JP2003045722A - Inductor and integrated circuit using the same - Google Patents

Inductor and integrated circuit using the same

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JP2003045722A
JP2003045722A JP2001234143A JP2001234143A JP2003045722A JP 2003045722 A JP2003045722 A JP 2003045722A JP 2001234143 A JP2001234143 A JP 2001234143A JP 2001234143 A JP2001234143 A JP 2001234143A JP 2003045722 A JP2003045722 A JP 2003045722A
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conductor
inductor element
conductors
inductor
integrated circuit
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Yukio Iida
幸生 飯田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inductor which is reduced in high-frequency resistance so as to have improved Q-value. SOLUTION: A first conductor 11 and a second conductor 12 are kept in parallel with each other in a plane direction and spirally coiled in the same plane for the formation of an inductor. In this case, the first conductor 11 and the second conductor 12 are made to cross each other at a prescribed position, so as to replace their positions with each other, by which the first conductor 11 and second conductor 12 are set nearly equal to each other in length, and the inductor having a small loss and a high Q-value is formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、移動体
通信機器などの電子機器で使用する集積回路に搭載され
る平面上に形成するインダクタ素子、および、このイン
ダクタ素子を用いた集積回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inductor element formed on a plane mounted on an integrated circuit used in electronic equipment such as mobile communication equipment, and an integrated circuit using the inductor element.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路内に平面上のインダクタ
素子を形成して、目的とする回路を構成するようにする
ことが行なわれるようになってきている。例えば、図1
1に示す半導体集積回路として形成される増幅器100
の場合には、この増幅器100の一部を構成する整合回
路101、102には、インダクタ素子103、104
が搭載するようにされている。
2. Description of the Related Art It has been practiced to form a planar inductor element in a semiconductor integrated circuit to form a desired circuit. For example, in FIG.
Amplifier 100 formed as a semiconductor integrated circuit shown in FIG.
In this case, the matching circuits 101 and 102 forming a part of the amplifier 100 include inductor elements 103 and 104.
Is installed.

【0003】整合回路101、102に用いられるイン
ダクタ素子103、104は、増幅器100の特性を良
好に保ち、また、消費電力が大きくなることが無いよう
にするためには、損失が少ないものでなければならな
い。すなわち、インダクタ素子103、104は、いわ
ゆるQ値の高いものでなければならない。
The inductor elements 103 and 104 used in the matching circuits 101 and 102 must have a small loss in order to keep the characteristics of the amplifier 100 good and to prevent the power consumption from increasing. I have to. That is, the inductor elements 103 and 104 must have a so-called high Q value.

【0004】このような半導体集積回路に用いられるイ
ンダクタ素子としては、例えば、特開2000−357
774号特許公開公報に開示されたものがある。当該特
許公開公報に開示されたインダクタ素子は、例えば、図
12に示すように、基板上において、平面方向に平行な
導体111、112を配置して形成したものであり、端
子部114と端子部115において2本の導体が1本に
まとめられて形成されたものである。
An inductor element used in such a semiconductor integrated circuit is, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-357.
There is one disclosed in Japanese Patent Publication No. 774. The inductor element disclosed in the patent publication is formed by arranging conductors 111 and 112 parallel to a plane direction on a substrate as shown in FIG. In 115, two conductors are formed into one.

【0005】この図12に示すインダクタ素子は、導体
に流れる高周波電流の電流密度が、導体の端部で高くな
る表皮効果に着目し、例えば、2本の導体111、11
2を用いるというように、複数の導体を用いることで、
導体の高周波抵抗を低減することができるようにしたも
のである。すなわち、複数の導体を用いることにより、
導体の高周波抵抗を少なくなるようにするという効果を
奏するものである。
In the inductor element shown in FIG. 12, paying attention to the skin effect in which the current density of the high-frequency current flowing in the conductor becomes high at the end of the conductor, for example, two conductors 111 and 11 are used.
By using multiple conductors, such as using 2,
The high frequency resistance of the conductor can be reduced. That is, by using multiple conductors,
This has the effect of reducing the high frequency resistance of the conductor.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、図12に示
したように、平面方向に平行な複数の導体を例えば螺旋
状に巻回することにより(同じ向きに何度も曲げるよう
にして)インダクタ素子を形成した場合、内側に位置す
るようにされた導体よりも、外側に位置するようにされ
た導体の方が長くなる。導体の長さが長い分、外側に位
置する導体の高周波抵抗が高くなり、外側の導体である
第1導体111に流れる電流は減少する。
However, as shown in FIG. 12, an inductor is formed by winding a plurality of conductors parallel to the plane direction in a spiral shape (bending in the same direction many times). When the element is formed, the conductors located on the outside are longer than the conductors located on the inside. The longer the conductor is, the higher the high frequency resistance of the conductor located outside becomes, and the current flowing through the first conductor 111, which is the outer conductor, decreases.

【0007】図12に示したインダクタ素子についての
電磁界解析シミュレーションの結果を図13に示す。図
13において、第1導体111上、および、第2導体1
12上にある小さな矢印の長さが、電流密度を表してい
る。
FIG. 13 shows the result of the electromagnetic field analysis simulation for the inductor element shown in FIG. In FIG. 13, on the first conductor 111 and the second conductor 1
The length of the small arrow above 12 represents the current density.

【0008】この図13に示したように、外側の導体で
ある第1導体111上に示した電流密度を示す矢印の長
さは、隣接する内側の導体である第2導体112上に示
した電流密度を示す矢印よりも短くなっている部分が多
く、第1導体に流れる電流は、第2導体に流れる電流に
比べて少ないことが分かる。
As shown in FIG. 13, the length of the arrow indicating the current density on the first conductor 111 which is the outer conductor is shown on the second conductor 112 which is the inner conductor adjacent to the first conductor 111. It can be seen that there are many portions that are shorter than the arrow indicating the current density, and the current flowing through the first conductor is smaller than the current flowing through the second conductor.

【0009】したがって、図12、図13に示したイン
ダクタ素子の場合には、2本の導体を用いているにも拘
わらず、高周波抵抗の低減効果を十分に発揮できず、結
果として、当該インダクタ素子を用いた集積回路の消費
電力が大きくなってしまうなどの問題が生じる場合あ
る。
Therefore, in the case of the inductor element shown in FIGS. 12 and 13, although the two conductors are used, the effect of reducing the high frequency resistance cannot be sufficiently exerted, and as a result, the inductor is There may be a problem such as an increase in power consumption of an integrated circuit using elements.

