JP2008179923A - Method for producing electroconductive fiber - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、導電性繊維の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing conductive fibers.
導電性繊維は、静電障害防止、電磁波遮蔽等に各種用途に使用されている。導電性繊維
は、炭素繊維又は金属繊維の表面を金属膜で被覆したものが一般的であるが、近年、透明
性を有する導電性繊維が注目されている。
Conductive fibers are used in various applications for preventing electrostatic interference and shielding electromagnetic waves. The conductive fiber is generally a carbon fiber or metal fiber whose surface is covered with a metal film, but in recent years, a conductive fiber having transparency has attracted attention.
透明導電性繊維は、特許文献１において、ガラス繊維に、金属酸化物の前駆体の溶液を
塗布し、そのガラス繊維に塗布した前駆体の溶液に対してレーザー照射を行って、ガラス
繊維の表面に金属酸化被膜を形成することによって製造される。また、特許文献１では、
そのガラス繊維に塗布した前駆体の溶液に対して、窒素雰囲気中で、９００Ｗの低圧水銀
灯を照射しながら４５０℃に加熱し２時間焼成し、さらに、２５０℃窒素雰囲気中で１時
間アニールして、ガラス繊維の表面にＩＴＯ薄膜を形成することによって透明の導電性繊
維の製造方法が提案されている。
The precursor solution applied to the glass fiber is heated to 450 ° C. for 2 hours while being irradiated with a 900 W low-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere, and further annealed in a nitrogen atmosphere at 250 ° C. for 1 hour. A method for producing transparent conductive fibers by forming an ITO thin film on the surface of glass fibers has been proposed.
ところで、上記した前者のレーザを照射して透明導電性繊維の製造方法においては、高
価な炭酸ガスレーザを使用することと、レーザ照射の際の高度な焦点制御を必要すること
から、製造コストが高くなっていた。
By the way, in the manufacturing method of the transparent conductive fiber by irradiating the former laser described above, since an expensive carbon dioxide gas laser is used and a high degree of focus control at the time of laser irradiation is required, the manufacturing cost is high. It was.
また、後者の透明導電性繊維の製造方法においても、同様に、窒素雰囲気中で４５０℃
といった、高い温度での焼成等を行っていることから、製造装置の大型でかつ複雑となり
、製造コストが高くなる問題を有していた。
Similarly, in the latter method for producing a transparent conductive fiber, it is similarly 450 ° C. in a nitrogen atmosphere.
Since firing at a high temperature is performed, there is a problem that the manufacturing apparatus becomes large and complicated, and the manufacturing cost increases.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、導電性繊維を
簡単に製造することができる導電性繊維の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a conductive fiber that can easily produce a conductive fiber.
本発明の導電性繊維の製造方法は、導電性繊維の製造方法であって、コーティング剤に
てコーティングされた導電性微粒子を分散させた導電性材料液を、耐熱性繊維に塗布し、
該導電性材料液が塗布された耐熱性繊維を焼成し、該耐熱性繊維の表面に焼結金属膜を形
成して導電性繊維を製造した。
The method for producing a conductive fiber of the present invention is a method for producing a conductive fiber, in which a conductive material liquid in which conductive fine particles coated with a coating agent are dispersed is applied to a heat-resistant fiber,
The heat resistant fiber coated with the conductive material solution was fired, and a sintered metal film was formed on the surface of the heat resistant fiber to produce a conductive fiber.
本発明の導電性繊維の製造方法によれば、導電性材料液を塗布した耐熱性繊維を焼成す
ると、分散媒が蒸発し液状体中の導電性微粒子は、焼結して耐熱性繊維の表面に焼結導電
膜を形成する。従って、耐熱性繊維に塗布し焼成するだけで、簡単に導電性繊維を製造す
ることができる。
According to the method for producing a conductive fiber of the present invention, when the heat-resistant fiber coated with the conductive material liquid is baked, the dispersion medium evaporates and the conductive fine particles in the liquid are sintered to sinter the surface of the heat-resistant fiber. A sintered conductive film is formed. Therefore, the conductive fiber can be easily produced simply by applying it to the heat resistant fiber and baking it.
この導電性繊維の製造方法において、前記耐熱性繊維はガラス繊維である。
これによれば、ガラス繊維の表面に、簡単に、焼結導電膜を形成することができる。
この導電性繊維の製造方法において、前記導電性微粒子は、インジウムとスズの合金微
粒子である。
In this method for producing a conductive fiber, the heat-resistant fiber is a glass fiber.
