JP2016195179A - Switching element unit - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a switching element unit capable of facilitating formation of a gate signal line while reducing inductance.SOLUTION: A switching element unit comprises: a first insulation substrate; a first chip that is mounted on a first surface of the first insulation substrate and that includes a first switching element for forming an upper arm of a power conversion device; a second chip that is mounted on a second surface at an opposite side to the first surface of the first insulation substrate and that includes a second switching element for forming a lower arm of the power conversion device; a first conductor part that is formed on the first insulation substrate and electrically connected with a gate electrode of the second switching element; and a second conductor part that is formed on the first insulation substrate and electrically connected with an output electrode of the power conversion device and that includes a first through conductor part penetrating through the first insulation substrate and electrically connecting between the first chip and the second chip.SELECTED DRAWING: Figure 12

Description

本開示は、スイッチング素子ユニットに関する。   The present disclosure relates to a switching element unit.

パワー半導体チップ、並びにこのパワー半導体チップを両側から挟み込むようにして設けられたPブスバ及びNブスバを含む半導体チップ構造と、コンデンサとを備える半導体電力変換装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この半導体電力変換装置では、コンデンサは、Pブスバ及びNブスバで挟み込むようにして支持され、半導体チップ構造とコンデンサとが並列に近接して配置される。   2. Description of the Related Art A semiconductor power conversion device including a power semiconductor chip, a semiconductor chip structure including a P bus bar and an N bus bar provided so as to sandwich the power semiconductor chip from both sides, and a capacitor is known (for example, Patent Document 1). reference). In this semiconductor power conversion device, the capacitor is supported so as to be sandwiched between the P bus bar and the N bus bar, and the semiconductor chip structure and the capacitor are arranged close to each other in parallel.

特開2007−215396号公報JP 2007-215396 A

上記の特許文献1に記載の構造では、2つのパワー半導体チップがACブスバの上下に配置されるため、インダクタンスの低減が可能となるが、パワー半導体チップのゲート電極への電気的な接続が困難である。具体的には、上記の特許文献1に記載の構造では、ゲート信号線の形成(例えば、ゲート電極に銅線をワイヤボンディングで接合して形成)は、ACブスバなどの上下のブスバの存在により非常に困難である。   In the structure described in Patent Document 1, two power semiconductor chips are arranged above and below the AC bus bar, so that inductance can be reduced, but electrical connection to the gate electrode of the power semiconductor chip is difficult. It is. Specifically, in the structure described in Patent Document 1, the gate signal line is formed (for example, formed by bonding a copper wire to the gate electrode by wire bonding) due to the presence of upper and lower bus bars such as an AC bus bar. It is very difficult.

そこで、本開示は、インダクタンスの低減を図りつつ、ゲート信号線の形成が容易なスイッチング素子ユニットの提供を目的とする。   Therefore, an object of the present disclosure is to provide a switching element unit that can easily form a gate signal line while reducing inductance.

本開示の一局面によれば、絶縁性を有する第1絶縁基板と、
前記第1絶縁基板の第1表面に実装され、電力変換装置の上下アームの一方を形成する第1スイッチング素子を含む第1チップと、
前記第1絶縁基板の前記第1表面とは逆側の第2表面に実装され、前記電力変換装置の上下アームの他方を形成する第2スイッチング素子を含む第2チップと、
前記第1絶縁基板に形成され、前記第2スイッチング素子のゲート電極に電気的に接続される第1導体部と、
前記第1絶縁基板に形成され、前記電力変換装置の出力電極に電気的に接続される第2導体部であって、前記第1絶縁基板を貫通し前記第1チップ及び前記第2チップ間を電気的に接続する第1貫通導体部を含む第2導体部と、を含むスイッチング素子ユニットが提供される。
According to one aspect of the present disclosure, an insulating first insulating substrate;
A first chip including a first switching element mounted on a first surface of the first insulating substrate and forming one of upper and lower arms of a power converter;
A second chip including a second switching element mounted on the second surface opposite to the first surface of the first insulating substrate and forming the other of the upper and lower arms of the power converter;
A first conductor formed on the first insulating substrate and electrically connected to a gate electrode of the second switching element;
A second conductor portion formed on the first insulating substrate and electrically connected to an output electrode of the power converter, and penetrating the first insulating substrate between the first chip and the second chip; There is provided a switching element unit including a second conductor portion including a first through conductor portion that is electrically connected.

本開示によれば、インダクタンスの低減を図りつつ、ゲート信号線の形成が容易なスイッチング素子ユニットが得られる。   According to the present disclosure, it is possible to obtain a switching element unit that facilitates formation of a gate signal line while reducing inductance.

スイッチング素子ユニットの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a switching element unit. 図1のラインA−Aに沿った断面図である。It is sectional drawing along line AA of FIG. 図1のラインB−Bに沿った断面図である。It is sectional drawing along line BB of FIG. 図1のラインC−Cに沿った断面図である。It is sectional drawing along line CC of FIG. 図1のラインD−Dに沿った断面図である。It is sectional drawing along line DD of FIG. 図1のラインE−Eに沿った断面図である。It is sectional drawing along line EE of FIG. 図1のラインF−Fに沿った断面図である。It is sectional drawing along line FF of FIG. 図1のラインG−Gに沿った断面図である。It is sectional drawing along line GG of FIG. 図1のラインH−Hに沿った断面図である。It is sectional drawing along line HH of FIG. 図1のラインI−Iに沿った断面図である。It is sectional drawing along line II of FIG. 図1のスイッチング素子ユニットの平面図である。It is a top view of the switching element unit of FIG. 図11のラインX−Xに沿った断面図である。It is sectional drawing along line XX of FIG. 図11のラインY−Yに沿った断面図である。It is sectional drawing along line YY of FIG. 図11のラインZ−Zに沿った断面図である。It is sectional drawing along line ZZ of FIG. 電動車両用モータ駆動システム100の全体構成の一例を示す図である。1 is a diagram illustrating an example of an overall configuration of an electric vehicle motor drive system 100. FIG. 変形例によるスイッチング素子ユニットの断面図である。It is sectional drawing of the switching element unit by a modification.

以下、添付図面を参照しながら各実施例について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、スイッチング素子ユニットの一例を概略的に示す側面図である。図1では、図2乃至図10の各断面の位置が分かるように、内部が透視で示されている。図2は、図1のラインA−Aに沿った断面図である。図3は、図1のラインB−Bに沿った断面図である。図4は、図1のラインC−Cに沿った断面図である。図5は、図1のラインD−Dに沿った断面図である。図6は、図1のラインE−Eに沿った断面図である。図7は、図1のラインF−Fに沿った断面図である。図8は、図1のラインG−Gに沿った断面図である。図9は、図1のラインH−Hに沿った断面図である。図10は、図1のラインI−Iに沿った断面図である。図11は、図1のスイッチング素子ユニットの概略的な平面図である。図11では、図12乃至図14の各断面の位置が分かるように、内部が透視で示されている。図12は、図11のラインX−Xに沿った断面図である。図13は、図11のラインY−Yに沿った断面図である。図14は、図11のラインZ−Zに沿った断面図である。尚、第1チップ21等は、断面図において概略的な断面で示されている。   FIG. 1 is a side view schematically showing an example of a switching element unit. In FIG. 1, the inside is shown in a transparent manner so that the position of each cross section in FIGS. 2 to 10 can be seen. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line CC in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line DD in FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line EE of FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line FF in FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line GG in FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line HH in FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line II in FIG. FIG. 11 is a schematic plan view of the switching element unit of FIG. In FIG. 11, the inside is shown in a transparent manner so that the position of each cross section in FIGS. 12 to 14 can be seen. FIG. 12 is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line YY in FIG. 14 is a cross-sectional view taken along line ZZ in FIG. The first chip 21 and the like are shown in a schematic cross section in the cross-sectional view.

以下では、図1に示すように上側及び下側、左側及び右側を定義する。なお、上側及び下側は、必ずしも実装時の鉛直方向の上側及び下側に対応することを意味しない。左側及び右側についても同様であり、実装時のスイッチング素子ユニット1の向きは任意である。また、以下で、「下面」とは、下側に向いている面を指し、必ずしも平面である必要はない。「上面」についても同様である。   In the following, as shown in FIG. 1, upper and lower sides, left side and right side are defined. The upper side and the lower side do not necessarily correspond to the upper side and the lower side in the vertical direction at the time of mounting. The same applies to the left and right sides, and the orientation of the switching element unit 1 at the time of mounting is arbitrary. In the following description, the “lower surface” refers to a surface facing downward and does not necessarily have to be a flat surface. The same applies to the “upper surface”.

スイッチング素子ユニット1は、ハイブリッド車又は電気自動車で使用される走行用モータ104(図15参照)を駆動するインバータ103(電力変換装置の一例、図15参照)を形成する。インバータ103は、3相の上下アームを含み、各上下アームは、スイッチング素子と、FWD(Free Wheeling Diode)とを2組含む。スイッチング素子は、例えば、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)である。尚、IGBTは、例えば、GaN(窒化ガリウム)やSiC(炭化珪素)等により形成されてよい。以下では、一例として、スイッチング素子ユニット1が任意の1つの上下アームを含む構造について説明する。   The switching element unit 1 forms an inverter 103 (an example of a power converter, see FIG. 15) that drives a traveling motor 104 (see FIG. 15) used in a hybrid vehicle or an electric vehicle. Inverter 103 includes a three-phase upper and lower arm, and each upper and lower arm includes two sets of switching elements and FWD (Free Wheeling Diode). The switching element is, for example, an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor). The IGBT may be formed of, for example, GaN (gallium nitride) or SiC (silicon carbide). Hereinafter, as an example, a structure in which the switching element unit 1 includes an arbitrary upper and lower arm will be described.