【0010】以上のことにかんがみ、この発明は、上記
問題点を一掃し、高周波抵抗を低減させ、損失が少な
く、いわゆるQ値を良好にしたインダクタ素子、およ
び、このインダクタ素子を用いて形成する集積回路を提
供することを目的とする。
In view of the above, the present invention eliminates the above-mentioned problems, reduces the high frequency resistance, has a small loss, and an inductor element having a good so-called Q value, and is formed using this inductor element. It is an object to provide an integrated circuit.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1に記載の発明のインダクタ素子は、基板上
において、平面方向に平行な状態を保つようにした複数
本の導体を、螺旋状に平面内で巻回させるようにして形
成し、前記複数本の導体のそれぞれに同相の高周波電流
を流して高周波線路として用いるようにするインダクタ
素子であって、所定位置において前記複数本の導体のそ
れぞれを交差させることにより、前記複数本の導体の内
側と外側の位置を入れ換えるようにする少なくとも1箇
所以上の交差部を設けることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, an inductor element according to a first aspect of the present invention has a structure in which a plurality of conductors arranged on a substrate are kept in parallel with each other in a plane direction. An inductor element that is formed by winding a plurality of conductors in a plane shape and applies a high-frequency current of the same phase to each of the plurality of conductors to be used as a high-frequency line. It is characterized in that at least one crossing portion is provided so that the inner and outer positions of the plurality of conductors are interchanged by intersecting each of these.

【0012】この請求項1に記載の発明のインダクタ素
子によれば、平面にインダクタ素子を形成する場合に
は、平行に配置するようにされる複数本の導体を例えば
平面内において巻回して形成するなどするために、平行
に配置するようにされる複数本の導体の長さが結果的に
異なってしまう。
According to the inductor element of the invention described in claim 1, when the inductor element is formed on a plane, a plurality of conductors arranged in parallel are formed by winding in a plane, for example. As a result, the lengths of the plurality of conductors arranged in parallel are different from each other.

【0013】このため、平行に配置するようにされる複
数本の導体について、所定の位置で外側の導体と内側の
導体とを交差させる交差部を設け、導体の位置を途中で
入れ換えることにより、各導体の長さが同じ長さに近づ
くようにしてインダクタ素子が形成される。
Therefore, with respect to a plurality of conductors arranged in parallel, by providing a crossing portion for intersecting the outer conductor and the inner conductor at a predetermined position, and changing the positions of the conductors on the way, The inductor element is formed such that the lengths of the conductors approach the same length.

【0014】これにより、複数本の導体それぞれの抵抗
値を近づけ、複数本の導体のそれぞれに流れる電流の電
流密度をできるだけ均一になるようにすることができ
る。このように、複数本の導体に流れる電流の電流密度
をできるだけ均一になるようにすることにより、損失が
少なく、いわゆるQ値の高い、特性のよいインダクタ素
子を実現することができる。
This makes it possible to bring the resistance values of the plurality of conductors close to each other and to make the current density of the current flowing through each of the plurality of conductors as uniform as possible. In this way, by making the current density of the currents flowing through the plurality of conductors as uniform as possible, it is possible to realize an inductor element with low loss and high so-called Q value and good characteristics.

【0015】また、請求項2に記載の発明のインダクタ
素子は、請求項1に記載のインダクタ素子であって、当
該インダクタ素子は、対称形に形成されるものであり、
当該インダクタ素子の対称形を保つ位置に前記交差部を
設けることを特徴とする。
An inductor element according to a second aspect of the present invention is the inductor element according to the first aspect, wherein the inductor element is symmetrically formed.
It is characterized in that the intersecting portion is provided at a position that maintains the symmetrical shape of the inductor element.

【0016】この請求項2に記載の発明のインダクタ素
子によれば、各種の差動回路などにおいては、対称形の
インダクタ素子が要求されるが、対称形のインダクタ素
子を形成する場合であっても、外側の導体と内側の導体
とを入れ換える交差部を設けることにより、外側の導体
と内側の導体との長さが近くなるようにする。このと
き、交差部を設けることにより、インダクタ素子の対称
形が損なわれることが無いように、対称形を保つ位置に
交差部を設けるようにする。
According to the inductor element of the present invention as defined in claim 2, a symmetrical inductor element is required in various differential circuits and the like, but in the case of forming a symmetrical inductor element, Also, by providing a crossing portion for exchanging the outer conductor and the inner conductor, the lengths of the outer conductor and the inner conductor are made close to each other. At this time, by providing the intersecting portion, the intersecting portion is provided at a position where the symmetrical shape is maintained so that the symmetrical shape of the inductor element is not damaged.

【0017】これにより、対称形を保ちながら、外側の
導体と内側の導体の長さを近づけ、外側の導体と内側の
導体の電流密度が均一に近づくようにし、Q値が高く、
対称形を保ったインダクタ素子を構成することができる
ようにされる。
As a result, the lengths of the outer conductor and the inner conductor are made closer to each other while maintaining the symmetry so that the current densities of the outer conductor and the inner conductor become closer to each other, and the Q value is high.
It is made possible to form an inductor element that maintains a symmetrical shape.

【0018】また、請求項3に記載の発明の集積回路
は、基板上において、平面方向に平行な状態を保つよう
にした複数本の導体を、螺旋状に平面内で巻回させるよ
うにして形成し、前記複数本の導体のそれぞれに同相の
高周波電流を流して高周波線路として用いるようにする
インダクタ素子を用いた集積回路であって、前記インダ
クタ素子は、所定の位置において前記複数本の導体のそ
れぞれを交差させることにより、前記複数本の導体の内
側と外側の位置を入れ換える少なくとも1箇所以上の交
差部を設けるようにしたものであることを特徴とする。
Further, in the integrated circuit of the invention described in claim 3, a plurality of conductors which are kept parallel to the plane direction are spirally wound on the substrate in the plane. An integrated circuit using an inductor element, wherein the inductor element is formed so that high-frequency currents of the same phase are applied to each of the plurality of conductors to be used as a high-frequency line, wherein the inductor element has the plurality of conductors at predetermined positions. By intersecting each of the conductors, at least one intersecting portion that interchanges the inner and outer positions of the plurality of conductors is provided.

【0019】この請求項3に記載の集積回路によれば、
当該集積回路に用いられるインダクタ素子は、平面内に
おいて平行に配置するようにされ、例えば螺旋状に巻回
するようにされる複数本の導体を所定の位置で交差させ
る交差部を設けることにより、外側に位置する導体と、
内側に位置する導体との位置を入れ換え、複数の導体の
長さが近づくように考慮したものである。
According to the integrated circuit of the third aspect,
Inductor elements used in the integrated circuit are arranged in parallel in a plane, for example, by providing a crossing portion that crosses a plurality of conductors that are spirally wound at a predetermined position, A conductor located outside,
The positions of the conductors located inside are replaced with each other, and the lengths of the plurality of conductors are considered to be close to each other.