According to this, the sintered conductive film can be easily formed on the surface of the glass fiber.
In this method for producing conductive fibers, the conductive fine particles are alloy fine particles of indium and tin.
これによれば、耐熱性繊維に塗布されたインジウムとスズの合金微粒子を含む導電性材
料液は、焼成することによって、合金微粒子が焼結するとともに酸化して、耐熱性繊維の
表面に焼結ＩＴＯ膜が形成される。従って、耐熱性繊維に塗布し焼成するだけで、簡単に
透明の導電性繊維を製造することができる。
According to this, the conductive material liquid containing the alloy fine particles of indium and tin applied to the heat resistant fiber is sintered to oxidize and sinter on the surface of the heat resistant fiber. An ITO film is formed. Therefore, a transparent conductive fiber can be easily produced simply by applying to a heat resistant fiber and baking.
この導電性繊維の製造方法において、前記導電性材料液を塗布した耐熱性繊維は、大気
圧状態で、２００℃〜３００℃の範囲で焼成する。
これによれば、２００℃〜３００℃の範囲の低い温度で導電性膜を形成でき、繊維を損
傷させることがない。
In this conductive fiber manufacturing method, the heat-resistant fiber coated with the conductive material liquid is fired at 200 ° C. to 300 ° C. in an atmospheric pressure state.
According to this, the conductive film can be formed at a low temperature in the range of 200 ° C. to 300 ° C., and the fiber is not damaged.
この導電性繊維の製造方法において、前記導電性材料液を塗布した耐熱性繊維は、低圧
状態で乾燥した後に、大気圧状態で、２００℃〜３００℃の範囲で焼成する。
これによれば、前段階で、低圧状態で乾燥を行いことから、次の焼成が効率良く行うこ
とができる。
In this method for producing a conductive fiber, the heat-resistant fiber coated with the conductive material liquid is dried in a low pressure state, and then fired at 200 ° C. to 300 ° C. in an atmospheric pressure state.
According to this, since the drying is performed in a low-pressure state in the previous stage, the next baking can be performed efficiently.
以下、発明を具体化した透明導電性繊維の一実施形態を図面に従って説明する。
まず、図１は、ガラス繊維にＩＴＯ膜が被覆された状態を示す模式図であって、透明導
電性繊維１は、耐熱性繊維としてのガラス繊維２の表面に焼結ＩＴＯ膜（酸化インジウム
スズ膜）３が被覆されている。
Hereinafter, an embodiment of a transparent conductive fiber embodying the invention will be described with reference to the drawings.
First, FIG. 1 is a schematic view showing a state in which an ITO film is coated on a glass fiber. The transparent
ガラス繊維２の表面に被覆された焼結ＩＴＯ膜３は、図２に示すように、ポーラス構造
になっている。焼結ＩＴＯ膜３は、透明の導電性薄膜であるとともに紫外線及び赤外線を
吸収する。
The sintered ITO film 3 coated on the surface of the glass fiber 2 has a porous structure as shown in FIG. The sintered ITO film 3 is a transparent conductive thin film and absorbs ultraviolet rays and infrared rays.
次に、上記透明導電性繊維１の製造方法を図３に従って説明する。
ガラス繊維２を、貯留槽１１に貯留されている透明導電性材料液Ｌに浸ける。ガラス繊
維２を透明導電性材料液Ｌに浸けることによって、ガラス繊維２の表面に、透明導電性材
料液Ｌが塗布される。
Next, the manufacturing method of the said transparent
The glass fiber 2 is immersed in the transparent conductive material liquid L stored in the storage tank 11. By immersing the glass fiber 2 in the transparent conductive material liquid L, the transparent conductive material liquid L is applied to the surface of the glass fiber 2.
透明導電性材料液Ｌは、本実施形態では、粒径が数ｎｍのインジウムとスズの合金（イ
ンジウム‐スズ合金）よりなる導電性微粒子を分散媒に分散させた分散系金属インクであ
る。このインジウム‐スズの合金よりなる導電性微粒子は、凝集しないようにコーティン
グ剤にてマイクロカプセル化されている。
In this embodiment, the transparent conductive material liquid L is a dispersed metal ink in which conductive fine particles made of an alloy of indium and tin (indium-tin alloy) having a particle size of several nm are dispersed in a dispersion medium. The conductive fine particles made of this indium-tin alloy are microencapsulated with a coating agent so as not to aggregate.
