成を有する場合には、粘着層に含まれたアンモニアおよびアミン類によって、金属イオンが移動しやすくなり、マイグレーションの発生が顕著になると考えられる。 The present inventors have repeatedly studied the reason why migration is remarkable when a conductive member having a structure in which an adhesive layer is arranged on the surface of a metal-containing layer is used. As a result, we obtained a new finding that ammonia and amines contained in the adhesive layer have an effect. Specifically, it is as follows. First, it is considered that ammonia and amines have a lone electron pair and thus react with a silver oxide as shown in the following formula or other silver halide to form a complex. Since the complex is ionized and charged, it is considered that the complex is easily moved by applying a voltage to generate a gradient. For this reason, when the adhesive layer is arranged on the surface of the metal-containing layer, the ammonia and amines contained in the adhesive layer facilitate the movement of metal ions, and the occurrence of migration is remarkable. It is thought that

Figure 2020191286
Figure 2020191286

したがって、本開示の1実施態様によれば金属含有層の一方の面上に粘着層を有する構成であっても、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量を所定の範囲内とすることにより、上述した反応を抑制し、マイグレーションの発生を抑制することができると考えられる。なお、ここでは、具体例として金属含有層に含まれる金属粒子が銀粒子である場合について説明したが、銅粒子等のその他の金属粒子においても同様とすることができる。 Therefore, according to one embodiment of the present disclosure, even if the structure has an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer, the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer shall be within a predetermined range. Therefore, it is considered that the above-mentioned reaction can be suppressed and the occurrence of migration can be suppressed. Although the case where the metal particles contained in the metal-containing layer are silver particles has been described here as a specific example, the same can be applied to other metal particles such as copper particles.

以下、本開示の1実施態様における導電性部材の各構成について説明する。 Hereinafter, each configuration of the conductive member according to one embodiment of the present disclosure will be described.

1.粘着層
本開示の1実施態様における粘着層は、金属含有層の一方の面上に配置される部材である。また、本開示の1実施態様においては、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である。
1. 1. Adhesive layer The adhesive layer in one embodiment of the present disclosure is a member arranged on one surface of the metal-containing layer. Further, in one embodiment of the present disclosure, the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer is 10 ng / g or less.

本開示の1実施態様においては、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下であれば良く、中でも7ng/g以下であることが好ましく、特に1ng/g以下であることが好ましい。粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が上記範囲内であることにより、粘着層に含まれるアンモニアまたはアミン類が、金属含有層に含まれる金属粒子と反応して金属イオンとなることを抑制することができる。したがって、導電性部材に電圧が印加された際に、当該金属イオンが移動し、例えば導電性を有しない絶縁領域において金属が析出する等の不具合の発生を抑制することができる。 In one embodiment of the present disclosure, the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer may be 10 ng / g or less, preferably 7 ng / g or less, and particularly 1 ng / g or less. Is preferable. When the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer is within the above range, the ammonia or amines contained in the adhesive layer react with the metal particles contained in the metal-containing layer to form metal ions. It can be suppressed. Therefore, when a voltage is applied to the conductive member, the metal ions move, and it is possible to suppress the occurrence of problems such as metal precipitation in an insulating region having no conductivity.

なお、ここでいう「アミン類」とは、1級アミン、2級アミン、3級アミン等を指し、具体的には、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン等が挙げられる。 The term "amines" as used herein refers to primary amines, secondary amines, tertiary amines and the like, and specific examples thereof include monomethylamine, dimethylamine and triethylamine.

粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量は、次のような方法により測定することができる。例えば、粘着層をポリプロピレンの袋に入れ、さらに60mlの超純水を入れて、当該袋内にて粘着層を超純水に浸す。次に当該袋をヒートシーラーにて封止し、それを100℃のウォーターバス浴中に入れ、1時間静置する。これにより、超純水に粘着層に含まれる成分が溶出される。最後に、得られた溶出液のイオン濃度を、イオンクロマトグラフ ICS−3000を用いて測定することにより、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量を測ることができる。
なお、粘着層として液状の粘着層形成用組成物を用いる場合には、基材上に液状の粘着層形成用組成物を塗布して乾燥させたものを用いて、上述した方法と同様にしてアンモニアおよびアミン類の総量を測定することができる。
The total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer can be measured by the following method. For example, the adhesive layer is placed in a polypropylene bag, 60 ml of ultrapure water is further added, and the adhesive layer is immersed in ultrapure water in the bag. Next, the bag is sealed with a heat sealer, placed in a water bath bath at 100 ° C., and allowed to stand for 1 hour. As a result, the components contained in the adhesive layer are eluted into the ultrapure water. Finally, by measuring the ion concentration of the obtained eluate using an ion chromatograph ICS-3000, the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer can be measured.
When a liquid pressure-sensitive adhesive layer-forming composition is used as the pressure-sensitive adhesive layer, a liquid pressure-sensitive adhesive layer-forming composition is applied onto a base material and dried, in the same manner as described above. The total amount of ammonia and amines can be measured.

本開示の1実施態様における粘着層は、シート状のものを用いても良く、あるいは液状の粘着層形成用組成物を塗布して乾燥させたものとしても良い。粘着層がシート状である場合には、金属含有層の一方の面上に、シート状の粘着層を貼合することで配置することができる。また、粘着層が液状である場合には、金属含有層の一方の面上に、粘着層を構成する液状の材料を塗布して乾燥させることで配置することができる。 As the adhesive layer in one embodiment of the present disclosure, a sheet-like one may be used, or a liquid adhesive layer forming composition may be applied and dried. When the adhesive layer is in the form of a sheet, it can be arranged by laminating the sheet-like adhesive layer on one surface of the metal-containing layer. When the adhesive layer is liquid, it can be arranged by applying a liquid material constituting the adhesive layer on one surface of the metal-containing layer and drying it.

粘着層を構成する粘着層形成用組成物は、導電性部材に用いることができ、かつアンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下であれば特に限定されない。このような粘着層を構成する粘着層形成用組成物には、例えば、アクリル系粘着組成物、ウレタン系粘着組成物、シリコーン系粘着組成物等を用いることができる。中でも、アクリル系粘着組成物を用いることが好ましい。アクリル系粘着組成物を用いた場合には、ウレタン系粘着組成物に比べて優れた接着力、耐熱性および耐候性を得ることができる。また、シリコーン系粘着組成物に比べて優れた接着力を得ることができ、またコスト面でも優れている。 The composition for forming an adhesive layer constituting the adhesive layer is not particularly limited as long as it can be used for a conductive member and the total amount of ammonia and amines is 10 ng / g or less. As the adhesive layer forming composition constituting such an adhesive layer, for example, an acrylic adhesive composition, a urethane adhesive composition, a silicone adhesive composition, or the like can be used. Above all, it is preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive composition. When an acrylic pressure-sensitive adhesive composition is used, excellent adhesive strength, heat resistance and weather resistance can be obtained as compared with the urethane-based pressure-sensitive adhesive composition. Further, it is possible to obtain an excellent adhesive force as compared with the silicone-based adhesive composition, and it is also excellent in terms of cost.

粘着層の材料としてアクリル系粘着組成物を用いる場合、粘着層形成用組成物は、主剤樹脂と硬化剤とを含有する熱硬化型粘着組成物であっても良いし、主剤樹脂と電離放射線重合性モノマーまたはオリゴマーとを含有する電子線硬化型粘着組成物であっても良い。
ここで、「電離放射線」とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線又は電子線が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
When an acrylic pressure-sensitive adhesive composition is used as the material of the pressure-sensitive adhesive layer, the composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer may be a thermosetting pressure-sensitive adhesive composition containing a main agent resin and a curing agent, or may be a thermosetting adhesive composition containing a main agent resin and ionizing radiation polymerization. It may be an electron beam curable pressure-sensitive adhesive composition containing a sex monomer or an oligomer.
Here, "ionizing radiation" means an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking a molecule, and usually, ultraviolet rays or electron beams are used, but other X-rays, Electromagnetic waves such as γ-rays and charged particle beams such as α-rays and ion rays can also be used.