【0020】このようにすることにより、インダクタ素
子を構成する複数本の導体の抵抗値を近づけ、電流密度
が均一で、損失が少なく、Q値の高いものにすることに
よって、流す電流が少なくても、目的に合致した特性の
よい集積回路を実現することができる。
By doing so, the resistance values of the plurality of conductors forming the inductor element are brought close to each other, the current density is uniform, the loss is small, and the Q value is high, so that the current flowing is small. Also, it is possible to realize an integrated circuit having good characteristics that meets the purpose.

【0021】また、請求項4に記載の発明の集積回路
は、請求項3に記載の集積回路であって、前記インダク
タ素子は、対称形に形成されるものであり、対称形を保
つ位置に前記交差部を設けるようにしたものであること
を特徴とする。
An integrated circuit according to a fourth aspect of the present invention is the integrated circuit according to the third aspect, wherein the inductor elements are formed symmetrically, and the inductor elements are arranged at positions that maintain the symmetrical shape. It is characterized in that the intersection is provided.

【0022】この請求項4に記載の発明の集積回路は、
例えば、差動回路などの対称形の要求されるものであ
り、これに搭載されるインダクタ素子についても対称形
が要求される。このため、集積回路に搭載するインダク
タ素子も対称形となるように形成するが、完全な対称形
を維持するために、平行に配置するようにされる複数本
の導体を交差させる交差部についても対称となる位置に
設けるようにする。
The integrated circuit of the invention described in claim 4 is
For example, a symmetrical type is required such as a differential circuit, and an inductor element mounted therein is also required to be symmetrical. Therefore, the inductor element mounted on the integrated circuit is also formed to have a symmetrical shape, but in order to maintain the perfect symmetrical shape, the crossing portion that crosses a plurality of conductors arranged in parallel is also formed. It should be installed at symmetrical positions.

【0023】これにより、差動回路などの対称形の集積
回路にも、損失が少なく、Q値の高いインダクタ素子を
用い、流す電流が少なくても、目的に合致した高特性の
集積回路を実現することができる。
As a result, even in a symmetrical integrated circuit such as a differential circuit, an inductor element having a small loss and a high Q value is used, and an integrated circuit having a high characteristic that meets the purpose is realized even if a small amount of current flows. can do.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、この発
明による平面上に形成するようにするインダクタ素子、
および、インダクタ素子を用いた集積回路の一実施の形
態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, with reference to the drawings, an inductor element to be formed on a plane according to the present invention,
Also, an embodiment of an integrated circuit using an inductor element will be described.

【0025】[第1の実施の形態]図1は、この実施の
形態のインダクタ素子10を説明するための平面図であ
る。図1に示すように、この第1の実施の形態のインダ
クタ素子10は、第1導体11と、第2導体12とを平
面方向に平行に配置するようにし、これを平面内におい
て螺旋状に巻回させて形成するものである。
[First Embodiment] FIG. 1 is a plan view for explaining an inductor element 10 according to this embodiment. As shown in FIG. 1, in the inductor element 10 of the first embodiment, a first conductor 11 and a second conductor 12 are arranged in parallel to each other in a plane direction, and the first conductor 11 and the second conductor 12 are spirally arranged in a plane. It is formed by winding.

【0026】そして、図1に示すように、インダクタ素
子10は、交差部13において、第1導体11と第2導
体12とを交差させ、その位置を入れ換え、外側の第1
導体11を内側に、内側の第2導体を外側にすることに
より、第1導体11と第2導体12の長さが近くなるよ
うにしている。また、図1に示すように、第1導体11
と第2導体12とは、第1端子部14および第2端子部
15において一本にまとめた構成としている。
As shown in FIG. 1, in the inductor element 10, the first conductor 11 and the second conductor 12 are crossed at the crossing portion 13, the positions thereof are exchanged, and the outer first
By making the conductor 11 inside and the inside second conductor outside, the lengths of the first conductor 11 and the second conductor 12 are made close to each other. In addition, as shown in FIG.
The second conductor 12 and the second conductor 12 are integrated in the first terminal portion 14 and the second terminal portion 15.

【0027】図2は、この実施の形態のインダクタ素子
10の交差部13付近を拡大して示した図である。この
第1の実施の形態においては、図2に示すように、第2
導体12が、VIA(ビア)16、17と、下層の導体
18によって第1導体11をジャンプするように立体交
差することによって、第1導体11と第2導体12とが
位置を入れ換えるようにしている。
FIG. 2 is an enlarged view showing the vicinity of the intersection 13 of the inductor element 10 of this embodiment. In the first embodiment, as shown in FIG.
Since the conductor 12 crosses the VIA (via) 16 and 17 and the conductor 18 in the lower layer so as to jump over the first conductor 11, the positions of the first conductor 11 and the second conductor 12 are switched. There is.

【0028】交差部13部分の構造について、図3を用
いてさらに説明する。図3は、図2において点線aが示
す位置でインダクタ素子10を切断した場合の切断面を
示す図である。図2において点線aが示すように斜めの
位置でインダクタ素子10を切断するようにしたため
に、第1導体11、第2導体12の横幅が異なっている
ように見えるが、第1導体11と第2導体12とは、
幅、厚さとも同じものである。
The structure of the intersection 13 will be further described with reference to FIG. FIG. 3 is a view showing a cut surface when the inductor element 10 is cut at the position indicated by the dotted line a in FIG. Since the inductor element 10 is cut at an oblique position as indicated by the dotted line a in FIG. 2, the first conductor 11 and the second conductor 12 appear to have different lateral widths. 2 conductor 12
The width and thickness are the same.

【0029】そして、図3に示すように、第1導体11
と第2導体12とは、絶縁体である第2の層間膜32の
上に形成され、その表面は表面保護膜31で覆われてい
る。第2の導体12と下層のジャンプ用の導体18との
間は、導電性のVIA16とVIA17とによって接続
するようにしている。下層の導体18は、第1の層間膜
33によってシリコン基板から絶縁するようにしてい
る。
Then, as shown in FIG. 3, the first conductor 11
The second conductor 12 and the second conductor 12 are formed on the second interlayer film 32, which is an insulator, and the surface thereof is covered with the surface protective film 31. The second conductor 12 and the lower jump conductor 18 are connected by conductive VIAs 16 and VIAs 17. The lower layer conductor 18 is insulated from the silicon substrate by the first interlayer film 33.