分散媒としては、上記の導電性微粒子を分散できるもので凝集を起こさないものであれ
ば特に限定されない。例えば、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタ
ノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデ
カン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナ
フタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、ま
たエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−
ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテ
ル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性
化合物を例示できる。これらのうち、導電性微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴
吐出法（インクジェット法）への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化
合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合
物を挙げることができる。
The dispersion medium is not particularly limited as long as it can disperse the conductive fine particles and does not cause aggregation. For example, in addition to water, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, n-heptane, n-octane, decane, dodecane, tetradecane, toluene, xylene, cymene, durene, indene, dipentene, tetrahydronaphthalene, decahydro Hydrocarbon compounds such as naphthalene and cyclohexylbenzene, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, 1,2-
Examples include ether compounds such as dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, p-dioxane, and polar compounds such as propylene carbonate, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and cyclohexanone. it can. Of these, water, alcohols, hydrocarbon compounds, and ether compounds are preferred in terms of the dispersibility of the conductive fine particles, the stability of the dispersion, and the ease of application to the droplet discharge method (inkjet method). More preferable dispersion media include water and hydrocarbon compounds.
次に、透明導電性材料液Ｌが塗布されたガラス繊維２を、焼成炉１２に入れて焼成する
。焼成は、大気圧状態で加熱温度が２００℃〜３００℃の範囲で３０分間焼成する。
これによって、インジウム‐スズの合金からなる導電性微粒子は焼結体となる。即ち、
導電性微粒子は、コーティング剤が剥がされ互いに融着するとともに、酸化されてポーラ
ス構造の焼結ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）膜３となって、ガラス繊維２の表面を被覆す
る。焼結ＩＴＯ膜３が表面に被覆されたガラス繊維２は、透明導電性繊維１となる。
Next, the glass fiber 2 to which the transparent conductive material liquid L is applied is placed in a
As a result, the conductive fine particles made of an indium-tin alloy become a sintered body. That is,
The conductive fine particles are peeled off and fused to each other, and are oxidized to form a sintered ITO (indium tin oxide) film 3 having a porous structure to cover the surface of the glass fiber 2. The glass fiber 2 whose surface is covered with the sintered ITO film 3 becomes the transparent
このように製造された透明導電性繊維１は、織機等を使って織布となる。従って、透明
で導電性のある織布となる。しかも、焼結ＩＴＯ膜３は、紫外線及び赤外線を吸収し透過
させないことから、織布は、紫外線をカットする織布となる。
The transparent
従って、上記織布は、静電気防止用の布や、紫外線防止用のアームカバーに加工するこ
とができる。
次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
Therefore, the woven fabric can be processed into an antistatic fabric or an arm cover for preventing ultraviolet rays.
Next, effects of the embodiment configured as described above will be described below.
（１）上記実施形態によれば、透明導電性材料液Ｌを塗布した耐熱性繊維を大気状態で
焼成すると、分散媒が蒸発し液状体中の導電性微粒子は、焼結して、耐熱性繊維の表面に
焼結ＩＴＯ膜が形成される。従って、耐熱性繊維に塗布し焼成するだけで、簡単に透明導
電性繊維を製造することができる。また、大気状態で焼成するため、さらに、簡単に透明
導電性繊維を製造することができる。しかも、焼結ＩＴＯ膜は、紫外線及び赤外線を吸収
し、可視光線を透過するため、該繊維の織布は、紫外線防止や赤外線防止のための布製品
を製作することができる。
(1) According to the above embodiment, when the heat-resistant fiber coated with the transparent conductive material liquid L is baked in the atmospheric state, the dispersion medium evaporates and the conductive fine particles in the liquid body are sintered and heat-resistant. A sintered ITO film is formed on the surface of the fiber. Therefore, a transparent conductive fiber can be easily produced simply by applying to a heat resistant fiber and baking. Moreover, since it bakes in an atmospheric condition, a transparent conductive fiber can be manufactured more easily. In addition, since the sintered ITO film absorbs ultraviolet rays and infrared rays and transmits visible rays, the woven fabric of the fibers can produce a fabric product for preventing ultraviolet rays and preventing infrared rays.
（２）上記実施形態によれば、透明導電性材料液Ｌが塗布されたガラス繊維２を２００
℃〜３００℃という低い温度で焼成して、ガラス繊維２の表面にポーラス構造の焼結ＩＴ
Ｏを被覆した。従って、２００℃〜３００℃という低い温度で、簡単に製造することがで
きるとともに、ガラス繊維２を損傷させることなく透明導電性膜を形成することができる
。
(2) According to the embodiment, the glass fiber 2 coated with the transparent conductive material liquid L is 200
Sintered with a porous structure on the surface of the glass fiber 2 by firing at a temperature as low as 300 ° C. to 300 ° C.