スイッチング素子ユニット1は、第1絶縁基板10と、第1チップ21と、第2チップ22と、第1導体部31と、第2導体部32とを含む。   The switching element unit 1 includes a first insulating substrate 10, a first chip 21, a second chip 22, a first conductor portion 31, and a second conductor portion 32.

第1絶縁基板10は、絶縁性を有する基板である。図示の例では、第1絶縁基板10は、一例として、絶縁性及び耐熱性を有するセラミック基板により形成される。   The first insulating substrate 10 is a substrate having an insulating property. In the illustrated example, the first insulating substrate 10 is formed of a ceramic substrate having insulation and heat resistance as an example.

第1チップ21は、第1絶縁基板10の上面に実装される。第1チップ21は、上アームを形成するIGBTを含む。第1チップ21は、FWDを内蔵する逆導通IGBT(RC(Reverse Conducting)−IGBT)のチップであってもよい。以下では、一例として、第1チップ21は、逆導通IGBTのチップであるものとする。第1チップ21のIGBTは、第1面に第1表面電極を備え、第2面に第2表面電極を備える。第1表面電極は、コレクタ電極及びカソード電極に対応し、以下、単に「コレクタ電極」と称する。第2表面電極は、エミッタ電極及びアノード電極に対応し、以下、単に「エミッタ電極」と称する。また、第1チップ21は、第1面の端部にゲート電極211(図11参照)を備える。第1チップ21は、第2面が第1絶縁基板10の上面に向く向きで、第1絶縁基板10の上面に実装される。   The first chip 21 is mounted on the upper surface of the first insulating substrate 10. The first chip 21 includes an IGBT that forms an upper arm. The first chip 21 may be a reverse conducting IGBT (RC (Reverse Conducting) -IGBT) chip having a built-in FWD. Hereinafter, as an example, it is assumed that the first chip 21 is a chip of reverse conducting IGBT. The IGBT of the first chip 21 includes a first surface electrode on the first surface and a second surface electrode on the second surface. The first surface electrode corresponds to the collector electrode and the cathode electrode, and is simply referred to as “collector electrode” hereinafter. The second surface electrode corresponds to the emitter electrode and the anode electrode, and is hereinafter simply referred to as “emitter electrode”. The first chip 21 includes a gate electrode 211 (see FIG. 11) at the end of the first surface. The first chip 21 is mounted on the upper surface of the first insulating substrate 10 with the second surface facing the upper surface of the first insulating substrate 10.

第1チップ21は、好ましくは、図12に示すように、第1絶縁基板10の上面に、電導性を有する第1接合層51を介して接合される。第1接合層51は、例えば半田や銀ペースト等により形成される。銀ペーストとしては、例えば、粒径がナノ単位のナノ粒子を含む銀ナノペーストが用いられてよい。第1チップ21を第1接合層51を介して第1絶縁基板10に接合することで、第1チップ21が第1絶縁基板10の上面にバネで電気的に接続される構成に比べて、高い電気伝導性及び高い熱伝導性を効率的に実現し易い構成となる(例えば、高い電気伝導性及び高い熱伝導性を実現するために複数のバネを配置する必要が無い)。   As shown in FIG. 12, the first chip 21 is preferably bonded to the upper surface of the first insulating substrate 10 via a first bonding layer 51 having conductivity. The first bonding layer 51 is formed of, for example, solder or silver paste. As the silver paste, for example, a silver nanopaste including nanoparticles having a particle size of nano units may be used. By bonding the first chip 21 to the first insulating substrate 10 via the first bonding layer 51, the first chip 21 is electrically connected to the upper surface of the first insulating substrate 10 by a spring. It becomes the structure which is easy to implement | achieve high electrical conductivity and high thermal conductivity efficiently (for example, it is not necessary to arrange | position a some spring in order to implement | achieve high electrical conductivity and high thermal conductivity).

第2チップ22は、第1絶縁基板10の下面に実装される。第2チップ22は、下アームを形成するIGBTを含む。第2チップ22は、チップ構造自体は第1チップ21と同一であってよい。以下では、一例として、第2チップ22は、逆導通IGBTのチップであるものとする。第2チップ22のIGBTは、第1面に第1表面電極を備え、第2面に第2表面電極を備える。同様に、第1表面電極は、コレクタ電極及びカソード電極に対応し、以下、単に「コレクタ電極」と称する。第2表面電極は、エミッタ電極及びアノード電極に対応し、以下、単に「エミッタ電極」と称する。また、第2チップ22は、第1面の端部にゲート電極221(図11参照)を備える。第2チップ22は、第1面が第1絶縁基板10の下面に向く向きで、第1絶縁基板10の下面に実装される。   The second chip 22 is mounted on the lower surface of the first insulating substrate 10. The second chip 22 includes an IGBT that forms a lower arm. The second chip 22 may have the same chip structure as that of the first chip 21. Hereinafter, as an example, the second chip 22 is assumed to be a chip of reverse conducting IGBT. The IGBT of the second chip 22 includes a first surface electrode on the first surface and a second surface electrode on the second surface. Similarly, the first surface electrode corresponds to the collector electrode and the cathode electrode, and is simply referred to as “collector electrode” hereinafter. The second surface electrode corresponds to the emitter electrode and the anode electrode, and is hereinafter simply referred to as “emitter electrode”. The second chip 22 includes a gate electrode 221 (see FIG. 11) at the end of the first surface. The second chip 22 is mounted on the lower surface of the first insulating substrate 10 with the first surface facing the lower surface of the first insulating substrate 10.

第2チップ22は、好ましくは、図12に示すように、第1絶縁基板10の下面に、電導性を有する第2接合層52を介して接合される。第2接合層52は、例えば半田や銀ペースト等により形成される。これにより、第2チップ22が第1絶縁基板10の下面にバネで電気的に接続される構成に比べて、高い電気伝導性及び高い熱伝導性を効率的に実現し易い構成となる。   As shown in FIG. 12, the second chip 22 is preferably bonded to the lower surface of the first insulating substrate 10 via a second bonding layer 52 having conductivity. The second bonding layer 52 is formed of, for example, solder or silver paste. Thereby, compared with the structure which the 2nd chip | tip 22 is electrically connected to the lower surface of the 1st insulating substrate 10 with a spring, it becomes a structure which is easy to implement | achieve high electrical conductivity and high thermal conductivity efficiently.

第1導体部31は、第1絶縁基板10に形成される。第1導体部31は、第2チップ22のIGBTのゲート電極221に電気的に接続される。図示の例では、第1導体部31は、図5、図6、図7及び図12等に示すように、導体パターン310と、第1絶縁基板10の上面から上下方向に延在するビア312とを含む。導体パターン310は、図12に示すように、第1絶縁基板10の内層、及び、第1絶縁基板10の下面(接合層52a分の厚み+導体パターン310の厚み相当分、凹状に上側にオフセットされた下面)に形成される。ビア312は、平面視で第1チップ21の接合範囲(第1接合層51)に対してオフセットして(図示の例では左側に)形成される。即ち、ビア312は、平面視でゲート電極221に対してオフセットして形成される。図示の例では、導体パターン310は、図12に示すように、一端が接合層52aを介して第2チップ22のIGBTのゲート電極221に電気的に接続され、他端がビア312に電気的に接続される。尚、図示の例では、導体パターン310及びビア312は、2組形成されているが、組数は任意である。   The first conductor portion 31 is formed on the first insulating substrate 10. The first conductor portion 31 is electrically connected to the IGBT gate electrode 221 of the second chip 22. In the illustrated example, the first conductor portion 31 includes a conductor pattern 310 and a via 312 extending vertically from the upper surface of the first insulating substrate 10 as shown in FIGS. 5, 6, 7, and 12. Including. As shown in FIG. 12, the conductor pattern 310 has an inner layer of the first insulating substrate 10 and a lower surface of the first insulating substrate 10 (thickness equivalent to the thickness of the bonding layer 52a + corresponding to the thickness of the conductor pattern 310). Formed on the lower surface). The via 312 is formed to be offset (on the left side in the illustrated example) with respect to the bonding range (first bonding layer 51) of the first chip 21 in plan view. That is, the via 312 is formed to be offset from the gate electrode 221 in plan view. In the illustrated example, as shown in FIG. 12, the conductor pattern 310 has one end electrically connected to the IGBT gate electrode 221 of the second chip 22 through the bonding layer 52a and the other end electrically connected to the via 312. Connected to. In the illustrated example, two sets of conductor patterns 310 and vias 312 are formed, but the number of sets is arbitrary.

第2導体部32は、第1絶縁基板10に形成される。第2導体部32は、図6に示すように、ビア(第1貫通導体部の一例)324を含む。ビア324は、第1チップ21のIGBTのエミッタ電極及び第2チップ22のIGBTのコレクタ電極の間を電気的に接続する。第2導体部32は、インバータ103の出力電極80に電気的に接続される。尚、インバータ103の出力電極80には、走行用モータ104(図15参照)が電気的に接続される。   The second conductor portion 32 is formed on the first insulating substrate 10. As shown in FIG. 6, the second conductor portion 32 includes a via (an example of a first through conductor portion) 324. The via 324 electrically connects the IGBT emitter electrode of the first chip 21 and the IGBT collector electrode of the second chip 22. The second conductor portion 32 is electrically connected to the output electrode 80 of the inverter 103. Incidentally, a traveling motor 104 (see FIG. 15) is electrically connected to the output electrode 80 of the inverter 103.