【0030】ここで、各部分の材料についてまとめてお
く。この第1の実施の形態において、第1導体11、第
2導体12、および、下層の導体18は、例えば、Al
(アルミニューム)、Al−Cu(アルミニュームと
銅)、Al−Si−Cu(アルミニュームとシリコンと
銅)などの合金層にTi/TiN(チタン/窒化チタ
ン)の拡散バリア層を上下に積層したAl配線からなる
ものである。
Here, the materials of the respective parts will be summarized. In the first embodiment, the first conductor 11, the second conductor 12, and the lower conductor 18 are made of, for example, Al.
(Aluminum), Al-Cu (aluminum and copper), Al-Si-Cu (aluminum, silicon and copper) and other alloy layers are laminated with Ti / TiN (titanium / titanium nitride) diffusion barrier layers one above the other. It is made of Al wiring.

【0031】また、VIA16、VIA17は、例えば
AlまたはW(タングステン)の周囲をTiNの拡散バ
リアで覆ったビアプラグであり、前述したように、導体
層間を電気的に接続する。第1の層間膜33、第2の層
間膜32は、例えば酸化シリコンの絶縁膜からなる。表
面保護膜31は、例えばPSG(Phosphosil
icate Glass)膜からなるものである。ま
た、シリコン基板34は、例えばP型シリコン基板であ
る。
The VIA 16 and VIA 17 are via plugs in which the periphery of Al or W (tungsten) is covered with a diffusion barrier of TiN, for example, and electrically connect the conductor layers as described above. The first interlayer film 33 and the second interlayer film 32 are, for example, insulating films of silicon oxide. The surface protective film 31 is formed of, for example, PSG (Phosphosil).
Icate Glass) film. The silicon substrate 34 is, for example, a P-type silicon substrate.

【0032】そして、交差部13を設けることにより、
第1導体11と第2導体12との平面方向における位置
を入れ換えて、第1導体11と第2導体12との長さを
近づけるようにしたインダクタ素子10に高周波電流を
流したときの第1導体11、第2導体12における高周
波電流密度を電磁界シミュレーションで求めた結果を図
4に示す。
By providing the intersection 13,
When the high-frequency current is passed through the inductor element 10 in which the positions of the first conductor 11 and the second conductor 12 in the plane direction are switched so that the lengths of the first conductor 11 and the second conductor 12 are close to each other, The result of having obtained the high frequency current density in the conductor 11 and the 2nd conductor 12 by the electromagnetic field simulation is shown in FIG.

【0033】この図4の場合にも、導体上の矢印の長さ
が電流密度を示している。そして、この図4と、交差部
を設けていない従来のインダクタ素子についての電磁界
シミュレーションの結果を示す図12とを比較すると明
らかなように、図4に示したこの第1の実施の形態のイ
ンダクタ素子10の方が、隣り合う導体同士、すなわ
ち、第1導体11と第2導体12との電流密度の差が少
なくなっている。
Also in the case of FIG. 4, the length of the arrow on the conductor indicates the current density. As is apparent from comparison between FIG. 4 and FIG. 12 showing the result of the electromagnetic field simulation for the conventional inductor element having no crossing portion, as is apparent from the first embodiment shown in FIG. The inductor element 10 has a smaller difference in current density between the adjacent conductors, that is, the first conductor 11 and the second conductor 12.

【0034】このように、交差部13を設け、第1導体
11と第2導体12とを交差させて位置を入れ換えるこ
とにより、第1導体11と第2導体12との長さを近づ
けるようにすることによって、高周波抵抗を低減させ、
損失が少なく、Q値の高いインダクタ素子を実現するこ
とができる。
As described above, by providing the crossing portion 13 and crossing the first conductor 11 and the second conductor 12 and switching the positions, the lengths of the first conductor 11 and the second conductor 12 are made closer to each other. By reducing the high frequency resistance,
It is possible to realize an inductor element with a small loss and a high Q value.

【0035】[第2の実施の形態]図5は、この第2の
実施の形態のインダクタ素子20を説明するための平面
図である。この第2の実施の形態のインダクタ素子もま
た、第1の実施の形態のインダクタ素子の場合と同様
に、平面上に形成するようにしたものである。
[Second Embodiment] FIG. 5 is a plan view for explaining an inductor element 20 according to the second embodiment. The inductor element according to the second embodiment is also formed on a plane as in the case of the inductor element according to the first embodiment.

【0036】そして、この第2の実施の形態のインダク
タ素子20は、図5に示すように、点線bを基準とし
て、図5において点線bの上側部分と、点線bの下側部
分とが対称となるように形成したいわゆる対称形のもの
である。シリコン基板を用いた半導体集積回路では、2
つの同じ特性をもったトランジスタなどの回路素子を対
対称的に配置して構成するいわゆる差動回路が用いられ
ることが多いため、図5に示すような対称形のインダク
タ素子が必要になるのである。
In the inductor element 20 of the second embodiment, as shown in FIG. 5, the upper part of the dotted line b and the lower part of the dotted line b in FIG. 5 are symmetrical with respect to the dotted line b. It is a so-called symmetrical type formed so that. In semiconductor integrated circuits using silicon substrates, 2
Since a so-called differential circuit is often used in which circuit elements such as transistors having the same characteristics are arranged symmetrically with respect to each other, a symmetrical inductor element as shown in FIG. 5 is required. .

【0037】この第2の実施の形態の対称形インダクタ
素子20は、前述した第1の実施の形態のインダクタ素
子10の場合と同様に、第1導体21と第2導体22と
の2本の導体を平行に配置するようにし、これを平面内
において巻回させるようにして形成したものである。ま
た、第1導体21と第2導体22とは第1端子部23、
第2端子部24において、1本にまとめた構成としてい
る。
The symmetrical inductor element 20 of the second embodiment has two conductors, a first conductor 21 and a second conductor 22, as in the case of the inductor element 10 of the first embodiment described above. The conductors are arranged in parallel and wound in a plane. In addition, the first conductor 21 and the second conductor 22 are the first terminal portion 23,
The second terminal portion 24 has a single integrated structure.