O was coated. Therefore, it can be easily produced at a low temperature of 200 ° C. to 300 ° C., and a transparent conductive film can be formed without damaging the glass fiber 2.
（３）上記実施形態では、大気状態であって２００℃〜３００℃という低い温度での焼
成であるため、焼成のための装置も大がかりにならず、小型でシンプルにすることができ
る。しかも、２００℃〜３００℃という低い温度で３０分の焼成で製造することができる
ことから、生産効率の良くコストダウンを図ることができる。
(3) In the above-described embodiment, since the firing is performed at a low temperature of 200 ° C. to 300 ° C. in the atmospheric state, the apparatus for firing does not become large, and can be made small and simple. And since it can manufacture by baking for 30 minutes at the low temperature of 200 to 300 degreeC, it can aim at cost reduction with good production efficiency.
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○上記実施形態では、透明導電性材料液Ｌが塗布されたガラス繊維２を、大気圧状態で
加熱温度が２００℃〜３００℃の範囲で焼成するようにしたが、この焼成の前段階で、該
ガラス繊維２を減圧室に入れて、低圧状態で透明導電性材料液Ｌを乾燥した後に、大気圧
状態で２００℃〜３００℃の範囲で焼成するようにしてもよい。前段階で、乾燥を行いこ
とから、最適な焼成が効率良く行うことができる。この前段階の乾燥時においても、合わ
せて焼成を行うようにしてもよい。
In addition, you may change the said embodiment as follows.
In the above embodiment, the glass fiber 2 coated with the transparent conductive material liquid L is fired in the atmospheric pressure state at a heating temperature in the range of 200 ° C to 300 ° C. The glass fiber 2 may be put in a decompression chamber and the transparent conductive material liquid L may be dried in a low pressure state, and then fired in a range of 200 ° C. to 300 ° C. in an atmospheric pressure state. Since the drying is performed in the previous stage, optimum baking can be performed efficiently. Even at the time of drying in this previous stage, firing may be performed together.
○上記実施形態では、焼成は３０分間焼成したが、焼結ＩＴＯ膜３が形成されるならば
、その焼成時間は特に限定されるものではなく、適宜変更して実施してもよい。
○上記実施形態では、ガラス繊維２を、貯留槽１１の透明導電性材料液Ｌに浸けるよう
にしたが、ガラス繊維２の織布を、貯留槽１１の透明導電性材料液Ｌに浸け、透明導電性
材料液Ｌが塗布されたガラス繊維２の織布を、焼成炉１２に入れて焼成するようにして実
施してもよい。
In the above embodiment, the firing is performed for 30 minutes. However, as long as the sintered ITO film 3 is formed, the firing time is not particularly limited and may be appropriately changed.
In the above embodiment, the glass fiber 2 is immersed in the transparent conductive material liquid L in the storage tank 11, but the woven fabric of the glass fiber 2 is immersed in the transparent conductive material liquid L in the storage tank 11 to be transparent. The woven fabric of the glass fiber 2 to which the conductive material liquid L is applied may be put into the firing
また、織布に透明導電性材料液Ｌを塗布する方法として、液滴吐出装置で液滴を吐出さ
せて塗布したり、ディスペンサーで塗布してもよい。
○上記実施形態では、耐熱性繊維をガラス繊維２で実施したが、焼成時の加熱温度であ
る２００℃〜３００℃の耐える繊維ならば、例えば樹脂繊維等、適宜変更して実施しても
よい。
Further, as a method of applying the transparent conductive material liquid L to the woven fabric, it may be applied by discharging droplets with a droplet discharge device, or may be applied with a dispenser.
In the above embodiment, the heat-resistant fiber is implemented with the glass fiber 2. However, if the fiber can withstand 200 ° C. to 300 ° C. which is the heating temperature at the time of firing, for example, resin fiber may be appropriately changed and implemented. .