図示の例では、第2導体部32は、図5、図7及び図13に示すように、ビア324に加えて、導体パターンを含む。当該導体パターンは、第1パターン部321と、第2パターン部322と、第3パターン部323とを含む。第1パターン部321は、図5に示すように、第1チップ21の接合範囲(第1接合層51)に対応した形成範囲で、第1絶縁基板10の上面に形成される。第2パターン部322は、図7及び図13に示すように、第2チップ22の接合範囲(第2接合層52)に対応した形成範囲で、第1絶縁基板10の下面(第2接合層52の厚み+第2パターン部322の厚み相当分、凹状に上側にオフセットされた下面)に形成される。第2パターン部322は、第1パターン部321に対して上下方向で対向する(上面視で重なり合う関係となる)。第3パターン部323は、図5に示すように、第1パターン部321から形成され、第1チップ21の接合範囲外へ左側に延在する。ビア324は、第1絶縁基板10を上下方向に貫通する。ビア324は、図6に示すように、第1パターン部321の形成範囲(=第2パターン部322の形成範囲)内に複数個形成される。尚、図示の例では、複数個のビア324は、上面視で格子状に配列されるが、他の配列パターンで(例えば千鳥状に)配列されてもよい。   In the illustrated example, the second conductor portion 32 includes a conductor pattern in addition to the via 324 as illustrated in FIGS. 5, 7, and 13. The conductor pattern includes a first pattern portion 321, a second pattern portion 322, and a third pattern portion 323. As shown in FIG. 5, the first pattern portion 321 is formed on the upper surface of the first insulating substrate 10 in a formation range corresponding to the bonding range (first bonding layer 51) of the first chip 21. As shown in FIGS. 7 and 13, the second pattern portion 322 has a formation range corresponding to the bonding range (second bonding layer 52) of the second chip 22, and the lower surface (second bonding layer) of the first insulating substrate 10. 52 + the thickness corresponding to the thickness of the second pattern portion 322, and the lower surface offset to the upper side in a concave shape. The second pattern portion 322 is opposed to the first pattern portion 321 in the up-down direction (overlapping in a top view). As shown in FIG. 5, the third pattern portion 323 is formed from the first pattern portion 321 and extends to the left outside the bonding range of the first chip 21. The via 324 penetrates the first insulating substrate 10 in the vertical direction. As shown in FIG. 6, a plurality of vias 324 are formed within the formation range of the first pattern portion 321 (= the formation range of the second pattern portion 322). In the example shown in the drawing, the plurality of vias 324 are arranged in a grid pattern in a top view, but may be arranged in other arrangement patterns (for example, in a staggered pattern).

本実施例によれば、第1チップ21及び第2チップ22とが第1絶縁基板10の上下に配置されるため、第1チップ21及び第2チップ22間をビア324を介して電気的に接続することが可能となり、第1チップ21及び第2チップ22が左右方向に並んで配置される場合に比べて、第1チップ21及び第2チップ22間のインダクタンスの低減が可能となる。また、第2チップ22のIGBTのゲート電極221に電気的に接続される第1導体部31が第1絶縁基板10に形成されるので、ゲート電極221からのゲート信号線の形成が容易である。即ち、第1絶縁基板10にビアや配線パターンを形成することで第1導体部31(ゲート信号線の要素)を形成できるので、第2チップ22のゲート電極221に銅線をワイヤボンディングで接合してゲート信号線を形成する場合に比べて、同ゲート信号線の形成が容易となる。また、第2導体部32が第1絶縁基板10に形成されるので、第1チップ21及び第2チップ22をインバータ103の出力電極80に電気的に接続するための配線の形成が容易となる。   According to the present embodiment, since the first chip 21 and the second chip 22 are arranged above and below the first insulating substrate 10, the first chip 21 and the second chip 22 are electrically connected via the via 324. It becomes possible to connect, and the inductance between the first chip 21 and the second chip 22 can be reduced as compared with the case where the first chip 21 and the second chip 22 are arranged side by side in the left-right direction. Further, since the first conductor portion 31 electrically connected to the IGBT gate electrode 221 of the second chip 22 is formed on the first insulating substrate 10, it is easy to form the gate signal line from the gate electrode 221. . That is, since the first conductor portion 31 (element of the gate signal line) can be formed by forming a via or a wiring pattern on the first insulating substrate 10, a copper wire is bonded to the gate electrode 221 of the second chip 22 by wire bonding. As compared with the case where the gate signal line is formed, the formation of the gate signal line is facilitated. Further, since the second conductor portion 32 is formed on the first insulating substrate 10, it is easy to form a wiring for electrically connecting the first chip 21 and the second chip 22 to the output electrode 80 of the inverter 103. .

次に、再度、図1乃至図14を参照して、図示の例によるスイッチング素子ユニット1の更なる好ましい特徴について説明する。   Next, referring to FIGS. 1 to 14 again, further preferred features of the switching element unit 1 according to the illustrated example will be described.

図示の例では、スイッチング素子ユニット1は、図12等に示すように、更に、第2絶縁基板12と、第3絶縁基板13と、上部カバー基板14、下部カバー基板15と、コンデンサ(平滑コンデンサ)40と、正極側バスバ(第1バスバの一例)60と、負極側バスバ(第2バスバの一例)62と、を含む。   In the illustrated example, as shown in FIG. 12 and the like, the switching element unit 1 further includes a second insulating substrate 12, a third insulating substrate 13, an upper cover substrate 14, a lower cover substrate 15, a capacitor (smoothing capacitor). ) 40, a positive side bus bar (an example of a first bus bar) 60, and a negative side bus bar (an example of a second bus bar) 62.

第2絶縁基板12は、絶縁性を有する基板である。図示の例では、第2絶縁基板12は、一例として、セラミック基板により形成される。第2絶縁基板12は、第1絶縁基板10の上側に配置される。図示の例では、第2絶縁基板12の下面は、第1接合層51等を介して第1絶縁基板10の上面に接合される。   The second insulating substrate 12 is a substrate having an insulating property. In the illustrated example, the second insulating substrate 12 is formed of a ceramic substrate as an example. The second insulating substrate 12 is disposed on the upper side of the first insulating substrate 10. In the illustrated example, the lower surface of the second insulating substrate 12 is bonded to the upper surface of the first insulating substrate 10 via the first bonding layer 51 and the like.

第2絶縁基板12は、第1チップ21を収容する空洞を有する。第2絶縁基板12は、図3に示すように、正極側バスバ60を形成する導体層(導体パターン)を有する。また、第2絶縁基板12は、図4等に示すように、コンデンサ40が搭載される空間が第1チップ21の右側に形成される。   The second insulating substrate 12 has a cavity that accommodates the first chip 21. As shown in FIG. 3, the second insulating substrate 12 has a conductor layer (conductor pattern) that forms the positive-side bus bar 60. Further, as shown in FIG. 4 and the like, the second insulating substrate 12 has a space in which the capacitor 40 is mounted on the right side of the first chip 21.

第2絶縁基板12は、図2及び図11に示すように、上面に、出力電極80と、第1ゲート外部電極91と、第2ゲート外部電極92とが形成される。出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92は、それぞれ、導体パターンとして形成されてよい。出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92は、平面視で、第1チップ21よりも左側の領域に形成される。図示の例では、出力電極80は、奥行き方向(上下方向及び左右方向に垂直な方向)で第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92間に形成される。   As shown in FIGS. 2 and 11, the second insulating substrate 12 has an output electrode 80, a first gate external electrode 91, and a second gate external electrode 92 formed on the upper surface. The output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 may each be formed as a conductor pattern. The output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 are formed in a region on the left side of the first chip 21 in plan view. In the illustrated example, the output electrode 80 is formed between the first gate external electrode 91 and the second gate external electrode 92 in the depth direction (a direction perpendicular to the vertical direction and the horizontal direction).

第2絶縁基板12は、図3、図4及び図12に示すように、第2絶縁基板12を貫通するビア314が形成される。ビア314は、平面視で第1絶縁基板10のビア312に対応する位置に形成される。ビア314は、図12に示すように、下端が接合層51aを介してビア312に電気的に接続され、上端が第2ゲート外部電極92に電気的に接続される。このようにして、第2チップ22のゲート電極221は、接合層52a、導体パターン310、ビア312、接合層51a、及び、ビア314を介して、第2絶縁基板12の上面の第2ゲート外部電極92に電気的に接続される。第2ゲート外部電極92は、第2絶縁基板12の上面に形成されるので、外部(制御装置)との電気的な接続が容易である。   As shown in FIGS. 3, 4, and 12, the second insulating substrate 12 is formed with a via 314 that penetrates the second insulating substrate 12. The via 314 is formed at a position corresponding to the via 312 of the first insulating substrate 10 in plan view. As shown in FIG. 12, the via 314 has a lower end electrically connected to the via 312 via the bonding layer 51a and an upper end electrically connected to the second gate external electrode 92. Thus, the gate electrode 221 of the second chip 22 is connected to the outside of the second gate on the upper surface of the second insulating substrate 12 via the bonding layer 52a, the conductor pattern 310, the via 312, the bonding layer 51a, and the via 314. It is electrically connected to the electrode 92. Since the second gate external electrode 92 is formed on the upper surface of the second insulating substrate 12, electrical connection with the outside (control device) is easy.

第2絶縁基板12は、図3、図4及び図13に示すように、第2絶縁基板12を貫通するビア(第2貫通導体部の一例)802が形成される。ビア802は、平面視で第1絶縁基板10の第3パターン部323に対応する位置に形成される。ビア802は、図13に示すように、下端が接合層51bを介して第3パターン部323に電気的に接続され、上端が出力電極80に電気的に接続される。このようにして、第1チップ21のIGBTのエミッタ電極(及び第2チップ22のIGBTのコレクタ電極)は、第2導体部32(第3パターン部323等)、接合層51b、及び、ビア802を介して、第2絶縁基板12の上面の出力電極80に電気的に接続される。出力電極80は、第2絶縁基板12の上面に形成されるので、外部(走行用モータ104)との電気的な接続が容易である。   As shown in FIGS. 3, 4, and 13, the second insulating substrate 12 is formed with a via (an example of a second through conductor) 802 that penetrates the second insulating substrate 12. The via 802 is formed at a position corresponding to the third pattern portion 323 of the first insulating substrate 10 in plan view. As shown in FIG. 13, the lower end of the via 802 is electrically connected to the third pattern portion 323 via the bonding layer 51 b, and the upper end is electrically connected to the output electrode 80. In this way, the IGBT emitter electrode of the first chip 21 (and the IGBT collector electrode of the second chip 22) is the second conductor portion 32 (the third pattern portion 323, etc.), the bonding layer 51b, and the via 802. Is electrically connected to the output electrode 80 on the upper surface of the second insulating substrate 12. Since the output electrode 80 is formed on the upper surface of the second insulating substrate 12, electrical connection with the outside (the traveling motor 104) is easy.