アクリル系粘着組成物に用いられる主剤樹脂としては、例えば、アクリル酸エステルと他の単量体とを共重合させたアクリル酸エステル共重合体が挙げられる。アクリル酸エステルとしては、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸ヒドロキシルエチル、アクリルアミド等が挙げられる。これらは、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the main resin used in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition include an acrylic acid ester copolymer obtained by copolymerizing an acrylic acid ester with another monomer. Examples of the acrylic acid ester include ethyl acrylate, -n-butyl acrylate, -2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate, hydroxylethyl acrylate, and acrylamide. These can be used alone or in combination of two or more.

アクリル系粘着組成物に用いられる硬化剤としては、例えば、イソシアネート系硬化剤、エポキシ系硬化剤が広く用いられる。イソシアネート系硬化剤として、例えば、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物の3量体、ポリイソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られるイソシアネート基を末端に有するウレタンプレポリマー、該ウレタンプレポリマーの3量体等が挙げられる。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,5−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。エポキシ系硬化剤として、例えば、ビスフェノールA、エピクロルヒドリン型のエポキシ系樹脂;エチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン及び1,3−ビス(N,N’−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサンが挙げられる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。 As the curing agent used in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition, for example, an isocyanate-based curing agent and an epoxy-based curing agent are widely used. Examples of the isocyanate-based curing agent include a polyisocyanate compound, a trimeric of a polyisocyanate compound, a urethane prepolymer having an isocyanate group at the end obtained by reacting the polyisocyanate compound with a polyol compound, and a trimeric of the urethane prepolymer. The body etc. can be mentioned. Examples of the polyisocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,5-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and the like. Examples of epoxy-based curing agents include bisphenol A and epichlorohydrin-type epoxy resins; ethylene glycol glycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, N, N, N'. , N'-tetraglycidyl-m-xylene diamine and 1,3-bis (N, N'-diglycidyl aminomethyl) cyclohexane. These can be used alone or in combination.

アクリル系粘着組成物に用いられる電離放射線重合性モノマーまたはオリゴマーとしては、例えば、光ラジカル重合性、光カチオン重合性、光アニオン重合性等のオリゴマーが挙げられる。これらの中でも、光ラジカル重合性のモノマー又はオリゴマーが好ましい。
硬化速度が速く、また、多種多様な化合物から選択することができるからである。
Examples of the ionizing radiation polymerizable monomer or oligomer used in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition include oligomers such as photoradical polymerizable, photocationic polymerizable, and photoanionic polymerizable. Among these, photoradical polymerizable monomers or oligomers are preferable.
This is because the curing rate is high and it is possible to select from a wide variety of compounds.

アクリル系粘着組成物に電離放射線重合性モノマーまたはオリゴマーが用いられる場合、電離放射線重合性モノマーまたはオリゴマーの感応性を高め、電離放射線による重合硬化時間や電離放射線の照射量を低減することを目的として、重合開始剤を添加することが好ましい。 When an ionizing radiation polymerizable monomer or oligomer is used in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition, the purpose is to increase the sensitivity of the ionizing radiation polymerizable monomer or oligomer, and to reduce the polymerization curing time by ionizing radiation and the irradiation amount of ionizing radiation. , It is preferable to add a polymerization initiator.

本開示の1実施態様における粘着層は、上述した材料の他にも、必要に応じて、可塑剤、金属キレート剤、シランカップリング剤、分散剤、消泡剤、光安定化剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、酸化防止剤等を添加することができる。これらは、公知のものを特に制限なく使用することができ、粘着層に求められる性能に応じて、適宜選択することができる。 In addition to the materials described above, the pressure-sensitive adhesive layer according to one embodiment of the present disclosure includes a plasticizer, a metal chelating agent, a silane coupling agent, a dispersant, a defoaming agent, a light stabilizer, and ultraviolet absorption, if necessary. Agents, heat stabilizers, antioxidants and the like can be added. As these, known ones can be used without particular limitation, and can be appropriately selected depending on the performance required for the adhesive layer.

粘着層の厚みは、本開示の1実施態様における導電性部材の用途等に応じて適宜調整することができる。粘着層の厚みとしては、例えば、25μm以上であることが好ましく、中でも50μm以上であることが好ましく、特に100μm以上であることが好ましい。
また、粘着層の厚みとしては、例えば、500μm以下であることが好ましく、中でも300μm以下であることが好ましく、特に200μm以下であることが好ましい。粘着層の厚みが上記範囲内であることにより、所定の粘着性を得ることができ、また、導電性部材にフレキシブル性を付与することが可能となる。
The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the use of the conductive member in one embodiment of the present disclosure. The thickness of the adhesive layer is, for example, preferably 25 μm or more, particularly preferably 50 μm or more, and particularly preferably 100 μm or more.
The thickness of the adhesive layer is, for example, preferably 500 μm or less, particularly preferably 300 μm or less, and particularly preferably 200 μm or less. When the thickness of the adhesive layer is within the above range, a predetermined adhesiveness can be obtained, and flexibility can be imparted to the conductive member.

本開示の1実施態様における粘着層の形成方法としては、例えば、粘着層がシート状である場合には、金属含有層の一方の面上にシート状の粘着層を貼合する方法が挙げられる。一方、液状の粘着層形成用組成物を用いる場合には、金属含有層の一方の面上に液状の粘着層形成用組成物を塗布して乾燥させる方法が挙げられる。このとき用いられる塗布法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ビードコート法等の公知の方法が挙げられる。 As a method of forming the adhesive layer in one embodiment of the present disclosure, for example, when the adhesive layer is in the form of a sheet, a method of laminating the sheet-like adhesive layer on one surface of the metal-containing layer can be mentioned. .. On the other hand, when a liquid adhesive layer forming composition is used, a method of applying the liquid adhesive layer forming composition on one surface of the metal-containing layer and drying it can be mentioned. Examples of the coating method used at this time include known methods such as a spin coating method, a roll coating method, a die coating method, a spray coating method, and a bead coating method.

2.金属含有層
本開示の1実施態様における金属含有層は、樹脂材料中に金属粒子が分散された部材である。
2. 2. Metal-containing layer The metal-containing layer in one embodiment of the present disclosure is a member in which metal particles are dispersed in a resin material.

ここで、「樹脂材料」とは、特に言及しない限り、モノマー、オリゴマー、ポリマー等も包含する概念である。 Here, the term "resin material" is a concept that includes monomers, oligomers, polymers, and the like, unless otherwise specified.

また、「粒子」とは、例えば、平均一次粒子径が、0.1nm以上100μm以下であり、繊維状、球状および鱗片状等の形状を有するものをいう。
なお、平均一次粒子径は、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で求めることができる。具体的には、「粒子」が繊維状である場合、透過型電子顕微鏡写真(TEM)(例えば、日立ハイテク製 H−7650)にて粒子像を測定し、ランダムに選択した100個の一次粒子の短軸の長さ、すなわち繊維径の長さの平均値を平均一次粒径とすることができる。また、「粒子」が球状や鱗片状等のその他の形状である場合、TEMにて粒子像を測定し、ランダムに選択した100個の一次粒子の最長部の長さの平均値を平均一次粒径とすることができる。
Further, the “particle” means, for example, a particle having an average primary particle diameter of 0.1 nm or more and 100 μm or less and having a fibrous, spherical or scaly shape.
The average primary particle diameter can be obtained by a method of directly measuring the size of the primary particles from an electron micrograph. Specifically, when the "particles" are fibrous, the particle image is measured by a transmission electron micrograph (TEM) (for example, H-7650 manufactured by Hitachi High-Tech), and 100 randomly selected primary particles are selected. The length of the minor axis of the above, that is, the average value of the lengths of the fiber diameters can be used as the average primary particle size. When the "particle" has another shape such as a spherical shape or a scaly shape, the particle image is measured by TEM, and the average value of the length of the longest part of 100 randomly selected primary particles is averaged as the primary grain. It can be a diameter.