【0038】そして、対称形とするために、第1端子部
23と、第2端子部24とは、同一方向に設ける構成と
しているので、点線b上において、導体が交差する部分
が生じてしまうことになる。この部分について説明する
と、第1端子部23からの2本の導体と、第2端子部2
4からの2本の導体が交差する部分であり、第1の実施
の形態の交差部13のように第1導体と第2導体とが交
差する部分ではない。
Since the first terminal portion 23 and the second terminal portion 24 are arranged in the same direction in order to make them symmetrical, a portion where the conductors intersect on the dotted line b occurs. It will be. Explaining this part, the two conductors from the first terminal portion 23 and the second terminal portion 2
It is a portion where the two conductors from 4 intersect, and is not a portion where the first conductor and the second conductor intersect, unlike the intersection portion 13 of the first embodiment.

【0039】このように、図5における点線b上の導体
が交差する部分は、導体を巻回することにより必然的に
生じる部分である。そして、このように、図5における
点線b上の導体が交差する部分が生じても、結果とし
て、図1に示した第1の実施の形態のインダクタ素子1
0と同様に、この第2の実施の形態のインダクタ素子2
0もまた導体を螺旋状に巻回させることにより形成した
ものであるといえる。
As described above, the portion where the conductors on the dotted line b in FIG. 5 intersect is a portion inevitably produced by winding the conductors. Then, even if there is a portion where the conductors on the dotted line b in FIG. 5 intersect in this way, as a result, the inductor element 1 of the first embodiment shown in FIG.
Like 0, the inductor element 2 of the second embodiment
It can be said that 0 is also formed by spirally winding a conductor.

【0040】すなわち、この第2の実施の形態のインダ
クタ素子20と、図1に示した第1の実施の形態のイン
ダクタ素子10とは、導体の巻き数、および、対称形か
否かの違いはあるもののほぼ同様に螺旋状に形成したも
のである。
That is, the inductor element 20 according to the second embodiment and the inductor element 10 according to the first embodiment shown in FIG. 1 differ in the number of turns of the conductor and whether or not they are symmetrical. Although there are some, they are formed in a spiral shape in almost the same manner.

【0041】そして、この第2の実施の形態のインダク
タ素子20の場合には、第1導体21と、第2導体22
とを交差させ、第1導体と第2導体との位置を入れ換え
るようにする4箇所の交差部25、26、27、28を
設けている。
In the case of the inductor element 20 of the second embodiment, the first conductor 21 and the second conductor 22 are included.
Are crossed so that the positions of the first conductor and the second conductor are interchanged, and four intersections 25, 26, 27, 28 are provided.

【0042】この交差部25、26、27、28は、2
本ずつの導体がともに交差する点線b上の交差とは異な
るものであり、第1導体と第2導体とを交差させること
により、第1導体と第2導体の位置を入れ換えることに
より(外側の導体と内側の導体を入れ換えることによ
り)、第1導体21と第2導体22との長さを近づける
ようにするためのものである。
The intersections 25, 26, 27, 28 are 2
This is different from the intersection on the dotted line b where the conductors of each of them intersect with each other. By intersecting the first conductor and the second conductor, the positions of the first conductor and the second conductor are exchanged ( This is for making the lengths of the first conductor 21 and the second conductor 22 close to each other by exchanging the conductor and the inner conductor.

【0043】すなわち、交差部25、26、27、28
は、図2、図3を用いて前述した第1の実施の形態のイ
ンダクタ素子10の交差部13と同様に、第1導体21
と第2導体22とのうち、一方の導体が他方の導体をジ
ャンプするようにして立体交差するようにした部分であ
る。
That is, the intersections 25, 26, 27, 28
Is similar to the crossing portion 13 of the inductor element 10 of the first embodiment described above with reference to FIGS.
Of the second conductor 22 and the second conductor 22, one conductor jumps over the other conductor so that the conductor crosses three-dimensionally.

【0044】なお、この第2の実施の形態のインダクタ
素子20の場合には、対称形を保つように交差部25、
26、27、28を設けている。図5に示すインダクタ
素子20の場合には、点線bを基準として、点線bの上
側部分と、点線bの下側部分とが対称となるようにして
いるので、点線bの上側部分の交差部25と、点線bの
下側部分の交差部28とを対称となる位置に設けてい
る。同様に、点線bの上側部分の交差部26と、点線b
の下側部分の交差部27とを対称となる位置に設けてい
る。
In the case of the inductor element 20 according to the second embodiment, the intersection 25,
26, 27 and 28 are provided. In the case of the inductor element 20 shown in FIG. 5, since the upper part of the dotted line b and the lower part of the dotted line b are symmetrical with respect to the dotted line b, the intersection of the upper part of the dotted line b. 25 and the intersection 28 of the lower part of the dotted line b are provided at symmetrical positions. Similarly, the intersection 26 of the upper part of the dotted line b and the dotted line b
The intersecting portion 27 of the lower portion is provided at a position symmetrical with the intersecting portion 27.

【0045】図6は、図5に示したように、第1導体と
第2導体とを交差させた交差部25、26、27、28
を設けたこの第2の実施の形態の対称形インダクタ素子
20に高周波電流を流したときの高周波電流密度の様子
を示す図である。また、図7は、平行に配置される隣り
合う2本の導体の交差部を有さない対称形インダクタ素
子に高周波電流を流したときの高周波電流密度の様子を
示す図である。図6、図7において、導体の色の濃淡が
電流密度を示している。
In FIG. 6, as shown in FIG. 5, intersecting portions 25, 26, 27, 28 where the first conductor and the second conductor intersect each other.
It is a figure which shows the mode of a high frequency current density when a high frequency current is sent through the symmetrical inductor element 20 of this 2nd Embodiment provided with. FIG. 7 is a diagram showing a state of high-frequency current density when a high-frequency current is passed through a symmetrical inductor element that does not have an intersection of two adjacent conductors arranged in parallel. In FIGS. 6 and 7, the shade of the conductor color indicates the current density.

【0046】そして、図7の交差部を有さないインダク
タ素子の場合には、外側に位置する導体の色が薄く、内
側に位置する導体の色が濃くなっていることがわかる。
すなわち、図7に示したインダクタ素子の場合には、外
側に位置する導体に流れる電流密度は、内側に流れる電
流密度よりも低いことがわかる。これは、前述もしたよ
うに、外側に位置する導体の方が内側に位置する導体よ
りも長さが長いために、高周波抵抗が大きくなっている
からであり、結果として、このインダクタ素子は、損失
が大きく、Q値の低いものになってしまっている。
In the case of the inductor element having no intersection shown in FIG. 7, it can be seen that the color of the conductor located outside is light and the color of the conductor located inside is dark.
That is, in the case of the inductor element shown in FIG. 7, it is found that the current density flowing through the conductor located outside is lower than the current density flowing inside. This is because the conductor located outside is longer than the conductor located inside, so that the high frequency resistance is large, and as a result, the inductor element is The loss is large and the Q value is low.