第2絶縁基板12は、図3及び図14に示すように、ビア318が形成される。ビア318は、平面視で第1チップ21のゲート電極211に対応する位置に形成される。ビア318は、図14に示すように、下端が接合層54aを介してゲート電極211に電気的に接続され、上端が第1ゲート外部電極91に電気的に接続される。このようにして、第1チップ21のゲート電極211は、接合層54a及びビア318を介して、第2絶縁基板12の上面の第1ゲート外部電極91に電気的に接続される。第1ゲート外部電極91は、第2絶縁基板12の上面に形成されるので、外部(制御装置)との電気的な接続が容易である。   As shown in FIGS. 3 and 14, the second insulating substrate 12 is formed with a via 318. The via 318 is formed at a position corresponding to the gate electrode 211 of the first chip 21 in plan view. As shown in FIG. 14, the via 318 has a lower end electrically connected to the gate electrode 211 via the bonding layer 54a and an upper end electrically connected to the first gate external electrode 91. In this way, the gate electrode 211 of the first chip 21 is electrically connected to the first gate external electrode 91 on the upper surface of the second insulating substrate 12 through the bonding layer 54a and the via 318. Since the first gate external electrode 91 is formed on the upper surface of the second insulating substrate 12, electrical connection with the outside (control device) is easy.

第3絶縁基板13は、絶縁性を有する基板である。図示の例では、第3絶縁基板13は、一例として、セラミック基板により形成される。第3絶縁基板13は、第1絶縁基板10の下側に配置される。図示の例では、第3絶縁基板13の上面は、第2接合層52等を介して第1絶縁基板10の下面に接合される。   The third insulating substrate 13 is a substrate having an insulating property. In the illustrated example, the third insulating substrate 13 is formed of a ceramic substrate as an example. The third insulating substrate 13 is disposed below the first insulating substrate 10. In the illustrated example, the upper surface of the third insulating substrate 13 is bonded to the lower surface of the first insulating substrate 10 via the second bonding layer 52 and the like.

第3絶縁基板13は、第2チップ22を収容する空洞を有する。第3絶縁基板13は、図9に示すように、負極側バスバ62を形成する導体層(導体パターン)を有する。また、第3絶縁基板13は、図8等に示すように、コンデンサ40が搭載される空間が第2チップ22の右側に形成される。   The third insulating substrate 13 has a cavity that accommodates the second chip 22. As shown in FIG. 9, the third insulating substrate 13 has a conductor layer (conductor pattern) that forms the negative-side bus bar 62. Further, in the third insulating substrate 13, as shown in FIG. 8 and the like, a space for mounting the capacitor 40 is formed on the right side of the second chip 22.

上部カバー基板14は、絶縁性を有する基板である。図示の例では、上部カバー基板14は、一例として、セラミック基板により形成される。上部カバー基板14は、第2絶縁基板12の上側に配置される。上部カバー基板14には、図12に示すように、導体パターン14aが形成される。上部カバー基板14は、導体パターン14aが接合層56を介して正極側バスバ60に接合されることで、第2絶縁基板12に接合される。上部カバー基板14の上側には、冷却装置(例えば冷却水が循環される冷却装置)が熱的に接続されてもよい。   The upper cover substrate 14 is an insulating substrate. In the illustrated example, the upper cover substrate 14 is formed of a ceramic substrate as an example. The upper cover substrate 14 is disposed on the upper side of the second insulating substrate 12. A conductor pattern 14a is formed on the upper cover substrate 14 as shown in FIG. The upper cover substrate 14 is bonded to the second insulating substrate 12 by bonding the conductor pattern 14 a to the positive bus bar 60 via the bonding layer 56. A cooling device (for example, a cooling device in which cooling water is circulated) may be thermally connected to the upper side of the upper cover substrate 14.

下部カバー基板15は、絶縁性を有する基板である。図示の例では、下部カバー基板15は、一例として、セラミック基板により形成される。下部カバー基板15は、第3絶縁基板13の下側に配置される。下部カバー基板15には、図12に示すように、導体パターン15aが形成される。下部カバー基板15は、導体パターン15aが接合層57(図10参照)を介して負極側バスバ62に接合されることで、第3絶縁基板13に接合される。下部カバー基板15の下側には、冷却装置(例えば冷却水が循環される冷却装置)が熱的に接続されてもよい。   The lower cover substrate 15 is an insulating substrate. In the illustrated example, the lower cover substrate 15 is formed of a ceramic substrate as an example. The lower cover substrate 15 is disposed below the third insulating substrate 13. A conductor pattern 15a is formed on the lower cover substrate 15 as shown in FIG. The lower cover substrate 15 is bonded to the third insulating substrate 13 by bonding the conductor pattern 15a to the negative electrode bus bar 62 via the bonding layer 57 (see FIG. 10). A cooling device (for example, a cooling device in which cooling water is circulated) may be thermally connected to the lower side of the lower cover substrate 15.

コンデンサ40は、インバータ103の正極側(正極側バスバ60)と負極側(負極側バスバ62)との間に電気的に接続される。コンデンサ40は、例えばセラミックコンデンサである。図示の例では、コンデンサ40は、図12等に示すように、誘電体部41と、正極側電極(第1電極の一例)42と、負極側電極(第2電極の一例)44とを含む。正極側電極42及び負極側電極44は、誘電体部41を上下から挟む。正極側電極42は、図12等に示すように、上部接合層54を介して正極側バスバ60に電気的に接続される。負極側電極44は、図12等に示すように、下部接合層55を介して負極側バスバ62に電気的に接続される。   Capacitor 40 is electrically connected between the positive electrode side (positive electrode side bus bar 60) and negative electrode side (negative electrode side bus bar 62) of inverter 103. The capacitor 40 is, for example, a ceramic capacitor. In the illustrated example, the capacitor 40 includes a dielectric part 41, a positive electrode (an example of a first electrode) 42, and a negative electrode (an example of a second electrode) 44, as shown in FIG. . The positive electrode 42 and the negative electrode 44 sandwich the dielectric part 41 from above and below. The positive electrode side electrode 42 is electrically connected to the positive electrode side bus bar 60 via the upper bonding layer 54 as shown in FIG. The negative electrode 44 is electrically connected to the negative bus bar 62 through the lower bonding layer 55 as shown in FIG.

コンデンサ40は、図12等に示すように、第1チップ21及び第2チップ22に対して右側に隣接して配置される。例えば、コンデンサ40は、図12等に示すように、第1チップ21及び第2チップ22に対して、左右方向で必要な絶縁距離だけ離間して配置される。これにより、コンデンサ40と第1チップ21及び第2チップ22との間のインダクタンスを低減できる。   The capacitor 40 is disposed adjacent to the right side with respect to the first chip 21 and the second chip 22 as shown in FIG. For example, as shown in FIG. 12 and the like, the capacitor 40 is arranged away from the first chip 21 and the second chip 22 by a necessary insulation distance in the left-right direction. Thereby, the inductance between the capacitor 40 and the first chip 21 and the second chip 22 can be reduced.

正極側バスバ60は、図12等に示すように、第1チップ21のコレクタ電極(表面電極)及びコンデンサ40の正極側電極42の上面に、上部接合層54を介して接合される。即ち、正極側バスバ60及び上部接合層54は、第1チップ21のコレクタ電極及びコンデンサ40の正極側電極42に対して共通に設けられる。これにより、コンデンサ40及び第1チップ21間のインダクタンスを効率的に低減できる。   As illustrated in FIG. 12 and the like, the positive electrode side bus bar 60 is bonded to the collector electrode (surface electrode) of the first chip 21 and the upper surface of the positive electrode side electrode 42 of the capacitor 40 via the upper bonding layer 54. That is, the positive electrode bus bar 60 and the upper bonding layer 54 are provided in common to the collector electrode of the first chip 21 and the positive electrode 42 of the capacitor 40. Thereby, the inductance between the capacitor 40 and the first chip 21 can be efficiently reduced.

負極側バスバ62は、図12等に示すように、第2チップ22のエミッタ電極(表面電極)及びコンデンサ40の負極側電極44の下面に、下部接合層55を介して接合される。即ち、負極側バスバ62及び下部接合層55は、第2チップ22のエミッタ電極及びコンデンサ40の負極側電極44に対して共通に設けられる。コンデンサ40及び第2チップ22間のインダクタンスを効率的に低減できる。   As illustrated in FIG. 12 and the like, the negative electrode side bus bar 62 is bonded to the emitter electrode (surface electrode) of the second chip 22 and the lower surface of the negative electrode side electrode 44 of the capacitor 40 via the lower bonding layer 55. That is, the negative electrode side bus bar 62 and the lower bonding layer 55 are provided in common to the emitter electrode of the second chip 22 and the negative electrode side electrode 44 of the capacitor 40. The inductance between the capacitor 40 and the second chip 22 can be efficiently reduced.

以上のような図示の例によるスイッチング素子ユニット1の更なる好ましい特徴によれば、とりわけ、以下のような効果が奏される。   According to the further preferable feature of the switching element unit 1 according to the illustrated example as described above, the following effects can be achieved.