○上記実施形態では、ガラス繊維２に塗布する透明導電性材料液Ｌは、粒径が数ｎｍの
インジウム‐スズ合金よりなる導電性微粒子を分散媒に分散させた分散系金属インクであ
る。これに限定されるものではなく、導電性微粒子としてインジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓ
ｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アンチモン（Ｓｂ）、アルミニウム（Ａｌ
）、フッ素（Ｆ）、及びマグネシウム（Ｍｇ）から選ばれる１種以上の元素を含むものを
用いることができる。導電性微粒子の具体的構成材料としては、Ｉｎ‐Ｓｎ合金の他に、
スズ‐アンチモン合金、フッ素‐スズ合金、亜鉛‐アルミニウム合金、ガリウム−スズ合
金、あるいは、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ等からなる導電性微粒子を例示することができる。これ
ら導電性微粒子の粒径は、１ｎｍ〜５０ｎｍ程度であることが好ましい。この場合にも、
ガラス繊維２に塗布し焼成するだけで、簡単に透明導電性繊維を製造することができる。
In the above embodiment, the transparent conductive material liquid L applied to the glass fiber 2 is a dispersed metal ink in which conductive fine particles made of an indium-tin alloy having a particle size of several nm are dispersed in a dispersion medium. However, the present invention is not limited to this, and indium (In), tin (S
n), zinc (Zn), zirconium (Zr), antimony (Sb), aluminum (Al
), Fluorine (F), and magnesium (Mg) may be used. As a specific constituent material of the conductive fine particles, in addition to the In-Sn alloy,
Examples thereof include tin-antimony alloy, fluorine-tin alloy, zinc-aluminum alloy, gallium-tin alloy, or conductive fine particles made of In, Zn, Sn, or the like. The particle diameter of these conductive fine particles is preferably about 1 nm to 50 nm. Again,
A transparent conductive fiber can be easily produced simply by applying it to the glass fiber 2 and baking it.
さらに、ガラス繊維２に塗布する透明導電性材料液Ｌに代えて、透明でない導電性材料
液を塗布して、焼結金属膜を被服した導電性繊維を形成してもよい。この場合にも、ガラ
ス繊維２に塗布し焼成するだけで、簡単に導電性繊維を製造することができる。
Furthermore, it may replace with the transparent conductive material liquid L apply | coated to the glass fiber 2, and may apply | coat the conductive material liquid which is not transparent, and may form the conductive fiber which covered the sintered metal film. Also in this case, the conductive fiber can be easily produced simply by applying the glass fiber 2 and baking it.
この場合の導電性材料液は、例えば粒径が数ｎｍの機能材料としての金属微粒子を分散
媒に分散させた分散系金属インクを用いることができる。金属微粒子としては、例えば、
金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、パラジウム（Ｐｄ）、マ
ンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、及びニッケル（Ｎｉ）などの材料
の他、これらの酸化物、並びに超電導体の微粒子などが用いられる。金属微粒子の粒径は
１ｎｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましい。
As the conductive material liquid in this case, for example, a dispersed metal ink in which metal fine particles as a functional material having a particle diameter of several nm are dispersed in a dispersion medium can be used. As the metal fine particles, for example,
In addition to materials such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), palladium (Pd), manganese (Mn), titanium (Ti), tantalum (Ta), and nickel (Ni) These oxides as well as fine particles of superconductors are used. The particle diameter of the metal fine particles is preferably 1 nm or more and 0.1 μm or less.
分散媒としては、上記の金属微粒子を分散できるもので凝集を起こさないものであれば
特に限定されない。例えば水系溶媒のほか、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラ
デカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロ
ナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、
またエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン
、1，３−プロパンジオールなどのポリオール類、ポリエチレングリコール、エチレング
リコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
メチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエ
タン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、
さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノン、乳酸エチルなどの極性
化合物を例示できる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、点で、水、アル
コール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒として
は、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。
The dispersion medium is not particularly limited as long as it can disperse the metal fine particles and does not cause aggregation. For example, in addition to aqueous solvents, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, n-heptane, n-octane, decane, dodecane, tetradecane, toluene, xylene, cymene, durene, indene, dipentene, tetrahydronaphthalene, decahydronaphthalene , Hydrocarbon compounds such as cyclohexylbenzene,
Also, polyols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin, 1,3-propanediol, polyethylene glycol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl Ether compounds such as ethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, p-dioxane,
Further examples include polar compounds such as propylene carbonate, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, cyclohexanone, and ethyl lactate. Among these, water, alcohols, hydrocarbon compounds, and ether compounds are preferable in terms of the dispersibility of the fine particles and the stability of the dispersion liquid, and more preferable dispersion media include water and hydrocarbon compounds. Can do.
１…導電性繊維、２…ガラス繊維、３…燒結ＩＴＯ膜、１１…貯留槽、１２…焼成炉、
Ｌ…透明導電性材料液。
DESCRIPTION OF
L: Transparent conductive material liquid.