【0047】しかし、図6に示すこの第2の実施の形態
のインダクタ素子20の場合には、図7に示したインダ
クタ素子の場合のような明らかな濃淡は現れず、第1導
体21と第2導体22との電流密度の差が小さくなって
いることが確認できる。
However, in the case of the inductor element 20 of the second embodiment shown in FIG. 6, no clear shade appears as in the case of the inductor element shown in FIG. It can be confirmed that the difference in current density from the two conductors 22 is small.

【0048】このことからも分かるように、第1導体2
1と第2導体22とを交差させた交差部25、26、2
7、28を設けた対称形インダクタ素子20の場合にお
いては、第1導体21と第2導体22との長さを近づけ
ることにより、第1導体と第2導体との高周波抵抗を近
づけるようにすることができ、損失が少なく、Q値の高
い対称形インダクタ素子を実現することができる。
As can be seen from this, the first conductor 2
Intersections 25, 26, 2 in which 1 and the second conductor 22 are intersected
In the case of the symmetrical inductor element 20 provided with 7, 28, by making the lengths of the first conductor 21 and the second conductor 22 close to each other, the high frequency resistances of the first conductor and the second conductor are made close to each other. Therefore, it is possible to realize a symmetrical inductor element having a high loss and a small loss.

【0049】次ぎに、図6に示した隣り合う導体同士の
交差部を有するこの発明によるインダクタ素子と、図7
に示した隣り合う導体同士の交差部を有さないインダク
タ素子との差動Q値について説明する。ここで、差動Q
値は、回路インピーダンスを差動信号で測定した場合の
Q値であり、一般的なベクトルネットワークアナライザ
で測定するような単相信号で測定した場合のQ値とは異
なるものである。
Next, the inductor element according to the present invention having the intersections of the adjacent conductors shown in FIG. 6 and FIG.
The differential Q value with respect to the inductor element having no intersection between the adjacent conductors shown in FIG. Where differential Q
The value is a Q value when the circuit impedance is measured by a differential signal, and is different from the Q value when measured by a single-phase signal as measured by a general vector network analyzer.

【0050】例えば、単相の2ポートインピーダンスか
ら差動Q値(Qdiff)を求める計算式は、図8に示
す式によって求めることができる。図9は、交差部を有
する本発明によるインダクタ素子の差動Q値と、交差部
を設けないいわば従来型のインダクタ素子の差動Q値と
をプロットしたグラフである。図9において横軸が周波
数(GHz)、縦軸が差動Q値の値である。
For example, the calculation formula for obtaining the differential Q value (Qdiff) from the single-phase two-port impedance can be obtained by the formula shown in FIG. FIG. 9 is a graph in which the differential Q value of the inductor element according to the present invention having an intersection portion and the differential Q value of a conventional inductor element having no intersection portion are plotted. In FIG. 9, the horizontal axis represents frequency (GHz) and the vertical axis represents the value of the differential Q value.

【0051】また、図9に示すように、○(丸印)でプ
ロットしたグラフが、この発明によるインダクタ素子の
差動Q値であり、×(ばつ印)でプロットしたグラフ
が、交差部を設けないインダクタ素子の差動Q値であ
る。そして、図9に示すように、隣り合う導体同士を交
差させる交差部を設けるこの発明によるインダクタ素子
の差動Q値の方が、交差部を設けないインダクタ素子の
差動Q値よりも約10パーセント高いことが確認でき
る。
Further, as shown in FIG. 9, the graph plotted with ◯ (circles) is the differential Q value of the inductor element according to the present invention, and the graph plotted with × (cross marks) shows the intersections. It is a differential Q value of an inductor element not provided. Then, as shown in FIG. 9, the differential Q value of the inductor element according to the present invention, which is provided with a crossing portion for crossing adjacent conductors, is about 10 times smaller than the differential Q value of the inductor element without the crossing portion. It can be confirmed that the percentage is high.

【0052】このように、複数本の導体を用いてインダ
クタ素子を形成した場合に生じてしまう外側に位置する
導体と、内側に位置する導体との高周波電流の電流差を
小さくし、損失の小さな、Q値の高いインダクタ素子を
形成することができる。
As described above, the current difference between the high frequency current and the high frequency current between the conductor located inside and the conductor located inside when the inductor element is formed using a plurality of conductors is reduced, and the loss is small. , An inductor element having a high Q value can be formed.

【0053】[インダクタ素子を用いた集積回路につい
て]次に、この発明によるインダクタ素子を用いて形成
する集積回路について説明する。まず、図5に示した対
称形インダクタ素子20を用いて形成する集積回路の一
例について説明する。
[Integrated Circuit Using Inductor Element] Next, an integrated circuit formed using the inductor element according to the present invention will be described. First, an example of an integrated circuit formed using the symmetrical inductor element 20 shown in FIG. 5 will be described.

【0054】図10は、対称形インダクタ素子20を用
いて形成することが可能な集積回路の一例である発振回
路40を説明するための回路図である。図10に示すよ
うに、発振回路40は、その構成を回路図で示すと、イ
ンダクタ素子411、412、コンデンサ413からな
る共振部41と、FET(Field−EffectT
ransistor)421、422、電流源423と
からなる負性抵抗部42とを有するものである。
FIG. 10 is a circuit diagram for explaining an oscillator circuit 40, which is an example of an integrated circuit that can be formed using the symmetrical inductor element 20. As shown in FIG. 10, the oscillation circuit 40 is shown in a circuit diagram. The resonance circuit 41 includes inductor elements 411 and 412 and a capacitor 413, and an FET (Field-EffectT).
and a negative resistance portion 42 including a current source 423.

【0055】そして、図10において、共振部41の2
つのインダクタ素子411、412が示す部分に、1つ
の対称形インダクタ素子20を用いるようにする。この
ように対称形インダクタ素子を用いた場合、用いた対称
形インダクタ素子のQ値が低い場合には、電流が流れ難
く、損失が大きくなるために、損失を補う負性抵抗が必
要になるために、多くの電流が必要になる。
Then, in FIG.
One symmetrical inductor element 20 is used in the portion indicated by the two inductor elements 411 and 412. When the symmetrical inductor element is used as described above, when the Q value of the symmetrical inductor element used is low, it is difficult for current to flow and the loss becomes large. Therefore, a negative resistance to compensate the loss is required. In addition, a lot of current is required.