図示の例によるスイッチング素子ユニット1によれば、第1チップ21及び第2チップ22は、第1絶縁基板10に第1接合層51及び第2接合層52を介してそれぞれ接合される。これにより、例えば第2絶縁基板12や第3絶縁基板13の上下方向の寸法公差を、第1接合層51及び第2接合層52により吸収でき、搭載性が向上する。また、上述の如く、第1接合層51及び第2接合層52を用いることで第1チップ21及び第2チップ22が第1絶縁基板10にバネで電気的に接続される構成に比べて、高い電気伝導性及び高い熱伝導性を効率的に実現し易い構成となる。   According to the switching element unit 1 according to the illustrated example, the first chip 21 and the second chip 22 are bonded to the first insulating substrate 10 via the first bonding layer 51 and the second bonding layer 52, respectively. Thereby, for example, the dimensional tolerance in the vertical direction of the second insulating substrate 12 or the third insulating substrate 13 can be absorbed by the first bonding layer 51 and the second bonding layer 52, and the mountability is improved. Further, as described above, by using the first bonding layer 51 and the second bonding layer 52, compared to the configuration in which the first chip 21 and the second chip 22 are electrically connected to the first insulating substrate 10 by a spring, It becomes the structure which is easy to implement | achieve high electrical conductivity and high heat conductivity efficiently.

図示の例によるスイッチング素子ユニット1によれば、第1チップ21及び第2チップ22は、第1接合層51、第1絶縁基板10のビア324及び第2接合層52を介して電気的に接続される。これにより、第1絶縁基板10のビア324の代わりに単一の金属板を用いる場合に比べて、第1チップ21及び第2チップ22と第1絶縁基板10との間の熱膨張係数の差に起因した第1接合層51及び第2接合層52における熱応力を低減できる。特に、図示の例のように、ビア324が複数個離散して設けられる場合には、単一の比較的サイズの大きいビアを設ける場合に比べて、熱応力を低減できる。具体的には、第1絶縁基板10のビア324は、導体であるので、第1チップ21及び第2チップ22よりも有意に熱膨張係数が高い。しかしながら、各ビア324のそれぞれのサイズ自体は大きくないため、個々の膨張量自体も比較的小さい。このため、それぞれのビア324と第1チップ21及び第2チップ22との間の熱膨張係数の差に起因した第1接合層51及び第2接合層52における熱応力を低減できる。   According to the switching element unit 1 according to the illustrated example, the first chip 21 and the second chip 22 are electrically connected via the first bonding layer 51, the via 324 and the second bonding layer 52 of the first insulating substrate 10. Is done. Thereby, compared with the case where a single metal plate is used instead of the via 324 of the first insulating substrate 10, the difference in thermal expansion coefficient between the first chip 21 and the second chip 22 and the first insulating substrate 10. The thermal stress in the 1st joining layer 51 and the 2nd joining layer 52 resulting from this can be reduced. In particular, when a plurality of vias 324 are provided in a discrete manner as in the illustrated example, thermal stress can be reduced compared to the case where a single relatively large via is provided. Specifically, since the via 324 of the first insulating substrate 10 is a conductor, the thermal expansion coefficient is significantly higher than that of the first chip 21 and the second chip 22. However, since the size of each via 324 is not large, the individual expansion amount itself is relatively small. For this reason, the thermal stress in the 1st joining layer 51 and the 2nd joining layer 52 resulting from the difference of the thermal expansion coefficient between each via | veer 324 and the 1st chip | tip 21 and the 2nd chip | tip 22 can be reduced.

図示の例によるスイッチング素子ユニット1によれば、コンデンサ40は、第1絶縁基板10に対して左右方向で(図示の例では右側に)隣接する。これにより、コンデンサ40の正極側電極42と第1チップ21との間のインダクタンスは、主に正極側バスバ60のインダクタンスのみになるので、同インダクタンスを低減できる。同様に、コンデンサ40の負極側電極44と第2チップ22との間のインダクタンスは、主に負極側バスバ62のインダクタンスのみになるので、同インダクタンスを低減できる。   According to the switching element unit 1 according to the illustrated example, the capacitor 40 is adjacent to the first insulating substrate 10 in the left-right direction (on the right side in the illustrated example). Thereby, since the inductance between the positive electrode 42 of the capacitor 40 and the first chip 21 is mainly only the inductance of the positive bus bar 60, the inductance can be reduced. Similarly, since the inductance between the negative electrode 44 of the capacitor 40 and the second chip 22 is mainly only the inductance of the negative bus bar 62, the inductance can be reduced.

図示の例によるスイッチング素子ユニット1によれば、第3絶縁基板13の上面の一端側(図示の例では左側の端部)に出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92が集約される。これにより、出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92と外部との間の電気的な接続が容易となる。例えば、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92と外部(制御装置)との電気的な接続は、可撓性のある基板により形成される制御基板を、第3絶縁基板13の上面の一端に配置することで容易に実現できる。   According to the illustrated switching element unit 1, the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 are provided on one end side (left end portion in the illustrated example) of the upper surface of the third insulating substrate 13. Are aggregated. This facilitates electrical connection between the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92, and the outside. For example, the electrical connection between the first gate external electrode 91 and the second gate external electrode 92 and the outside (control device) is performed by using a control substrate formed of a flexible substrate as an upper surface of the third insulating substrate 13. It can be easily realized by disposing it at one end.

次に、図15を参照して、スイッチング素子ユニット1が適用されるのに好適な電動車両用モータ駆動システムの一例を説明する。   Next, with reference to FIG. 15, an example of a motor drive system for an electric vehicle suitable for applying the switching element unit 1 will be described.

図15は、電動車両用モータ駆動システム100の全体構成の一例を示す図である。   FIG. 15 is a diagram illustrating an example of the overall configuration of the electric vehicle motor drive system 100.

モータ駆動システム100は、図15に示すように、バッテリ101、DC−DCコンバータ102、インバータ103、及び、走行用モータ104を備える。   As shown in FIG. 15, the motor drive system 100 includes a battery 101, a DC-DC converter 102, an inverter 103, and a traveling motor 104.

スイッチング素子ユニット1は、インバータ103の3つの上下アームの任意の1つを形成できる。また、スイッチング素子ユニット1のコンデンサ40は、モータ駆動システム100の平滑コンデンサCを形成する。例えば、スイッチング素子ユニット1は、インバータ103のU相に係る上下アームを形成できる。この場合、第1チップ21は、スイッチング素子Q1及びダイオードD1を含み、第2チップ22は、スイッチング素子Q2及びダイオードD2を含む。このとき、出力電極80は、中点M1に対応する。   The switching element unit 1 can form any one of the three upper and lower arms of the inverter 103. Further, the capacitor 40 of the switching element unit 1 forms a smoothing capacitor C of the motor drive system 100. For example, the switching element unit 1 can form upper and lower arms related to the U phase of the inverter 103. In this case, the first chip 21 includes a switching element Q1 and a diode D1, and the second chip 22 includes a switching element Q2 and a diode D2. At this time, the output electrode 80 corresponds to the midpoint M1.

以上、各実施例について詳述したが、特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。また、前述した実施例の構成要素を全部又は複数を組み合わせることも可能である。   Although each embodiment has been described in detail above, it is not limited to a specific embodiment, and various modifications and changes can be made within the scope described in the claims. It is also possible to combine all or a plurality of the components of the above-described embodiments.

例えば、図示の例では、
また、図示の例では、ビア324は、複数個形成されているが、1つだけであってもよい。この場合、ビア324は、扱う電流の大きさに応じた容積(又は断面積)を有するように形成されてよい。この場合、例えば、ビア324の形成範囲(断面)を、第1チップ21の接合範囲(=第2チップ22の接合範囲)よりも小さくすることで、第1チップ21の接合範囲の全体をカバーする場合に比べて、第1接合層51及び第2接合層52における熱応力の低減が依然として可能である。また、この場合、ビア324は、第1絶縁基板10を貫通する態様で挿入される導体材料(例えば金属片)により置換されてもよい。
For example, in the example shown,
In the illustrated example, a plurality of vias 324 are formed, but only one may be provided. In this case, the via 324 may be formed to have a volume (or a cross-sectional area) corresponding to the magnitude of the current to be handled. In this case, for example, the entire bonding range of the first chip 21 is covered by making the formation range (cross section) of the via 324 smaller than the bonding range of the first chip 21 (= the bonding range of the second chip 22). Compared with the case where it does, reduction of the thermal stress in the 1st joining layer 51 and the 2nd joining layer 52 is still possible. In this case, the via 324 may be replaced with a conductor material (for example, a metal piece) inserted in a manner penetrating the first insulating substrate 10.

また、図示の例では、スイッチング素子はIGBTであったが、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor)のような他のスイッチング素子であってもよい。   In the illustrated example, the switching element is an IGBT, but it may be another switching element such as a MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor).

また、図示の例では、スイッチング素子ユニット1は、インバータ103の一の上下アームを含むが、他の電力変換装置(例えば、図15に示すDC−DCコンバータ102)の上下アームを含む構成であってもよい。例えば、スイッチング素子ユニット1がDC−DCコンバータ102の上下アームに適用される場合、出力電極80は、図15の中点M4に対応し、バッテリ101がインダクタンスLを介して電気的に接続される。   In the illustrated example, the switching element unit 1 includes one upper and lower arm of the inverter 103, but includes another upper and lower arm of another power conversion device (for example, the DC-DC converter 102 illustrated in FIG. 15). May be. For example, when the switching element unit 1 is applied to the upper and lower arms of the DC-DC converter 102, the output electrode 80 corresponds to the middle point M4 in FIG. 15 and the battery 101 is electrically connected via the inductance L. .