本開示の1実施態様における金属含有層は、例えば、図1に示すように、金属含有層1の全体に金属粒子が均一に分散され、金属含有層1の全域が所定の導電性を有する導電部1aであっても良く、あるいは、図2(a)、(b)に示すように、金属含有層に金属粒子が不均一に分散されていても良い。具体的には、図2(a)に示すように、金属含有層1の粘着層2側の表層に金属粒子が集中し、金属含有層1の粘着層2側の表層が所定の導電性を有する導電部1aであり、金属含有層1の粘着層2とは反対側の表層が非導電部1bであっても良い。また、図2(b)に示すように、金属含有層1の粘着層2とは反対側の表層に金属粒子が集中し、金属含有層1の粘着層2とは反対側の表層が所定の導電性を有する導電部1aであり、金属含有層1の粘着層2側の表層が非導電部1bであっても良い。 In the metal-containing layer according to one embodiment of the present disclosure, for example, as shown in FIG. 1, metal particles are uniformly dispersed throughout the metal-containing layer 1, and the entire area of the metal-containing layer 1 has a predetermined conductivity. Part 1a may be used, or as shown in FIGS. 2A and 2B, metal particles may be unevenly dispersed in the metal-containing layer. Specifically, as shown in FIG. 2A, metal particles are concentrated on the surface layer of the metal-containing layer 1 on the adhesive layer 2 side, and the surface layer of the metal-containing layer 1 on the adhesive layer 2 side has a predetermined conductivity. The conductive portion 1a may be provided, and the surface layer of the metal-containing layer 1 opposite to the adhesive layer 2 may be the non-conductive portion 1b. Further, as shown in FIG. 2B, metal particles are concentrated on the surface layer of the metal-containing layer 1 opposite to the adhesive layer 2, and the surface layer of the metal-containing layer 1 opposite to the adhesive layer 2 is predetermined. It is a conductive portion 1a having conductivity, and the surface layer on the adhesive layer 2 side of the metal-containing layer 1 may be a non-conductive portion 1b.

ここで、「表層」とは、金属含有層の表面付近の領域を指す。また、「導電部」とは、金属粒子により導電性を有する領域を指し、「非導電部」とは、金属含有層において、導電部以外の領域をいう。なお、「導電性を有する」とは、例えば表面抵抗値が1×10Ω/□以下であることをいう。 Here, the "surface layer" refers to a region near the surface of the metal-containing layer. Further, the "conductive portion" refers to a region having conductivity due to metal particles, and the "non-conductive portion" refers to a region other than the conductive portion in the metal-containing layer. In addition, "having conductivity" means, for example, that the surface resistance value is 1 × 10 6 Ω / □ or less.

本開示の1実施態様における金属含有層の厚みは、導電性部材の用途や金属含有層に含まれる金属粒子の大きさ等に応じて適宜調整することができるため、ここでの記載は省略する。 Since the thickness of the metal-containing layer in one embodiment of the present disclosure can be appropriately adjusted according to the use of the conductive member, the size of the metal particles contained in the metal-containing layer, and the like, the description thereof is omitted here. ..

以下、本開示の1実施態様における金属含有層について、導電部および非導電部に分けて説明する。 Hereinafter, the metal-containing layer according to one embodiment of the present disclosure will be described separately for a conductive portion and a non-conductive portion.

(1)導電部
本開示の1実施態様における金属含有層は、例えば図1に示すように、金属含有層1の全域が導電部1aであっても良く、あるいは図2(a)、(b)に示すように、金属含有層1のいずれか一方の表層が導電部1aであっても良い。
(1) Conductive portion As the metal-containing layer in one embodiment of the present disclosure, for example, as shown in FIG. 1, the entire area of the metal-containing layer 1 may be the conductive portion 1a, or FIGS. 2 (a) and 2 (b). ), The surface layer of any one of the metal-containing layers 1 may be the conductive portion 1a.

本開示における1実施態様においては、金属含有層における導電部が、金属粒子を所定の量以上有することにより、所望の導電性を有する導電性部材を得ることができる。導電部が有する導電性は、本開示の1実施態様における導電性部材の用途等に応じて適宜調整することができるが、例えば、導電部の表面抵抗値が、1000Ω/□以下であることが好ましく、中でも500Ω/□以下であることが好ましく、特に100Ω/□以下であることが好ましい。金属含有層における導電部の表面抵抗値が上記範囲内であることにより、所望の導電性を有する導電性部材とすることができる。また、本開示の1実施態様においては、導電部の表面抵抗値を、1×10Ω/□以上とすることができる。 In one embodiment of the present disclosure, a conductive member having desired conductivity can be obtained by having a predetermined amount or more of metal particles in the conductive portion in the metal-containing layer. The conductivity of the conductive portion can be appropriately adjusted according to the use of the conductive member in one embodiment of the present disclosure. For example, the surface resistance value of the conductive portion is 1000 Ω / □ or less. Of these, it is preferably 500 Ω / □ or less, and particularly preferably 100 Ω / □ or less. When the surface resistance value of the conductive portion in the metal-containing layer is within the above range, a conductive member having desired conductivity can be obtained. Further, in one embodiment of the present disclosure, the surface resistance value of the conductive portion can be 1 × 10 6 Ω / □ or more.

なお、導電部の表面抵抗値は、例えば、Loresta−AX MCP−T370(Mitsubishi Chemical Analytec)を導電部の表面に接触させることにより測定することができる。 The surface resistance value of the conductive portion can be measured, for example, by bringing the Loresta-AX MCP-T370 (Mitsubishi Chemical Analytec) into contact with the surface of the conductive portion.

本開示の1実施態様における金属含有層は、樹脂材料中に金属粒子が分散されている。
換言すると、樹脂材料中に、金属粒子が埋め込まれた構成を成す。本開示の1実施態様における金属含有層中に含まれる金属粒子の含有量は、例えば、金属含有層が所望の導電性を達成することができる程度であることが好ましい。具体的には、樹脂材料100重量部に対して、金属粒子が20重量部以上であることが好ましく、中でも50重量部以上であることが好ましい。また、樹脂材料100重量部に対して、金属粒子が3000重量部以下であることが好ましく、中でも1000重量部以下であることが好ましい樹脂材料中に含まれる金属粒子の含有量が、上記範囲内であることにより、充分な導電性を有する導電性部材とすることができる。
In the metal-containing layer according to one embodiment of the present disclosure, metal particles are dispersed in the resin material.
In other words, the metal particles are embedded in the resin material. The content of the metal particles contained in the metal-containing layer in one embodiment of the present disclosure is preferably such that the metal-containing layer can achieve the desired conductivity, for example. Specifically, the amount of metal particles is preferably 20 parts by weight or more, and more preferably 50 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the resin material. Further, the content of the metal particles contained in the resin material is preferably within the above range, preferably 3000 parts by weight or less, particularly preferably 1000 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the resin material. Therefore, it is possible to obtain a conductive member having sufficient conductivity.