【0056】しかし、この発明による第1導体と第2導
体の交差部25、26、27、28を設けたインダクタ
素子20の場合には、損失が少なく、Q値が高いので、
電流が流れやすく、負性抵抗を小さくする(0(ゼロ)
に近くする)ことができるので、流す電流が少なくて
も、目的とする発振が可能な集積回路を実現することが
できる。
However, in the case of the inductor element 20 provided with the intersections 25, 26, 27 and 28 of the first conductor and the second conductor according to the present invention, the loss is small and the Q value is high,
The current easily flows and the negative resistance is reduced (0 (zero)
Since it is possible to achieve the desired value, it is possible to realize an integrated circuit capable of oscillating as desired even if a small amount of current is passed.

【0057】このように、図10に示した発振回路40
に、この発明によるインダクタ素子を用いるようにした
場合には、流す電流が少なくても、当初の目的を達成可
能な性能のよい(高特性の)発振回路を比較的に容易に
形成することができる。
As described above, the oscillator circuit 40 shown in FIG.
In addition, when the inductor element according to the present invention is used, it is possible to relatively easily form a good-performance (high-characteristic) oscillation circuit that can achieve the original purpose even if a small amount of current flows. it can.

【0058】なお、ここでは、発振回路40に対称形イ
ンダクタ素子を搭載する場合を説明した。しかし、この
発明による対称形インダクタ素子は、発振回路だけでな
く、増幅回路など、各種の差動回路に搭載することがで
きる。そして、どのような差動回路に搭載された場合で
あっても、この発明によるインダクタ素子は、損失が少
なく、Q値が高いので、少ない電流で正確に動作し、所
定の目的を達成することが可能な集積回路を構成するこ
とができる。
Here, the case where the symmetric inductor element is mounted on the oscillation circuit 40 has been described. However, the symmetrical inductor element according to the present invention can be mounted not only on the oscillator circuit but also on various differential circuits such as an amplifier circuit. Since the inductor element according to the present invention has a small loss and a high Q value, the inductor element according to the present invention can be accurately operated with a small amount of current and achieve a predetermined purpose, regardless of the type of the differential circuit. It is possible to configure an integrated circuit capable of

【0059】また、図10に示した発振回路40の場合
には、対称形インダクタ素子を用いるようにした。しか
し、例えば、図11に示した増幅器100の整合回路に
は、対称形インダクタ素子ではなく、図1に示した第1
の実施の形態のインダクタ素子10を用いるようにする
ことができる。
Further, in the case of the oscillation circuit 40 shown in FIG. 10, a symmetrical inductor element is used. However, for example, in the matching circuit of the amplifier 100 shown in FIG. 11, not the symmetrical inductor element but the first circuit shown in FIG.
The inductor element 10 according to the embodiment can be used.

【0060】増幅器100の整合回路にこの発明のイン
ダクタ素子を用いるようにした場合には、整合回路にお
いての損失を小さくすることができる。また、増幅回路
100において、十分な増幅度が得られるとともに、雑
音指数を小さくすることができる。すなわち、高利得で
低雑音の増幅器を構成することができる。
When the inductor element of the present invention is used in the matching circuit of the amplifier 100, the loss in the matching circuit can be reduced. Further, in the amplifier circuit 100, a sufficient amplification degree can be obtained, and the noise figure can be reduced. That is, an amplifier with high gain and low noise can be constructed.

【0061】このように、この発明によるインダクタ素
子を用いることで、従来実現できなかった高特性の集積
回路を容易に形成することができる。
As described above, by using the inductor element according to the present invention, it is possible to easily form an integrated circuit having high characteristics, which could not be realized conventionally.

【0062】なお、前述の第1の実施の形態において
は、第1導体と第2導体とを交差させる交差部を1箇所
設け、第2の実施の形態においては、対称形であるの
で、第1の導体と第2の導体とを交差させる交差部を4
箇所設けるようにした。しかし、これに限るものではな
く、インダクタ素子に応じて、設ける交差部の数や場所
を調整するようにしてもよい。
In the first embodiment described above, one crossing portion is provided at which the first conductor and the second conductor intersect, and in the second embodiment, since it is symmetrical, 4 crossing points that intersect the 1st conductor and the 2nd conductor
I decided to set up some places. However, the present invention is not limited to this, and the number and location of intersections to be provided may be adjusted according to the inductor element.

【0063】しかし、第1導体と第2導体とを交差させ
るために用いるVIA16、17の素材はタングステン
であり、AlやCuなどにより形成する第1、第2の導
体に比べ、抵抗値が大きので、タングステンのVIAを
用いて交差部を作成するようにした場合には、当該イン
ダクタ素子の抵抗値を必要以上に大きくしないようにす
るために、交差部の数は必要最小限にとどめることが望
ましい。
However, the material of the VIAs 16 and 17 used for intersecting the first conductor and the second conductor is tungsten, which has a larger resistance value than the first and second conductors formed of Al, Cu or the like. Therefore, if the VIA of tungsten is used to create the intersection, the number of intersections should be kept to the minimum necessary in order not to increase the resistance value of the inductor element more than necessary. desirable.

【0064】したがって、実際に集積回路に搭載するこ
の発明のインダクタ素子を形成する場合には、形成しよ
うとするインダクタ素子の形状、巻き数、その他の条件
を考慮し、電磁界シミュレーションを行なって、交差部
を設ける位置、設ける交差部の数などを最も適するよう
に決定することにより、所定の目的に使用可能な高品
位、高性能のインダクタ素子を形成することができる。
Therefore, when the inductor element of the present invention to be actually mounted on an integrated circuit is formed, the shape of the inductor element to be formed, the number of turns, and other conditions are taken into consideration to perform an electromagnetic field simulation, By determining the position where the intersecting portion is provided, the number of intersecting portions and the like that are most suitable, it is possible to form a high-quality and high-performance inductor element that can be used for a predetermined purpose.

【0065】また、前述の実施の形態においては、平行
に配置するようにし、かつ、所定の位置において交差す
るようにする導体は、第1導体と第2導体との2本であ
るものとして説明した。しかし、これに限るものではな
い。例えば、平行に配置するようにし、かつ、所定の位
置において交差させるようにする導体は、3本、4本、
…と言うように2本以上の複数本である場合にこの発明
を適用することができる。
Further, in the above-described embodiments, the conductors that are arranged in parallel and intersect at a predetermined position are the first conductor and the second conductor. did. However, it is not limited to this. For example, the conductors that are arranged in parallel and intersect at a predetermined position include three, four,
As described above, the present invention can be applied to the case where the number is two or more.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、外側導体と内側導体の高周波電流の電流差を低減さ
せ、損失の少ない、Q値を向上させたインダクタ素子を
実現することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to realize an inductor element in which the current difference between the high frequency currents of the outer conductor and the inner conductor is reduced, the loss is small, and the Q value is improved. .