また、図示の例では、スイッチング素子ユニット1は、インバータ103の3つの上下アームの任意の1つを形成するが、スイッチング素子ユニット1は、上述の如く、インバータ103の3つの上下アームの全てを含むこともできる。この場合、例えば、スイッチング素子ユニット1は、図1乃至図14に示した構造を奥行き方向に3つ並設した構造を有してよい。この場合、コンデンサ40については1つだけ設けられてもよい。また、この場合、正極側バスバ60及び負極側バスバ62は、各上下アームに共通であってよい。   In the illustrated example, the switching element unit 1 forms any one of the three upper and lower arms of the inverter 103. However, as described above, the switching element unit 1 allows all of the three upper and lower arms of the inverter 103 to be connected. It can also be included. In this case, for example, the switching element unit 1 may have a structure in which three structures shown in FIGS. 1 to 14 are arranged in parallel in the depth direction. In this case, only one capacitor 40 may be provided. In this case, the positive bus bar 60 and the negative bus bar 62 may be common to the upper and lower arms.

また、図示の例では、ゲート電極211及びゲート電極221は、それぞれ2組図示されているが、それぞれ1組だけでもよいし、より多数の組を有してもよい。また、ゲート電極211及びゲート電極221に並列して、センスエミッタ(過電流検出用)や温度センサに係る信号端子が設けられてもよい。この場合、信号端子も、ゲート電極211及びゲート電極221と同様の態様で、外部に取り出すことができる。   In the illustrated example, two sets of the gate electrode 211 and the gate electrode 221 are illustrated, but only one set may be provided, or a larger number of sets may be provided. In addition, in parallel with the gate electrode 211 and the gate electrode 221, a signal terminal related to a sense emitter (for overcurrent detection) or a temperature sensor may be provided. In this case, the signal terminal can also be taken out in the same manner as the gate electrode 211 and the gate electrode 221.

また、図示の例では、スイッチング素子ユニット1は、第1絶縁基板10、第2絶縁基板12及び第3絶縁基板13を含むが、第2絶縁基板12の一部又は全部、及び/又は、第3絶縁基板13の一部又は全部は、省略されてもよい。例えば第2絶縁基板12及び第3絶縁基板13が省略される場合、出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92は、第1絶縁基板10の上面又は下面の一端側(例えば図示の左側の端部)に形成することができる。これにより、出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92と外部との間の電気的な接続が依然として容易となる。尚、この場合、第1ゲート外部電極91とゲート電極211との間の電気的な接続は、ワイヤボンディング等により実現できる。また、この場合、第2絶縁基板12及び第3絶縁基板13の省略により形成される空間には、樹脂がモールドされて樹脂モールド部が形成されてもよい。   In the illustrated example, the switching element unit 1 includes the first insulating substrate 10, the second insulating substrate 12, and the third insulating substrate 13, but a part or all of the second insulating substrate 12 and / or the second insulating substrate 12. Part or all of the three insulating substrates 13 may be omitted. For example, when the second insulating substrate 12 and the third insulating substrate 13 are omitted, the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 are connected to one end side of the upper surface or the lower surface of the first insulating substrate 10 ( For example, it can be formed at the left end of the figure). Thereby, the electrical connection between the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 and the outside is still easy. In this case, the electrical connection between the first gate external electrode 91 and the gate electrode 211 can be realized by wire bonding or the like. In this case, a resin mold part may be formed by molding resin in the space formed by omitting the second insulating substrate 12 and the third insulating substrate 13.

また、図示の例では、出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92は、第2絶縁基板12の上面に設けられるが、出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92のうちの一部又は全部は、他の場所に設けられてもよい。例えば、出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92は、第3絶縁基板13の下面に設けられてもよい。また、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92は、第2絶縁基板12の上面に設けられ、出力電極80は、第3絶縁基板13の下面に設けられてもよい。また、出力電極80、第1ゲート外部電極91及び第2ゲート外部電極92のうちの一部又は全部は、第2絶縁基板12の上面等における奥行き方向の端部に設けられてもよい。   In the illustrated example, the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 are provided on the upper surface of the second insulating substrate 12, but the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 are provided. A part or all of the two-gate external electrode 92 may be provided elsewhere. For example, the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 may be provided on the lower surface of the third insulating substrate 13. The first gate external electrode 91 and the second gate external electrode 92 may be provided on the upper surface of the second insulating substrate 12, and the output electrode 80 may be provided on the lower surface of the third insulating substrate 13. Further, some or all of the output electrode 80, the first gate external electrode 91, and the second gate external electrode 92 may be provided at an end portion in the depth direction on the upper surface of the second insulating substrate 12 or the like.

また、図示の例では、第2導体部32は、ビア324に加えて、第1パターン部321と、第2パターン部322と、第3パターン部323とを含むが、これに限られない。ビア324が第1接合層51を介して第3パターン部323に適切な態様で電気的に接続される場合、第1パターン部321及び第2パターン部322は、省略されてもよい。   In the illustrated example, the second conductor portion 32 includes a first pattern portion 321, a second pattern portion 322, and a third pattern portion 323 in addition to the via 324, but is not limited thereto. When the via 324 is electrically connected to the third pattern portion 323 through the first bonding layer 51 in an appropriate manner, the first pattern portion 321 and the second pattern portion 322 may be omitted.

また、図示の例では、第3パターン部323は、第1パターン部321と連続する態様で第1絶縁基板10の上面に形成されているが、これに限られない。例えば、第3パターン部323は、第2パターン部322に連続する態様で第1絶縁基板10の下面に形成されてもよい。この場合、第1絶縁基板10にビアを形成し、当該ビア及びビア802を介して第3パターン部323を出力電極80に電気的に接続することとしてよい。   In the illustrated example, the third pattern portion 323 is formed on the upper surface of the first insulating substrate 10 in a manner continuous with the first pattern portion 321, but is not limited thereto. For example, the third pattern portion 323 may be formed on the lower surface of the first insulating substrate 10 in a manner that is continuous with the second pattern portion 322. In this case, vias may be formed in the first insulating substrate 10, and the third pattern portion 323 may be electrically connected to the output electrode 80 via the vias and vias 802.

また、図示の例では、第2絶縁基板12及び第3絶縁基板13は、それぞれ、一体化された多層の基板(セラミック材料の層を積層して形成される基板)であるが、第2絶縁基板12及び/又は第3絶縁基板13は、複数の基板の組み合わせにより形成されてもよい。例えば、第3絶縁基板13は、負極側バスバ62を上面に有する第1基板と、第2チップ22を内部に含む第2基板とを下部接合層55を介して上下に接合することで形成されてもよい。また、第2絶縁基板12及び/又は第3絶縁基板13は、別々の基板を左右方向に接合することで形成されてもよい。例えば、第2絶縁基板12は、左右方向でコンデンサ40(例えば、コンデンサ40の左端)と第1チップ21との間に境界を有する態様で、別々の基板を左右方向に接合することで形成されてもよい。   In the illustrated example, each of the second insulating substrate 12 and the third insulating substrate 13 is an integrated multilayer substrate (a substrate formed by laminating layers of ceramic materials). The substrate 12 and / or the third insulating substrate 13 may be formed by a combination of a plurality of substrates. For example, the third insulating substrate 13 is formed by vertically bonding a first substrate having the negative-side bus bar 62 on the upper surface and a second substrate including the second chip 22 inside through the lower bonding layer 55. May be. The second insulating substrate 12 and / or the third insulating substrate 13 may be formed by bonding different substrates in the left-right direction. For example, the second insulating substrate 12 is formed by joining separate substrates in the left-right direction in a mode having a boundary between the capacitor 40 (for example, the left end of the capacitor 40) and the first chip 21 in the left-right direction. May be.

また、図示の例では、第2絶縁基板12における第1チップ21を収容する空洞の深さは、第1チップ21及び第1接合層51を収容できるように設定されているが、これに限られない。例えば、図16には、変形例によるスイッチング素子ユニット1Bの断面図が示されている。図16は、図11のラインX−Xに沿った断面に対応するスイッチング素子ユニット1Bの断面を表す。図16に示す変形例によるスイッチング素子ユニット1Bでは、第1接合層51は、第1絶縁基板10B側に同様の空洞(第1接合層51になる接合剤のための空洞)を形成することで、第1絶縁基板10B側に形成される。即ち、第1絶縁基板10B及び第2絶縁基板12Bの上下方向の境界が上側に移動されてもよい。或いは、第1接合層51は、第1絶縁基板10及び第2絶縁基板12の双方に形成されてもよい。このように、第1絶縁基板10B及び第2絶縁基板12Bの上下方向の境界(第1絶縁基板10及び第3絶縁基板13の上下方向の境界についても同様)は、適宜、上下に変更されてよいし、積層方向で凹凸(図示される凹凸以外の凹凸)を更に有してよい。   In the example shown in the figure, the depth of the cavity for accommodating the first chip 21 in the second insulating substrate 12 is set so as to accommodate the first chip 21 and the first bonding layer 51. I can't. For example, FIG. 16 shows a cross-sectional view of a switching element unit 1B according to a modification. FIG. 16 shows a cross section of the switching element unit 1B corresponding to the cross section along the line XX in FIG. In the switching element unit 1B according to the modification shown in FIG. 16, the first bonding layer 51 forms a similar cavity (a cavity for the bonding agent that becomes the first bonding layer 51) on the first insulating substrate 10B side. , Formed on the first insulating substrate 10B side. That is, the vertical boundary between the first insulating substrate 10B and the second insulating substrate 12B may be moved upward. Alternatively, the first bonding layer 51 may be formed on both the first insulating substrate 10 and the second insulating substrate 12. Thus, the vertical boundary between the first insulating substrate 10B and the second insulating substrate 12B (the same applies to the vertical boundary between the first insulating substrate 10 and the third insulating substrate 13) is appropriately changed up and down. It may be further provided with unevenness (unevenness other than the illustrated unevenness) in the stacking direction.