本開示の1実施態様における導電部は、例えば、金属粒子の元素の割合が、原子組成百分率で、0.05at%以上であることが好ましく、中でも0.10at%以上であることが好ましく、特に0.15at%以上であることが好ましい。また、金属粒子の元素の割合が、原子組成百分率で、10at%以下であることが好ましく、中でも7at%以下であることが好ましく、特に5at%以下であることが好ましい。導電部における金属粒子の元素の割合が上記範囲内であることにより、導電部に所定の導電性を付与することができる。
なお、導電部に存在する金属粒子の元素の割合は、例えば、X線光電子分光分析法を用い、以下の条件により測定することができる。
・加速電圧:15kV
・エミッション電流:10mA
・X線源:A1デュアルアノード
・測定面積:300×700μmφ
・表面からの深さ10nmを測定
・n=3回の平均値
In the conductive portion in one embodiment of the present disclosure, for example, the ratio of the elements of the metal particles is preferably 0.05 at% or more in terms of atomic composition percentage, and particularly preferably 0.10 at% or more. It is preferably 0.15 at% or more. Further, the ratio of the elements of the metal particles is preferably 10 at% or less in terms of atomic composition percentage, particularly preferably 7 at% or less, and particularly preferably 5 at% or less. When the ratio of the elements of the metal particles in the conductive portion is within the above range, a predetermined conductivity can be imparted to the conductive portion.
The ratio of the elements of the metal particles present in the conductive portion can be measured under the following conditions using, for example, X-ray photoelectron spectroscopy.
・ Acceleration voltage: 15kV
・ Emission current: 10mA
・ X-ray source: A1 dual anode ・ Measurement area: 300 × 700 μmφ
・ Measure the depth of 10 nm from the surface ・ n = 3 times average value

本開示の1実施態様における導電部の厚みは、導電性基材の用途や導電部に含まれる金属粒子の大きさ等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、導電部に含まれる金属粒子が繊維状である場合には、導電部の厚みは当該繊維径未満であることが好ましい。なお、金属粒子の繊維径については後述するため、ここでの説明は省略する。 The thickness of the conductive portion in one embodiment of the present disclosure can be appropriately adjusted according to the use of the conductive base material, the size of the metal particles contained in the conductive portion, and the like, and is not particularly limited. For example, when the metal particles contained in the conductive portion are fibrous, the thickness of the conductive portion is preferably less than the fiber diameter. Since the fiber diameter of the metal particles will be described later, the description here will be omitted.

(a)金属粒子
本開示の1実施態様における金属粒子は、導電部に含まれる材料であり、樹脂材料中に分散される材料である。
(A) Metal particles The metal particles in one embodiment of the present disclosure are materials contained in a conductive portion and dispersed in a resin material.

本開示の1実施態様における金属粒子としては、例えば、金、銀、銅、パラジウムまたは白金等からなる粒子が挙げられる。本開示の1実施態様においては、中でも銀粒子または銅粒子であることが好ましく、特に銀粒子であることが好ましい。本開示の1実施態様における導電性部材を用いることにより、マイグレーションの発生を抑制することができるという効果が顕著になるからである。導電部に含まれる金属粒子は、1種を有していても良く、2種以上を有していても良い。 Examples of the metal particles in one embodiment of the present disclosure include particles made of gold, silver, copper, palladium, platinum and the like. In one embodiment of the present disclosure, silver particles or copper particles are preferable, and silver particles are particularly preferable. This is because the effect of suppressing the occurrence of migration becomes remarkable by using the conductive member in one embodiment of the present disclosure. The metal particles contained in the conductive portion may have one type or two or more types.

ここで、「銀」とは、銀または銀合金を指し、「銅」とは、銅または銅合金を指す。
また、「銀合金」とは、銀を主成分とし、導電性部材に用いた際にマイグレーションが生じる程度に銀を含有する合金をいい、具体的には銀の元素の割合が、原子組成百分率で90at%以上であることをいう。
さらに、「銅合金」とは、銅を主成分とし、導電性部材に用いた際にマイグレーションが生じる程度に銅を含有する合金をいい、具体的には銅の元素の割合が、原子組成百分率で90at%以上であることをいう。
なお、銀合金または銅合金における銀または銅の元素の割合は、例えば、X線光電子分光分析法を用いた元素の定量を行うことにより測定することができる。
Here, "silver" refers to silver or a silver alloy, and "copper" refers to copper or a copper alloy.
Further, the "silver alloy" refers to an alloy containing silver as a main component and containing silver to the extent that migration occurs when used for a conductive member. Specifically, the ratio of the element of silver is the atomic composition percentage. It means that it is 90 at% or more.
Further, the "copper alloy" refers to an alloy containing copper as a main component and containing copper to the extent that migration occurs when used for a conductive member. Specifically, the ratio of the element of copper is the atomic composition percentage. It means that it is 90 at% or more.
The ratio of silver or copper elements in the silver alloy or copper alloy can be measured, for example, by quantifying the elements using X-ray photoelectron spectroscopy.

本開示の1実施態様における金属粒子の形状は、樹脂材料中に分散することができ、導電性を有する導電部を構成することができるような形状であることが好ましい。例えば、繊維状、球状および鱗片状等の形状が挙げられる。本開示の1実施態様においては、中でも繊維状の金属粒子を用いることが好ましい。 The shape of the metal particles in one embodiment of the present disclosure is preferably a shape that can be dispersed in the resin material and can form a conductive portion having conductivity. For example, fibrous, spherical and scaly shapes can be mentioned. In one embodiment of the present disclosure, it is preferable to use fibrous metal particles.

ここで、「繊維状」とは、例えば、短軸の長さに対する長軸の長さの比、すなわちアスペクト比(長軸の長さ/短軸の長さ)が10より大きくなるような形状をいう。
また、「繊維状を有する金属粒子」は、直線状であっても曲線状であっても良く、その一部に直線部または曲線部を有していても良い。さらに、「繊維状を有する金属粒子」は、例えば、繊維状を有する金属粒子が、複数連結したものも包含する。
Here, "fibrous" means, for example, a shape in which the ratio of the length of the major axis to the length of the minor axis, that is, the aspect ratio (length of the major axis / length of the minor axis) is larger than 10. To say.
Further, the "fibrous metal particles" may be linear or curved, and may have a linear portion or a curved portion as a part thereof. Further, the "fibrous metal particles" also includes, for example, a plurality of fibrous metal particles linked together.

本開示の1実施態様において、金属粒子が繊維状である場合、例えば、短軸の長さとなる繊維径が200nm以下であり、長軸の長さとなる繊維長が1μm以上であることが好ましい。繊維径が上記範囲内であることにより、導電性部材のヘイズ値の上昇や、光透過性の低下を抑制することが可能である。 In one embodiment of the present disclosure, when the metal particles are fibrous, for example, the fiber diameter which is the length of the minor axis is 200 nm or less, and the fiber length which is the length of the major axis is preferably 1 μm or more. When the fiber diameter is within the above range, it is possible to suppress an increase in the haze value of the conductive member and a decrease in light transmission.

また、金属粒子が繊維状である場合、例えば、繊維径は、10nm以上であることが好ましく、この場合、充分な導電性を有する導電部を形成することが可能となる。さらに、繊維長が上記範囲内であることにより、充分な導電性を有する導電部を形成することが可能である。 Further, when the metal particles are fibrous, for example, the fiber diameter is preferably 10 nm or more, and in this case, it is possible to form a conductive portion having sufficient conductivity. Further, when the fiber length is within the above range, it is possible to form a conductive portion having sufficient conductivity.

さらに、金属粒子が繊維状である場合、例えば、繊維長は、500μm以下であることが好ましく、この場合、凝集が発生することによるヘイズ値の上昇や、光透過性の低下を抑制することが可能である。 Further, when the metal particles are fibrous, for example, the fiber length is preferably 500 μm or less, and in this case, it is possible to suppress an increase in haze value and a decrease in light transmission due to the occurrence of aggregation. It is possible.

金属粒子が繊維状である場合の上述した事項を考慮すると、本開示の1実施態様においては、金属粒子の繊維径が15nm以上であることが好ましく、180nm以下であることが好ましい。
また、金属粒子の繊維長が3μm以上であることが好ましく、中でも10μm以上であることが好ましい。また、金属粒子の繊維長が300μm以下であることが好ましく、中でも30μm以下であることが好ましい。
Considering the above-mentioned matters when the metal particles are fibrous, in one embodiment of the present disclosure, the fiber diameter of the metal particles is preferably 15 nm or more, and preferably 180 nm or less.
Further, the fiber length of the metal particles is preferably 3 μm or more, and more preferably 10 μm or more. Further, the fiber length of the metal particles is preferably 300 μm or less, and more preferably 30 μm or less.