Claims (5)
コーティング剤にてコーティングされた導電性微粒子を分散させた導電性材料液を、耐
熱性繊維に塗布し、該導電性材料液が塗布された耐熱性繊維を焼成し、該耐熱性繊維の表
面に焼結金属膜を形成して導電性繊維を製造したことを特徴とする導電性繊維の製造方法
。 A method for producing conductive fibers, comprising:
A conductive material liquid in which conductive fine particles coated with a coating agent are dispersed is applied to a heat-resistant fiber, the heat-resistant fiber coated with the conductive material liquid is baked, and the surface of the heat-resistant fiber is applied. A method for producing a conductive fiber, wherein a conductive fiber is produced by forming a sintered metal film.
前記耐熱性繊維は、ガラス繊維であることを特徴とする導電性繊維の製造方法。 In the manufacturing method of the electroconductive fiber of Claim 1,
The method for producing a conductive fiber, wherein the heat resistant fiber is a glass fiber.
前記導電性微粒子は、インジウムとスズの合金微粒子であることを特徴とする導電性繊
維の製造方法。 In the manufacturing method of the electroconductive fiber of Claim 1 or 2,
The method for producing a conductive fiber, wherein the conductive fine particles are alloy fine particles of indium and tin.
前記導電性材料液を塗布した耐熱性繊維は、大気圧状態で、２００℃〜３００℃の範囲
で焼成することを特徴とする導電性繊維の製造方法。 In the manufacturing method of the electroconductive fiber of any one of Claims 1-3,
The method for producing a conductive fiber, wherein the heat-resistant fiber to which the conductive material liquid is applied is fired at 200 ° C. to 300 ° C. in an atmospheric pressure state.
前記導電性材料液を塗布した耐熱性繊維は、低圧状態で乾燥した後に、大気圧状態で、
２００℃〜３００℃の範囲で焼成することを特徴とする導電性繊維の製造方法。 In the manufacturing method of the electroconductive fiber of Claim 4,
The heat resistant fiber coated with the conductive material liquid is dried in a low pressure state, then in an atmospheric pressure state,
The manufacturing method of the conductive fiber characterized by baking in the range of 200 to 300 degreeC.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007015935A Withdrawn JP2008179923A (en) | 2007-01-26 | 2007-01-26 | Method for producing electroconductive fiber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008179923A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015002825A1 (en) * | 2013-07-02 | 2015-01-08 | The University Of Connecticut | Electrically conductive synthetic fiber and fibrous substrate, method of making, and use thereof |
| JP2015128824A (en) * | 2014-01-06 | 2015-07-16 | 平岡織染株式会社 | Incombustible film material |
| US10002686B2 (en) | 2014-03-12 | 2018-06-19 | The University Of Connecticut | Method of infusing fibrous substrate with conductive organic particles and conductive polymer; and conductive fibrous substrates prepared therefrom |
| US10003126B2 (en) | 2015-04-23 | 2018-06-19 | The University Of Connecticut | Stretchable organic metals, composition, and use |
| US10005914B2 (en) | 2015-04-23 | 2018-06-26 | The University Of Connecticut | Highly conductive polymer film compositions from nanoparticle induced phase segregation of counterion templates from conducting polymers |
| US11043728B2 (en) | 2018-04-24 | 2021-06-22 | University Of Connecticut | Flexible fabric antenna system comprising conductive polymers and method of making same |
-
2007
- 2007-01-26 JP JP2007015935A patent/JP2008179923A/en not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015002825A1 (en) * | 2013-07-02 | 2015-01-08 | The University Of Connecticut | Electrically conductive synthetic fiber and fibrous substrate, method of making, and use thereof |
| JP2015128824A (en) * | 2014-01-06 | 2015-07-16 | 平岡織染株式会社 | Incombustible film material |
| US10002686B2 (en) | 2014-03-12 | 2018-06-19 | The University Of Connecticut | Method of infusing fibrous substrate with conductive organic particles and conductive polymer; and conductive fibrous substrates prepared therefrom |
| US10003126B2 (en) | 2015-04-23 | 2018-06-19 | The University Of Connecticut | Stretchable organic metals, composition, and use |
| US10005914B2 (en) | 2015-04-23 | 2018-06-26 | The University Of Connecticut | Highly conductive polymer film compositions from nanoparticle induced phase segregation of counterion templates from conducting polymers |
| US11043728B2 (en) | 2018-04-24 | 2021-06-22 | University Of Connecticut | Flexible fabric antenna system comprising conductive polymers and method of making same |
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