なお、以上の実施例に関し、さらに以下を開示する。尚、以下で記載する効果は、必ずしも常に奏するものでない場合もある。また、従属形式の特徴に関する効果は、その特徴に係る効果であり、追加の効果である。
(1)
絶縁性を有する第1絶縁基板(10)と、
第1絶縁基板(10)の第1表面に実装され、電力変換装置の上アームを形成する第1スイッチング素子を含む第1チップ(21)と、
第1絶縁基板(10)の第1表面とは逆側の第2表面に実装され、電力変換装置の下アームを形成する第2スイッチング素子を含む第2チップ(22)と、
第1絶縁基板(10)に形成され、第2スイッチング素子のゲート電極(221)に電気的に接続される第1導体部(31)と、
第1絶縁基板(10)に形成され、電力変換装置の出力電極(80)に電気的に接続される第2導体部(32)であって、第1絶縁基板(10)を貫通し第1チップ(21)及び第2チップ(22)間を電気的に接続する第1貫通導体部(324)を含む第2導体部(32)とを含む、スイッチング素子ユニット(1、1B)。
In addition, the following is further disclosed regarding the above Example. The effects described below may not always be achieved. In addition, the effect related to the characteristic of the subordinate form is an effect related to the characteristic and an additional effect.
(1)
A first insulating substrate (10) having insulating properties;
A first chip (21) mounted on the first surface of the first insulating substrate (10) and including a first switching element forming an upper arm of the power converter;
A second chip (22) including a second switching element mounted on a second surface opposite to the first surface of the first insulating substrate (10) and forming a lower arm of the power converter;
A first conductor portion (31) formed on the first insulating substrate (10) and electrically connected to the gate electrode (221) of the second switching element;
A second conductor part (32) formed on the first insulating substrate (10) and electrically connected to the output electrode (80) of the power conversion device, the first conductor passing through the first insulating substrate (10) and first A switching element unit (1, 1B) including a second conductor part (32) including a first through conductor part (324) that electrically connects the chip (21) and the second chip (22).

(1)に記載の構成によれば、第1チップ(21)及び第2チップ(22)とが第1絶縁基板(10)の両側の表面に配置されるため、第1チップ(21)及び第2チップ(22)が第1絶縁基板(10)の一方側の同一の表面上に並んで配置される場合に比べて、第1チップ(21)及び第2チップ(22)間のインダクタンスの低減が可能となる。即ち、第1チップ(21)及び第2チップ(22)間を、第1貫通導体部(324)によって実質的に第1絶縁基板(10)の厚み分の距離で電気的に接続でき、インダクタンスの低減を図ることができる。また、第1導体部(31)が第1絶縁基板(10)に形成されるので、第2スイッチング素子のゲート電極(221)からのゲート信号線を銅線を用いて形成する場合に比べて、同ゲート信号線の形成が容易となる。このように、(1)に記載の構成によれば、インダクタンスの低減を図りつつ、ゲート信号線の形成が容易となる。また、第2導体部(32)が第1絶縁基板(10)に形成されるので、電力変換装置の出力電極(80)への配線の形成が容易となる。
(2)
第1絶縁基板(10)の第1表面と、第1チップ(21)における第1絶縁基板(10)に対向する側の表面電極との間に形成され、電導性を有し、第1チップ(21)を第1絶縁基板(10)に接合する第1接合層(51)と、
第1絶縁基板(10)の第2表面と、第2チップ(22)における第1絶縁基板(10)に対向する側の表面電極との間に形成され、電導性を有し、第2チップ(22)を第1絶縁基板(10)に接合する第2接合層(52)とを更に含む、(1)に記載のスイッチング素子ユニット(1、1B)。
According to the configuration described in (1), since the first chip (21) and the second chip (22) are disposed on the surfaces on both sides of the first insulating substrate (10), the first chip (21) and Compared with the case where the second chip (22) is arranged side by side on the same surface on one side of the first insulating substrate (10), the inductance between the first chip (21) and the second chip (22) is reduced. Reduction is possible. That is, the first chip (21) and the second chip (22) can be electrically connected by the first through conductor (324) at a distance substantially equal to the thickness of the first insulating substrate (10), and the inductance Can be reduced. Further, since the first conductor portion (31) is formed on the first insulating substrate (10), the gate signal line from the gate electrode (221) of the second switching element is formed using a copper wire. The gate signal line can be easily formed. As described above, according to the configuration described in (1), the formation of the gate signal line is facilitated while the inductance is reduced. Moreover, since the second conductor portion (32) is formed on the first insulating substrate (10), it is easy to form a wiring to the output electrode (80) of the power conversion device.
(2)
The first chip is formed between the first surface of the first insulating substrate (10) and the surface electrode on the side of the first chip (21) facing the first insulating substrate (10) and has conductivity. A first bonding layer (51) for bonding (21) to the first insulating substrate (10);
The second chip is formed between the second surface of the first insulating substrate (10) and the surface electrode on the side of the second chip (22) facing the first insulating substrate (10), having conductivity. The switching element unit (1, 1B) according to (1), further including a second bonding layer (52) for bonding (22) to the first insulating substrate (10).

(2)に記載の構成によれば、第1チップ(21)及び第2チップ(22)が第1絶縁基板(10)に対してそれぞれ第1接合層(51)及び第2接合層(52)を介して接合されるので、第1チップ(21)及び第2チップ(22)並びに第1絶縁基板(10)の全体としての積層方向の寸法公差を第1接合層(51)及び第2接合層(52)によって吸収可能となる。また、第1接合層(51)及び第2接合層(52)を用いることで、バネを用いる場合に比べて、接合面積を効率的に大きくでき、高い電気伝導性及び高い熱伝導性を効率的に実現できる。
(3)
第1貫通導体部(324)は、複数個、離散して形成される、(1)又は(2)に記載のスイッチング素子ユニット(1、1B)。
According to the configuration described in (2), the first chip (21) and the second chip (22) are respectively connected to the first insulating layer (10) by the first bonding layer (51) and the second bonding layer (52). ), The dimensional tolerance in the stacking direction of the first chip (21), the second chip (22), and the first insulating substrate (10) as a whole is set as the first bonding layer (51) and the second chip (22). Absorption is possible by the bonding layer (52). Further, by using the first bonding layer (51) and the second bonding layer (52), the bonding area can be efficiently increased compared with the case of using a spring, and high electrical conductivity and high thermal conductivity can be efficiently achieved. Can be realized.
(3)
The switching element unit (1, 1B) according to (1) or (2), wherein a plurality of first through conductor portions (324) are formed discretely.

(3)に記載の構成によれば、第1貫通導体部(324)を複数個形成することで、車両走行用モータの駆動時に扱うような比較的大きい電流を扱うことを可能としつつ、第1チップ(21)及び第2チップ(22)と第1貫通導体部(324)の材料との間の熱膨張係数の差に起因して第1接合層(51)及び第2接合層(52)に発生する熱応力を効率的に低減できる。
(4)
第1絶縁基板(10)の面直方向に対して垂直方向で第1絶縁基板(10)に隣接するコンデンサ(40)と、
コンデンサ(40)の第1電極(42)と、第1チップ(21)における第1絶縁基板(10)に対向する側とは逆側の表面電極とに電気的に接続される第1バスバ(60)と、
コンデンサ(40)の第2電極(44)と、第2チップ(22)における第1絶縁基板(10)に対向する側とは逆側の表面電極とに電気的に接続される第2バスバ(62)とを更に含む、(1)〜(3)のうちのいずれか1項に記載のスイッチング素子ユニット(1、1B)。
According to the configuration described in (3), by forming a plurality of the first through conductor portions (324), it is possible to handle a relatively large current that can be handled when driving the vehicle travel motor. Due to the difference in thermal expansion coefficient between the material of the first chip (21) and the second chip (22) and the first through conductor portion (324), the first bonding layer (51) and the second bonding layer (52 ) Can be efficiently reduced.
(4)
A capacitor (40) adjacent to the first insulating substrate (10) in a direction perpendicular to the perpendicular direction of the first insulating substrate (10);
A first bus bar (40) electrically connected to the first electrode (42) of the capacitor (40) and the surface electrode on the opposite side of the first chip (21) opposite to the first insulating substrate (10). 60)
The second bus bar (40) electrically connected to the second electrode (44) of the capacitor (40) and the surface electrode on the opposite side of the second chip (22) facing the first insulating substrate (10). 62) The switching element unit (1, 1B) according to any one of (1) to (3).

(4)に記載の構成によれば、コンデンサ(40)と第1チップ(21)及び第2チップ(22)とに対して第1バスバ(60)及び第2バスバ(62)を共通化して短い距離で形成でき、コンデンサ(40)と第1チップ(21)及び第2チップ(22)との間のインダクタンスを効率的に低減できる。
(5)
第1絶縁基板(10)の第1表面側に設けられ、絶縁性を有し、第1絶縁基板(10)側とは逆側の表面に、第1導体部(31)及び第1スイッチング素子のゲート電極(211)に電気的に接続されるゲート外部電極(91.92)を有する第2絶縁基板(12)を更に含む、(1)〜(4)のうちのいずれか1項に記載のスイッチング素子ユニット(1、1B)。
According to the configuration described in (4), the first bus bar (60) and the second bus bar (62) are shared by the capacitor (40), the first chip (21), and the second chip (22). It can be formed with a short distance, and the inductance between the capacitor (40) and the first chip (21) and the second chip (22) can be efficiently reduced.
(5)
A first conductor portion (31) and a first switching element are provided on the first surface side of the first insulating substrate (10), have insulating properties, and have a surface opposite to the first insulating substrate (10) side. The semiconductor device according to any one of (1) to (4), further including a second insulating substrate (12) having a gate external electrode (91.92) electrically connected to the gate electrode (211). Switching element unit (1, 1B).