なお、金属粒子の繊維径および繊維長は、例えば、SEMと称する走査型電子顕微鏡、TEMと称する透過型電子顕微鏡およびSTEMと称する走査透過型電子顕微鏡等の電子顕微鏡を用い、1000〜50万倍にて繊維状の金属粒子の繊維径および繊維長を測定した10か所の平均値として求めることができる。 The fiber diameter and fiber length of the metal particles can be increased by 10 to 500,000 times by using an electron microscope such as a scanning electron microscope called SEM, a transmission electron microscope called TEM, and a scanning transmission electron microscope called STEM. The fiber diameter and fiber length of the fibrous metal particles can be obtained as an average value of 10 measured points.

本開示の1実施態様における金属粒子が銀粒子または銅粒子であり、かつ繊維状である場合、銀粒子および銅粒子は、いわゆる銀ナノワイヤおよび銅ナノワイヤのような金属繊維であっても良く、あるいは、アクリル繊維に、銀または銅をコーティングした金属被覆合成繊維であっても良い。なお、本開示の1実施態様においては、金属繊維または金属被覆合成繊維の1種を用いても良く、金属繊維および金属被覆合成繊維を組み合わせて用いても良い。 When the metal particles in one embodiment of the present disclosure are silver particles or copper particles and are fibrous, the silver particles and copper particles may be metal fibers such as so-called silver nanowires and copper nanowires, or , Acrylic fiber coated with silver or copper may be a metal-coated synthetic fiber. In one embodiment of the present disclosure, one kind of metal fiber or metal-coated synthetic fiber may be used, or the metal fiber and the metal-coated synthetic fiber may be used in combination.

本開示の1実施態様における金属粒子が金属繊維である場合、金属粒子の形成方法としては、例えば、銀や銅等の金属を長く伸ばす伸線法、または切削法等が挙げられる。また、金属粒子が金属被覆合成繊維である場合、金属粒子の形成方法としては、例えば、アクリル繊維に銀や銅等の金属をコーティングする方法が挙げられる。 When the metal particles in one embodiment of the present disclosure are metal fibers, examples of the method for forming the metal particles include a wire drawing method for extending a metal such as silver and copper for a long time, a cutting method, and the like. When the metal particles are metal-coated synthetic fibers, examples of the method for forming the metal particles include a method of coating acrylic fibers with a metal such as silver or copper.

(b)樹脂材料
本開示の1実施態様における樹脂材料は、導電部に含まれる材料であり、上述した金属粒子が分散される材料である。
(B) Resin Material The resin material in one embodiment of the present disclosure is a material contained in a conductive portion, and is a material in which the above-mentioned metal particles are dispersed.

本開示の1実施態様における樹脂材料は、上述した金属粒子を分散させることができる樹脂材料であることが好ましく、例えば、透明性を有する材料であることが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、例えば、本開示の1実施態様における導電性部材をタッチパネル表示装置等に用いた際に、操作者からの視認を妨げない程度に透明であることをいう。したがって、「透明」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、本開示の1実施態様における導電性部材の用途等に応じて透明性の度合いを決定することができる。 The resin material in one embodiment of the present disclosure is preferably a resin material capable of dispersing the above-mentioned metal particles, and is preferably a transparent material, for example. Here, "transparent" means, unless otherwise specified, transparent to such an extent that, for example, when the conductive member according to one embodiment of the present disclosure is used in a touch panel display device or the like, it does not interfere with visibility from the operator. It means that. Therefore, "transparent" includes colorless transparency and colored transparency to the extent that it does not interfere with visibility, and is not defined by a strict transmittance, and is transparent depending on the use of the conductive member in one embodiment of the present disclosure. The degree of sex can be determined.

このような本開示の1実施態様における樹脂材料は、例えば、電離放射線により硬化する電離放射線硬化型樹脂であることが好ましい。ここで、「電離放射線」とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線又は電子線が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。 The resin material in one embodiment of the present disclosure is preferably, for example, an ionizing radiation curable resin that is cured by ionizing radiation. Here, "ionizing radiation" means an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking a molecule, and usually, ultraviolet rays or electron beams are used, but other X-rays, Electromagnetic waves such as γ-rays and charged particle beams such as α-rays and ion rays can also be used.

電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系等の官能基を有する化合物等の1または2以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の多官能化合物等が挙げられる。中でも、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)及びペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)が好適に用いられる。なお、上述した「(メタ)アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。また、本開示の1実施態様においては、電離放射線硬化型樹脂として、上述した化合物をPO、EO等で変性したものも使用できる。 Examples of the ionizing radiation curable resin include compounds having one or two or more unsaturated bonds such as compounds having a functional group such as an acrylate-based resin. Examples of the compound having an unsaturated bond of 1 include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol. Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentylglycoldi (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) ) Acrylic, dimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanurate tri (meth) acrylate, isocyanurate di. (Meta) acrylate, polyester tri (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, diglycerin tetra (meth) acrylate, adamantyldi (meth) acrylate, isobolonyl di (meth) acrylate, dicyclopentane Examples thereof include polyfunctional compounds such as di (meth) acrylate, tricyclodecanedi (meth) acrylate, and trimethylolpropane tetra (meth) acrylate. Of these, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) and pentaerythritol tetraacrylate (PETTA) are preferably used. The above-mentioned "(meth) acrylate" refers to methacrylate and acrylate. Further, in one embodiment of the present disclosure, as the ionizing radiation curable resin, the above-mentioned compound modified with PO, EO or the like can also be used.

本開示の1実施態様においては、上述した化合物の他にも、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。 In one embodiment of the present disclosure, in addition to the above-mentioned compounds, a relatively low molecular weight polyester resin having an unsaturated double bond, a polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, an alkyd resin, and a spiroacetal. Resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins and the like can also be used as ionizing radiation curable resins.

また、電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。ここで、「溶剤乾燥型樹脂」とは、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂をいう。溶剤乾燥型樹脂を併用することにより、樹脂材料を用いて導電部を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥等の発生を有効に抑制することができる。 The ionizing radiation curable resin can also be used in combination with the solvent-drying resin. Here, the "solvent-drying resin" refers to a resin such as a thermoplastic resin that forms a film only by drying a solvent added to adjust the solid content at the time of coating. By using the solvent-drying resin in combination, it is possible to effectively suppress the occurrence of film defects and the like on the coated surface of the coating liquid when the conductive portion is formed using the resin material.

このような溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴムまたはエラストマー等が挙げられる。 The solvent-drying resin is not particularly limited, and a thermoplastic resin can be generally used. Examples of the thermoplastic resin include styrene resin, (meth) acrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin, alicyclic olefin resin, polycarbonate resin, polyester resin, and polyamide resin. , Cellulose derivatives, silicone resins and rubbers or elastomers.

また、熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒等の有機溶媒に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。 Further, the thermoplastic resin is preferably non-crystalline and soluble in an organic solvent such as a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds. In particular, from the viewpoint of transparency and weather resistance, styrene resin, (meth) acrylic resin, alicyclic olefin resin, polyester resin, cellulose derivative (cellulose ester, etc.) and the like are preferable.

さらに、樹脂材料は、熱硬化性樹脂を含有していても良い。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。 Further, the resin material may contain a thermosetting resin. Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, and silicon resin. Examples thereof include polysiloxane resin.

(2)非導電部
本開示の1実施態様における金属含有層は、例えば図2(a)、(b)に示すように、金属含有層1のいずれか一方の表層が導電部1aであり、その他の領域が非導電部1bであっても良い。
(2) Non-conductive portion In the metal-containing layer in one embodiment of the present disclosure, for example, as shown in FIGS. 2A and 2B, the surface layer of any one of the metal-containing layers 1 is the conductive portion 1a. The other region may be the non-conductive portion 1b.