【0067】また、この発明によるインダクタ素子を用
いて集積回路を構成することにより、消費電流の少な
い、高性能の集積回路を構成することができる。
By forming an integrated circuit using the inductor element according to the present invention, a high-performance integrated circuit with low current consumption can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のインダクタ素子の一実施の形態を説
明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of an inductor element of the present invention.

【図2】図1に示したインダクタ素子に設けられる交差
部13を説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a crossing portion 13 provided in the inductor element shown in FIG.

【図3】図1に示したインダクタ素子に設けられる交差
部13の構造を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the structure of a crossing portion 13 provided in the inductor element shown in FIG.

【図4】図1に示したインダクタ素子の各導体の電流密
度の測定結果を示す図である。
4 is a diagram showing a measurement result of a current density of each conductor of the inductor element shown in FIG.

【図5】この発明によるインダクタ素子の他の実施の形
態を説明するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining another embodiment of the inductor element according to the present invention.

【図6】図5に示したインダクタ素子の各導体の電流密
度の測定結果を示す図である。
6 is a diagram showing a measurement result of a current density of each conductor of the inductor element shown in FIG.

【図7】隣り合う導体の交差部を設けないインダクタ素
子の各導体の電流密度の測定結果を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing measurement results of current densities of respective conductors of an inductor element in which an intersection of adjacent conductors is not provided.

【図8】差動Q値を算出するための計算式を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a calculation formula for calculating a differential Q value.

【図9】この発明によるインダクタ素子の差動Q値と、
隣り合う導体同士の交差部を有さないインダクタ素子の
差動Q値とを示す図である。
FIG. 9 is a differential Q value of an inductor element according to the present invention,
It is a figure which shows the differential Q value of the inductor element which does not have the crossing part of adjacent conductors.

【図10】この発明によるインダクタ素子を用いて形成
する集積回路の一例を説明するための回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram for explaining an example of an integrated circuit formed by using the inductor element according to the present invention.

【図11】増幅器の構成例を示す回路図である。FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration example of an amplifier.

【図12】従来のインダクタ素子の構成例について説明
するための図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining a configuration example of a conventional inductor element.

【図13】図12に示したインダクタ素子の各導体の電
流密度の測定結果を示す図である。
13 is a diagram showing measurement results of current density of each conductor of the inductor element shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…インダクタ素子、11…第1導体、12…第2導
体、13…交差部、14…第1端子部、15…第2端子
部、16、17…ビア(VIA)、18…導体、31…
表面保護膜、32…第2の層間膜、33…第1の層間
膜、34…シリコン基板、21…第1導体、22…第2
導体、23…第1端子部、24…第2端子部、25、2
6…交差部、27、28…交差部、40…発振回路、4
1…共振部、42…負性抵抗部、411、412…イン
ダクタ素子、423…コンデンサ、421,422…F
ET、423…電流源
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Inductor element, 11 ... 1st conductor, 12 ... 2nd conductor, 13 ... Intersection part, 14 ... 1st terminal part, 15 ... 2nd terminal part, 16, 17 ... Via (VIA), 18 ... Conductor, 31 …
Surface protection film, 32 ... Second interlayer film, 33 ... First interlayer film, 34 ... Silicon substrate, 21 ... First conductor, 22 ... Second
Conductor, 23 ... First terminal portion, 24 ... Second terminal portion, 25, 2
6 ... Intersection, 27, 28 ... Intersection, 40 ... Oscillation circuit, 4
1 ... Resonance part, 42 ... Negative resistance part, 411, 412 ... Inductor element, 423 ... Capacitor, 421, 422 ... F
ET, 423 ... Current source

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上において、平面方向に平行な状態を
保つようにした複数本の導体を、螺旋状に平面内で巻回
させるようにして形成し、前記複数本の導体のそれぞれ
に同相の高周波電流を流して高周波線路として用いるよ
うにするインダクタ素子であって、 所定位置において前記複数本の導体のそれぞれを交差さ
せることにより、前記複数本の導体の内側と外側の位置
を入れ換えるようにする少なくとも1箇所以上の交差部
を設けることを特徴とするインダクタ素子。
1. A plurality of conductors formed on a substrate so as to be kept parallel to the plane direction so as to be spirally wound in a plane, and the same phase is formed on each of the plurality of conductors. The inductor element for flowing a high-frequency current to be used as a high-frequency line, wherein the inside and outside positions of the plurality of conductors are switched by intersecting each of the plurality of conductors at a predetermined position. The inductor element is characterized in that at least one intersection is provided.
【請求項2】請求項1に記載のインダクタ素子であっ
て、 当該インダクタ素子は、対称形に形成されるものであ
り、当該インダクタ素子の対称形を保つ位置に前記交差
部を設けることを特徴とするインダクタ素子。
2. The inductor element according to claim 1, wherein the inductor element is formed symmetrically, and the intersecting portion is provided at a position for keeping the symmetrical shape of the inductor element. And inductor element.
【請求項3】基板上において、平面方向に平行な状態を
保つようにした複数本の導体を、螺旋状に平面内で巻回
させるようにして形成し、前記複数本の導体のそれぞれ
に同相の高周波電流を流して高周波線路として用いるよ
うにするインダクタ素子を用いた集積回路であって、 前記インダクタ素子は、所定の位置において前記複数本
の導体のそれぞれを交差させることにより、前記複数本
の導体の内側と外側の位置を入れ換える少なくとも1箇
所以上の交差部を設けるようにしたものであることを特
徴とする集積回路。
3. A plurality of conductors, which are arranged in a plane parallel to each other on a substrate, are formed so as to be spirally wound in a plane, and the same phase is applied to each of the plurality of conductors. Is an integrated circuit using an inductor element for flowing a high-frequency current to be used as a high-frequency line, wherein the inductor element is formed by intersecting each of the plurality of conductors at a predetermined position. An integrated circuit characterized in that at least one crossing portion is provided so as to switch the positions of the inside and the outside of the conductor.
【請求項4】請求項3に記載の集積回路であって、 前記インダクタ素子は、対称形に形成されるものであ
り、対称形を保つ位置に前記交差部を設けるようにした
ものであることを特徴とする集積回路。
4. The integrated circuit according to claim 3, wherein the inductor element is formed symmetrically, and the intersecting portion is provided at a position maintaining the symmetrical shape. An integrated circuit characterized by.
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