(5)に記載の構成によれば、第1チップ(21)のゲート電極及び第2チップ(22)のゲート電極からの各ゲート信号線を、第2絶縁基板(12)の表面のゲート外部電極(91.92)を介して外部へ容易に取り出すことができる。即ち、ゲート外部電極(91.92)が第2絶縁基板(12)の表面(第1絶縁基板(10)側とは逆側の表面)に設けられるので、ゲート外部電極(91.92)と外部(例えば制御基板)との電気的な接続が容易となる。
(6)
出力電極(80)は、第2絶縁基板(12)における第1絶縁基板(10)側とは逆側の表面に設けられ、
第2絶縁基板(12)を貫通し、出力電極(80)に電気的に接続される第2貫通導体部(802)を更に含み、
第2導体部(32)は、第1絶縁基板(10)の第1表面に形成され、第2貫通導体部(12)と第1貫通導体部(10)とを電気的に接続する導体パターン(323)を含む、請求項5に記載のスイッチング素子ユニット(1、1B)。
According to the configuration described in (5), the gate signal lines from the gate electrode of the first chip (21) and the gate electrode of the second chip (22) are connected to the outside of the gate on the surface of the second insulating substrate (12). It can be easily taken out through the electrode (91.92). That is, since the gate external electrode (91.92) is provided on the surface of the second insulating substrate (12) (surface opposite to the first insulating substrate (10) side), the gate external electrode (91.92) and Electrical connection with the outside (for example, a control board) becomes easy.
(6)
The output electrode (80) is provided on the surface of the second insulating substrate (12) opposite to the first insulating substrate (10) side,
A second through conductor portion (802) that penetrates the second insulating substrate (12) and is electrically connected to the output electrode (80);
The second conductor portion (32) is formed on the first surface of the first insulating substrate (10) and electrically connects the second through conductor portion (12) and the first through conductor portion (10). The switching element unit (1, 1B) according to claim 5, comprising (323).

(6)に記載の構成によれば、出力電極(80)が第2絶縁基板(12)の表面(第1絶縁基板(10)側とは逆側の表面)に設けられるので、出力電極(80)と外部(例えば走行用モータ)との電気的な接続が容易となる。また、第1チップ(21)及び第2チップ(22)から出力電極(80)までの配線を第1絶縁基板(10)及び第2絶縁基板(12)に形成できるので、同配線の形成が容易となる。
(7)
電力変換装置は、車両用走行モータ(104)を駆動するためのインバータ(103)であり、
出力電極(80)は、車両用走行モータ(104)に電気的に接続される、(1)〜(6)のうちのいずれか1項に記載のスイッチング素子ユニット(1、1B)。
According to the configuration described in (6), since the output electrode (80) is provided on the surface of the second insulating substrate (12) (surface opposite to the first insulating substrate (10) side), the output electrode ( 80) can be easily electrically connected to the outside (for example, a traveling motor). In addition, since the wiring from the first chip (21) and the second chip (22) to the output electrode (80) can be formed on the first insulating substrate (10) and the second insulating substrate (12), the formation of the same wiring is possible. It becomes easy.
(7)
The power converter is an inverter (103) for driving the vehicle travel motor (104),
The switching element unit (1, 1B) according to any one of (1) to (6), wherein the output electrode (80) is electrically connected to the vehicle travel motor (104).

(1)〜(6)のうちのいずれか1項に記載のスイッチング素子ユニット(1、1B)によれば、上記のようにインダクタンスの低減を図ることができるので、高速のスイッチング動作に伴ってサージ電圧が比較的高くなりやすい車両用走行モータ(104)の駆動用のインバータ(103)に使用される場合でも、サージ電圧を抑えること可能である。   According to the switching element unit (1, 1B) described in any one of (1) to (6), the inductance can be reduced as described above. Even when used in the inverter (103) for driving the vehicle travel motor (104), the surge voltage is likely to be relatively high, the surge voltage can be suppressed.

1 スイッチング素子ユニット
10 第1絶縁基板
12 第2絶縁基板
13 第3絶縁基板
14 上部カバー基板
15 下部カバー基板
21 第1チップ
22 第2チップ
31 第1導体部
32 第2導体部
40 コンデンサ
41 誘電体部
42 正極側電極
44 負極側電極
51 第1接合層
52 第2接合層
60 正極側バスバ
62 負極側バスバ
80 出力電極
91 第1ゲート外部電極
92 第2ゲート外部電極
211 ゲート電極
221 ゲート電極
312 ビア
321 第1パターン部
322 第2パターン部
323 第3パターン部
1 switching element unit 10 first insulating substrate
12 Second insulating substrate
13 Third insulating substrate
14 Top cover board
15 Lower cover board
21 First chip
22 Second chip
31 1st conductor part
32 2nd conductor part
40 capacitors
41 Dielectric part 42 Positive electrode side electrode 44 Negative electrode side electrode 51 1st joining layer
52 Second bonding layer
60 Positive side bus bar
62 Negative side bus bar
80 output electrode
91 1st gate external electrode
92 Second gate external electrode
211 Gate electrode
221 Gate electrode
312 Via
321 First pattern part
322 Second pattern part
323 Third pattern part

Claims (7)

絶縁性を有する第1絶縁基板と、
前記第1絶縁基板の第1表面に実装され、電力変換装置の上下アームの一方を形成する第1スイッチング素子を含む第1チップと、
前記第1絶縁基板の前記第1表面とは逆側の第2表面に実装され、前記電力変換装置の上下アームの他方を形成する第2スイッチング素子を含む第2チップと、
前記第1絶縁基板に形成され、前記第2スイッチング素子のゲート電極に電気的に接続される第1導体部と、
前記第1絶縁基板に形成され、前記電力変換装置の出力電極に電気的に接続される第2導体部であって、前記第1絶縁基板を貫通し前記第1チップ及び前記第2チップ間を電気的に接続する第1貫通導体部を含む第2導体部と、を含むスイッチング素子ユニット。
A first insulating substrate having insulating properties;
A first chip including a first switching element mounted on a first surface of the first insulating substrate and forming one of upper and lower arms of a power converter;
A second chip including a second switching element mounted on the second surface opposite to the first surface of the first insulating substrate and forming the other of the upper and lower arms of the power converter;
A first conductor formed on the first insulating substrate and electrically connected to a gate electrode of the second switching element;
A second conductor portion formed on the first insulating substrate and electrically connected to an output electrode of the power converter, and penetrating the first insulating substrate between the first chip and the second chip; And a second conductor portion including a first through conductor portion that is electrically connected.
前記第1絶縁基板の前記第1表面と、前記第1チップにおける前記第1絶縁基板側の表面電極との間に形成され、電導性を有し、前記第1チップを前記第1絶縁基板に接合する第1接合層と、
前記第1絶縁基板の前記第2表面と、前記第2チップにおける前記第1絶縁基板側の表面電極との間に形成され、電導性を有し、前記第2チップを前記第1絶縁基板に接合する第2接合層とを更に含む、請求項1に記載のスイッチング素子ユニット。
The first insulating substrate is formed between the first surface of the first insulating substrate and a surface electrode on the first insulating substrate side of the first chip, and has conductivity, and the first chip is used as the first insulating substrate. A first bonding layer to be bonded;
The first insulating substrate is formed between the second surface of the first insulating substrate and a surface electrode on the first insulating substrate side of the second chip, and has conductivity, and the second chip is used as the first insulating substrate. The switching element unit according to claim 1, further comprising a second bonding layer to be bonded.
前記第1貫通導体部は、複数個、離散して形成される、請求項1又は2に記載のスイッチング素子ユニット。   The switching element unit according to claim 1, wherein a plurality of the first through conductor portions are discretely formed. 前記第1絶縁基板の面直方向に対して垂直方向で前記第1絶縁基板に隣接するコンデンサと、
前記コンデンサの第1電極と、前記第1チップにおける前記第1絶縁基板側とは逆側の表面電極とに電気的に接続される第1バスバと、
前記コンデンサの第2電極と、前記第2チップにおける前記第1絶縁基板側とは逆側の表面電極とに電気的に接続される第2バスバとを更に含む、請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載のスイッチング素子ユニット。
A capacitor adjacent to the first insulating substrate in a direction perpendicular to the direction perpendicular to the surface of the first insulating substrate;
A first bus bar electrically connected to a first electrode of the capacitor and a surface electrode of the first chip opposite to the first insulating substrate;
4. The device according to claim 1, further comprising: a second bus bar electrically connected to a second electrode of the capacitor and a surface electrode of the second chip opposite to the first insulating substrate side. The switching element unit according to any one of claims.
前記第1絶縁基板の前記第1表面側に設けられ、絶縁性を有し、前記第1絶縁基板側とは逆側の表面に、前記第1導体部及び前記第1スイッチング素子のゲート電極に電気的に接続される外部電極を有する第2絶縁基板を更に含む、請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載のスイッチング素子ユニット。   Provided on the first surface side of the first insulating substrate, has an insulating property, on the surface opposite to the first insulating substrate side, on the first conductor portion and the gate electrode of the first switching element The switching element unit according to claim 1, further comprising a second insulating substrate having an external electrode that is electrically connected. 前記出力電極は、前記第2絶縁基板における前記第1絶縁基板側とは逆側の表面に設けられ、
前記第2絶縁基板を貫通し、前記出力電極に電気的に接続される第2貫通導体部を更に含み、
前記第2導体部は、前記第1絶縁基板の前記第1表面に形成され、前記第2貫通導体部と前記第1貫通導体部とを電気的に接続する導体パターンを含む、請求項5に記載のスイッチング素子ユニット。
The output electrode is provided on a surface of the second insulating substrate opposite to the first insulating substrate;
A second through conductor portion that penetrates the second insulating substrate and is electrically connected to the output electrode;
The said 2nd conductor part is formed in the said 1st surface of the said 1st insulated substrate, The conductor pattern which electrically connects the said 2nd through-conductor part and the said 1st through-conductor part is included in Claim 5. The switching element unit described.
前記電力変換装置は、車両用走行モータを駆動するためのインバータであり、
前記出力電極は、前記車両用走行モータに電気的に接続される、請求項1〜6のうちのいずれか1項に記載のスイッチング素子ユニット。
The power converter is an inverter for driving a vehicle travel motor,
The switching element unit according to claim 1, wherein the output electrode is electrically connected to the vehicle travel motor.
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