本開示の1実施態様においては、非導電部は、樹脂材料により構成され、非導電性を有する領域である。 In one embodiment of the present disclosure, the non-conductive portion is a region made of a resin material and having non-conductive properties.

ここで、「非導電性を有する」とは、導電性を有しないことをいう。 Here, "having non-conductive" means not having conductivity.

本開示の1実施態様における非導電部に含まれる樹脂材料は、上述した導電部に用いられる樹脂材料と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 Since the resin material contained in the non-conductive portion in one embodiment of the present disclosure can be the same as the resin material used for the conductive portion described above, the description thereof is omitted here.

また、本開示の1実施態様における非導電部は、樹脂材料の他にも、必要に応じてその他の材料を有していても良い。その他の材料としては、例えば、マイグレーションを抑制するためのマイグレーション抑制剤が挙げられる。非導電部がマイグレーション抑制剤を有することにより、本開示の1実施態様の導電性基材のマイグレーション耐性を効果的に向上させることができる。なお、マイグレーション抑制剤については、例えば、特開2014−32792号公報に記載されたものと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Further, the non-conductive portion in one embodiment of the present disclosure may have other materials in addition to the resin material, if necessary. Examples of other materials include migration inhibitors for suppressing migration. When the non-conductive portion has a migration inhibitor, the migration resistance of the conductive substrate according to the first embodiment of the present disclosure can be effectively improved. The migration inhibitor can be, for example, the same as that described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-32792, and thus the description thereof is omitted here.

本発明における非導電部の厚みは、本発明の導電性基材の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、50nm〜3000nmの範囲内とすることができる。 The thickness of the non-conductive portion in the present invention can be appropriately adjusted according to the use of the conductive base material of the present invention, and is not particularly limited. For example, it can be in the range of 50 nm to 3000 nm.

3.剥離基材
本開示の1実施態様においては、例えば、図3に示すように、粘着層2の金属含有層1とは反対側の面上に剥離基材3を有していても良い。剥離基材は、金属含有層を、粘着層を介して所望の部材に貼合する際には剥離される部材である。したがって、剥離基材を有する場合には、金属含有層を、粘着層を介して所定の部材に貼合するまでの間に、粘着層の表面が汚染されるといった不具合や、粘着層の表面に傷が入る等の不具合を抑制することができ、品質の高い導電性部材とすることができる。
3. 3. Peeling Base Material In one embodiment of the present disclosure, for example, as shown in FIG. 3, the peeling base material 3 may be provided on the surface of the adhesive layer 2 opposite to the metal-containing layer 1. The release base material is a member that is peeled off when the metal-containing layer is attached to a desired member via the adhesive layer. Therefore, when the release base material is provided, the surface of the adhesive layer may be contaminated before the metal-containing layer is attached to the predetermined member via the adhesive layer, or the surface of the adhesive layer may be affected. Problems such as scratches can be suppressed, and a high-quality conductive member can be obtained.

剥離基材の材料は、粘着層の表面上に配置することができ、かつ粘着層から剥離することが可能な材料であることが好ましい。本開示の1実施態様における剥離基材は、透明性を有していても良く、あるいは透明性を有さなくても良いが、中でも透明性を有することが好ましい。このような剥離基材としては、例えば、シリコーン樹脂、有機樹脂変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アミノアルキド樹脂、メラミン樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂等から構成された層が挙げられる。 The material of the release base material is preferably a material that can be arranged on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer and can be peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer. The release base material in one embodiment of the present disclosure may or may not have transparency, but it is particularly preferable that it has transparency. Examples of such a peeling base material include a layer composed of a silicone resin, an organic resin-modified silicone resin, a fluororesin, an aminoalkyd resin, a melamine resin, an acrylic resin, a polyester resin, and the like.

剥離基材の厚みは、粘着層の表面上に配置し、その後、粘着層の表面から剥離することができる程度の厚みであることが好ましい。例えば、15μm以上であることが好ましく、中でも25μm以上であることが好ましい。また、剥離基材の厚みは、100μm以下であることが好ましく、中でも50μm以下であることが好ましい。剥離基材の厚みが上記範囲内であることにより、粘着層の表面に配置した剥離基材を、容易に剥離することが可能となる。 The thickness of the release base material is preferably such that it can be placed on the surface of the adhesive layer and then peeled off from the surface of the adhesive layer. For example, it is preferably 15 μm or more, and more preferably 25 μm or more. The thickness of the release base material is preferably 100 μm or less, and more preferably 50 μm or less. When the thickness of the release base material is within the above range, the release base material arranged on the surface of the adhesive layer can be easily peeled off.

本開示の1実施態様における剥離基材は、粘着層に対して所定の剥離力を有することが好ましい。具体的な剥離力としては、例えば、10mN/25mm以上であることが好ましく、中でも25mN/25mm以上であることが好ましい。また、剥離基材の、粘着層に対する剥離力は、1000mN/25mm以下であることが好ましく、中でも500mN/25mm以下であることが好ましい。粘着層に対する剥離基材の剥離力が上記範囲内であることにより、粘着層の表面に配置された剥離基材を、容易に剥離することが可能となる。 The release base material in one embodiment of the present disclosure preferably has a predetermined release force with respect to the adhesive layer. As a specific peeling force, for example, it is preferably 10 mN / 25 mm or more, and more preferably 25 mN / 25 mm or more. The peeling force of the peeling substrate against the adhesive layer is preferably 1000 mN / 25 mm or less, and more preferably 500 mN / 25 mm or less. When the peeling force of the peeling base material with respect to the pressure-sensitive adhesive layer is within the above range, the peeling base material arranged on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer can be easily peeled off.

本開示の1実施態様においては、剥離基材の剥離性を高めるために、剥離基材の粘着層側の表面に離型処理を行っても良い。離型処理には、一般的に公知の処理を用いることができる。 In one embodiment of the present disclosure, in order to improve the peelability of the peeling base material, the surface of the peeling base material on the adhesive layer side may be subjected to a mold release treatment. A generally known process can be used for the release process.

4.基材
本開示の1実施態様における基材は、例えば図3に示すように、金属含有層の金属含有層1側の面上に配置され、金属含有層を支持する部材である。
4. Base material The base material in one embodiment of the present disclosure is a member that is arranged on the surface of the metal-containing layer on the metal-containing layer 1 side and supports the metal-containing layer, for example, as shown in FIG.

本開示の1実施態様における基材は、透明性を有していても良く、あるいは透明性を有さなくても良いが、中でも透明性を有することが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、例えば、本発明の導電性部材をタッチパネル表示装置等に用いた際に、操作者からの視認を妨げない程度に透明であることをいう。したがって、「透明」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、本開示の1実施態様における導電性部材の用途等に応じて透明性の度合いを決定することができる。 The base material in one embodiment of the present disclosure may or may not have transparency, but it is particularly preferable that the substrate has transparency. Here, "transparent" means that, unless otherwise specified, for example, when the conductive member of the present invention is used in a touch panel display device or the like, it is transparent to such an extent that it does not interfere with visibility from the operator. Say. Therefore, "transparent" includes colorless transparency and colored transparency to the extent that it does not interfere with visibility, and is not defined by a strict transmittance, and is transparent depending on the use of the conductive member in one embodiment of the present disclosure. The degree of sex can be determined.

基材を構成する材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。中でも、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。 Examples of the material constituting the base material include polyester resin, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, (meth) acrylic resin, and polychloride. Examples thereof include vinyl-based resins, polyvinylidene chloride-based resins, polystyrene-based resins, polyvinyl alcohol-based resins, polyarylate-based resins, and polyphenylene sulfide-based resins. Above all, it is preferable to use a polyester resin, a polycarbonate resin, or a polyolefin resin.

また、本発明における基材は、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー(Cyclo−Olefin−Polymer:COP)フィルムであっても良い。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン社製のゼオネックスやゼオノア(ノルボルネン系樹脂)、住友ベークライト社製のスミライトFS−1700、JSR社製のアートン(変性ノルボルネン系樹脂)、三井化学社製のアペル(環状オレフィン共重合体)、Ticona社製のTopas(環状オレフィン共重合体)、日立化成社製のオプトレッツOZ−1000シリーズ(脂環式アクリル樹脂)等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)を用いることもできる。 Further, the base material in the present invention may be an amorphous olefin polymer (Cyclo-Olefin-Polymer: COP) film having an alicyclic structure. This is a substrate on which norbornene-based polymers, monocyclic cyclic olefin-based polymers, cyclic conjugated diene-based polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon-based polymers, etc. are used. For example, Zeonex manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. Zeonoa (norbornene resin), Sumitomo Bakelite's Sumilite FS-1700, JSR's Arton (modified norbornene resin), Mitsui Chemicals' appel (cyclic olefin copolymer), Ticona's Topas (cyclic) Olefin copolymer), Optrez OZ-1000 series (alicyclic acrylic resin) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and the like. Further, as an alternative base material for triacetyl cellulose, an FV series (low birefringence, low photoelasticity film) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. can also be used.

基材の厚みは、本開示の1実施態様における導電性部材の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、例えば、1μm以上であることが好ましく、中でも20μm以上であることが好ましく、特に40μm以上であることが好ましい。また、基材の厚みは、100μm以下であることが好ましく、中でも80μm以下であることが好ましく、特に60μm以下であることが好ましい。基材の厚みが上記範囲内であることにより、基材に機械的強度を付与することができるとともに、所望のフレキシブル性を実現することが可能となる。 The thickness of the base material can be appropriately adjusted according to the use of the conductive member in one embodiment of the present disclosure, and is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more, and more preferably 20 μm or more. Is preferable, and it is particularly preferable that the thickness is 40 μm or more. The thickness of the base material is preferably 100 μm or less, particularly preferably 80 μm or less, and particularly preferably 60 μm or less. When the thickness of the base material is within the above range, mechanical strength can be imparted to the base material, and desired flexibility can be realized.

5.その他の構成
本開示の1実施態様における導電性部材は、上述した構成の他にも、必要に応じてその他の構成を有していても良い。なお、その他の構成については、導電性部材の用途等に応じて適宜選択することができるため、ここでの記載は省略する。
5. Other Configurations The conductive member according to one embodiment of the present disclosure may have other configurations, if necessary, in addition to the configurations described above. It should be noted that other configurations can be appropriately selected depending on the use of the conductive member and the like, and thus the description thereof is omitted here.

6.用途
本開示の1実施態様における導電性部材は、例えば、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)等のディスプレイや、タッチパネル、太陽電池等の透明電極として用いることができる。
6. Applications The conductive member in one embodiment of the present disclosure can be used, for example, as a display such as a liquid crystal display (LCD) or a plasma display (PDP), or as a transparent electrode such as a touch panel or a solar cell.

B.積層体
本開示の1実施態様における積層体は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層、および金属含有層の一方の面上の粘着層を有する導電性部材と、導電性部材の粘着層側の面上の機能層と、を有し、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である部材である。
B. Laminated body The laminated body in one embodiment of the present disclosure includes a conductive member having a metal-containing layer in which metal particles are dispersed in a resin material, an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer, and a conductive member. It is a member having a functional layer on the surface on the adhesive layer side and having a total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer of 10 ng / g or less.

本開示の1実施態様の積層体について図面を参照しながら説明する。
図4は、本開示の1実施態様における積層体の一例を示す概略断面図である。図4に示すように、本開示の積層体20は、導電性部材10と機能層6とを有する。また、導電性部材10は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層1と、金属含有層の一方の面上の粘着層2とを有し、また、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である。
The laminate of one embodiment of the present disclosure will be described with reference to the drawings.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the laminated body according to one embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 4, the laminated body 20 of the present disclosure has a conductive member 10 and a functional layer 6. Further, the conductive member 10 has a metal-containing layer 1 in which metal particles are dispersed in a resin material and an adhesive layer 2 on one surface of the metal-containing layer, and ammonia contained in the adhesive layer. And the total amount of amines is 10 ng / g or less.

本開示の1実施態様の積層体によれば、導電性部材が金属含有層の一方の面上に粘着層を有する構成であっても、マイグレーションの発生を抑制できる積層体とすることができる。なお、具体的な効果については、上述した「A.導電性部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 According to the laminate of one embodiment of the present disclosure, even if the conductive member has an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer, the laminate can suppress the occurrence of migration. Since the specific effects can be the same as those described in the above-mentioned "A. Conductive member" section, the description here is omitted.

以下、本開示の1実施態様における積層体の各構成について説明する。 Hereinafter, each configuration of the laminated body according to one embodiment of the present disclosure will be described.

1.導電性部材
本開示の1実施態様における導電性部材は、樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層、および金属含有層の一方の面上の粘着層を有する部材である。また、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である部材である。
1. 1. Conductive Member The conductive member in one embodiment of the present disclosure is a member having a metal-containing layer in which metal particles are dispersed in a resin material and an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer. Further, it is a member in which the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer is 10 ng / g or less.

なお、導電性部材を構成する粘着層、金属含有層およびその他の構成については、上述した「A.導電性部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The adhesive layer, the metal-containing layer, and other configurations constituting the conductive member can be the same as those described in the above-mentioned "A. Conductive member", and thus the description here is made. Omit.

2.機能層
本開示の1実施態様における機能層は、導電性部材の粘着層側の面上に配置される部材である。
2. 2. Functional layer The functional layer in one embodiment of the present disclosure is a member arranged on the surface of the conductive member on the adhesive layer side.

本開示の1実施態様における機能層は、通常、タッチパネル表示装置を構成する機能部材であり、必要に応じて適宜選択することができる。機能層としては、例えば、カラーフィルタ、タッチパネル、加飾部材、保護層、液晶層等が挙げられる。また、カラーフィルタ、タッチパネルおよび加飾部材のような機能層は、透明基材を有していても良く、透明基材を有していなくても良い。さらに、本開示の1実施態様においては、上述した機能層を単層として用いても良く、2層以上を組み合わせて用いても良い。 The functional layer in one embodiment of the present disclosure is usually a functional member constituting the touch panel display device, and can be appropriately selected as needed. Examples of the functional layer include a color filter, a touch panel, a decorative member, a protective layer, a liquid crystal layer, and the like. Further, the functional layer such as the color filter, the touch panel and the decorative member may or may not have a transparent base material. Further, in one embodiment of the present disclosure, the above-mentioned functional layer may be used as a single layer, or two or more layers may be used in combination.

なお、本開示の1実施態様において用いられる機能層としては、一般的な機能部材が挙げられるため、ここでの記載は省略する。 Since a general functional member can be mentioned as the functional layer used in one embodiment of the present disclosure, the description thereof is omitted here.

(金属含有層形成工程)
基材(材料:PET、厚み:50μm)上に、銀ナノワイヤ(短軸の長さ:35±15nm、長軸の長さ:15μm、Blueano社(製) SLV−NW−35)を約0.01wt%、テトラキスエポキシシロキサンを0.01wt%、(n−ピロリドンプロピル)メチルシロキサンージメチルシロキサンコポリマーを0.2wt%、イソプロピルアルコールを39.78%、1−ブタノールを30%、シクロヘキサンを30%含有した金属粒子組成物を、ダイコート法を用いて塗布し、wetな塗膜(厚み:10μm)を形成した。その後、基材上に形成された塗膜を、70℃で1分間オーブン加熱し、導電部を形成した。
(Metal-containing layer forming step)
Silver nanowires (minor axis length: 35 ± 15 nm, major axis length: 15 μm, Blueano (manufactured by SLV-NW-35)) are placed on a substrate (material: PET, thickness: 50 μm) at about 0. Contains 01 wt%, 0.01 wt% tetrakisepoxysiloxane, 0.2 wt% (n-pyrrolidonepropyl) methylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer, 39.78% isopropyl alcohol, 30% 1-butanol, and 30% cyclohexane. The metal particle composition was applied by using the die coating method to form a wet coating film (thickness: 10 μm). Then, the coating film formed on the substrate was heated in an oven at 70 ° C. for 1 minute to form a conductive portion.

次に、得られた導電部上に、紫外線硬化型材料であるBS−1200W(荒川化学工業(株)製)を20%、シクロヘキサノンを15%、メチルエチルケトンを65%含有した樹脂組成物を、ダイコート法を用いて塗布し、wetな塗膜(厚み:1μm)を形成した。その後、70℃で1分間オーブン加熱して、非導電部を形成した。 Next, a resin composition containing 20% of BS-1200W (manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.), 15% of cyclohexanone, and 65% of methyl ethyl ketone, which is an ultraviolet curable material, was die-coated on the obtained conductive portion. It was applied by the method to form a wet coating film (thickness: 1 μm). Then, it was heated in an oven at 70 ° C. for 1 minute to form a non-conductive portion.

(粘着層配置工程)
得られた金属含有層の一方の面上に、市販の粘着層(厚み:50μmまたは100μm)を配置した。各粘着層に含まれるアンモニアおよびアミン類の量については下記表1に示す。
なお、粘着層に含まれるアンモニアおよびアミン類の量については、次のような方法により測定した。すなわち、粘着層をポリプロピレンの袋に入れ、さらに60mlの超純水を入れて、当該袋内にて粘着層を超純水に浸した。次に当該袋をヒートシーラーにて封止し、それを100℃のウォーターバス浴中に入れ、1時間静置する。これにより、超純水に粘着層に含まれる成分を溶出させた。最後に、得られた溶出液のイオン濃度を、イオンクロマトグラフ ICS−3000を用いて測定することにより、粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の量を測った。
ここでは、アミン類として、モノメチルアミン(MMA)、ジメチルアミン(DMA)、トリエチルアミン(TMA)の量を測定した。
(Adhesive layer placement process)
A commercially available adhesive layer (thickness: 50 μm or 100 μm) was placed on one surface of the obtained metal-containing layer. The amounts of ammonia and amines contained in each adhesive layer are shown in Table 1 below.
The amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer was measured by the following method. That is, the adhesive layer was placed in a polypropylene bag, 60 ml of ultrapure water was further added, and the adhesive layer was immersed in ultrapure water in the bag. Next, the bag is sealed with a heat sealer, placed in a water bath bath at 100 ° C., and allowed to stand for 1 hour. As a result, the components contained in the adhesive layer were eluted in ultrapure water. Finally, the ion concentration of the obtained eluate was measured using an ion chromatograph ICS-3000 to measure the amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer.
Here, the amounts of monomethylamine (MMA), dimethylamine (DMA), and triethylamine (TMA) were measured as amines.

Figure 2020191286
Figure 2020191286

[評価]
(抵抗上昇率)
得られた導電性部材の抵抗上昇率について評価した。抵抗上昇率の評価方法について、図を参照しながら説明する。
[Evaluation]
(Resistance increase rate)
The resistance increase rate of the obtained conductive member was evaluated. The evaluation method of the resistance increase rate will be described with reference to the figure.

図5(a)〜(d)は、抵抗上昇率の評価方法を説明するための説明図である。図5(a)に示すように、導電性部材10を準備し、次に、導電性部材10の表面の中央部をポリエチレンテレフタレートフィルムによりマスキングし、この状態でAPC(フルヤ金属(株))をスパッタ成膜(装置:E400、キヤノンアネルバ(株)製)して図5(b)に示すように、導電性部材10の表面に、パターン状の金属層5を形成する。その後、図5(c)に示すように、導電性部材10をレーザー(λ=1064nm)によりパターニングし、配線5a、5bを作製した。配線5a、5bの長さTは40mm、配線幅wは3mm、配線間のギャップGは30μmであった。 5 (a) to 5 (d) are explanatory views for explaining the evaluation method of the resistance increase rate. As shown in FIG. 5A, the conductive member 10 is prepared, then the central portion of the surface of the conductive member 10 is masked with a polyethylene terephthalate film, and in this state, APC (Furuya Metal Co., Ltd.) is applied. Sputter film formation (apparatus: E400, manufactured by Canon Anelva Corporation) is performed to form a patterned metal layer 5 on the surface of the conductive member 10 as shown in FIG. 5 (b). Then, as shown in FIG. 5C, the conductive member 10 was patterned by a laser (λ = 1064 nm) to prepare wirings 5a and 5b. The length T of the wirings 5a and 5b was 40 mm, the wiring width w was 3 mm, and the gap G between the wirings was 30 μm.

抵抗上昇率の評価は、図5(d)に示すように、一方の配線5bに6Vの電圧を印加し、その状態でで、60℃、95%Rhの環境下にて最長100時間保管し、配線5bの両端のパターン状の金属層に抵抗測定計の端子を接触させ、抵抗値を電圧印加前後で測定し評価した。 As shown in FIG. 5D, the resistance increase rate is evaluated by applying a voltage of 6 V to one of the wirings 5b and storing it in that state for a maximum of 100 hours in an environment of 60 ° C. and 95% Rh. The terminals of the resistance measuring instrument were brought into contact with the patterned metal layers at both ends of the wiring 5b, and the resistance value was measured and evaluated before and after the voltage was applied.

(配線変質幅)
配線変質幅の評価は、図5(d)に示すように、一方の配線5bに6Vの電圧を印加し、その状態で、60℃、95%Rhの環境下にて最長100時間保管し、配線5bの配線変質幅、すなわち、配線5bの配線幅の減少量について評価した。
(Wiring alteration width)
In the evaluation of the wiring alteration width, as shown in FIG. 5D, a voltage of 6 V was applied to one of the wirings 5b, and in that state, the wiring was stored in an environment of 60 ° C. and 95% Rh for a maximum of 100 hours. The wiring alteration width of the wiring 5b, that is, the amount of decrease in the wiring width of the wiring 5b was evaluated.

Figure 2020191286
Figure 2020191286

表2の結果から、粘着層に含まれるアンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である実施例1、2では、粘着層に含まれるアンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以上の比較例1、2に比べて、抵抗上昇率の増加を抑制できることが分かった。また、実施例1、2では、比較例1、2に比べて配線変質幅も小さく、マイグレーションの発生を抑制できることが分かった。 From the results in Table 2, in Examples 1 and 2 in which the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer is 10 ng / g or less, a comparative example in which the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer is 10 ng / g or more. It was found that the increase in the resistance increase rate could be suppressed as compared with 1 and 2. Further, it was found that in Examples 1 and 2, the wiring deterioration width was smaller than that in Comparative Examples 1 and 2, and the occurrence of migration could be suppressed.

1 … 金属含有層
2 … 粘着層
3 … 剥離基材
4 … 基材
5 … 金属層、配線
6 … 機能層
10… 導電性部材
1 ... Metal-containing layer 2 ... Adhesive layer 3 ... Detachable base material 4 ... Base material 5 ... Metal layer, wiring 6 ... Functional layer 10 ... Conductive member

Claims (1)

樹脂材料中に金属粒子が分散された金属含有層と、
前記金属含有層の一方の面上の粘着層と、を有し、
前記粘着層に含まれる、アンモニアおよびアミン類の総量が10ng/g以下である導電性部材。
A metal-containing layer in which metal particles are dispersed in a resin material,
It has an adhesive layer on one surface of the metal-containing layer,
A conductive member in which the total amount of ammonia and amines contained in the adhesive layer is 10 ng / g or less.
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